1. 反滲透膜的孔徑極小，一般在 0.1 - 1 納米之間，能夠有效截留大部分有機污染物。無論是大分子有機物，如蛋白質、多糖、微生物產生的胞外聚合物等，還是小分子有機物，如農藥、染料、石油類有機物、有機鹵化物等，都能被大量去除。例如，在工業(yè)廢水處理用于回用制備超純水時，對于廢水中的復雜有機污染物，反滲透法可以去除其中 90% 以上的有機成分，提高了水的純度。反滲透過程不僅對有機污染物有很好的去除效果，還能去除水中的溶解性固體（如鹽類）、膠體、細菌、病毒等雜質。這是因為半透膜的特性使得只有水分子能夠通過，而幾乎所有其他雜質都被截留。在超純水制備過程中，這一特性可以簡化處理流程，減少后續(xù)處理步驟的負擔。例如，在電子工業(yè)的超純水制備中，反滲透可以一次性去除水中的重金屬離子、微生物和有機雜質，為后續(xù)的離子交換和超濾等步驟提供較好的進水水質。超純水的生產能耗較高，節(jié)能技術是發(fā)展方向。甘肅技術密集超純水
雜質含量：原水（如自來水、地表水或地下水）中的雜質種類和含量是影響超純水質量的首要因素。如果原水中含有大量的溶解性固體，包括鈣、鎂、鈉等陽離子和氯、硫酸根等陰離子，會增加后續(xù)處理的難度。例如，原水中高濃度的鈣、鎂離子可能導致在管道和設備中形成水垢，影響設備的運行效率和超純水的質量。此外，原水中的有機物含量也很關鍵，像腐殖酸、富里酸等天然有機物，會在后續(xù)的處理過程中與消毒劑或其他化學藥劑發(fā)生反應，生成副產物，影響超純水的純度。微生物污染：原水中的微生物，如細菌、病毒、藻類等，也是重要的影響因素。微生物的存在可能會在超純水制備系統(tǒng)中繁殖，堵塞過濾器和膜組件，并且其代謝產物還會增加水中的有機物和營養(yǎng)物質含量。例如，細菌在水中生長繁殖會分泌胞外聚合物，這些物質可能會附著在反滲透膜或離子交換樹脂上，降低它們的性能。甘肅超純水項目超純水的生產需控制原水中的硅含量以滿足工藝要求。
清洗前準備，收集反滲透系統(tǒng)運行數(shù)據(jù)，包括進水壓力、產水壓力、產水量、脫鹽率等參數(shù)在一段時間內的變化曲線，以確定膜性能下降的程度和趨勢。對反滲透膜元件進行取樣分析，可采用掃描電子顯微鏡（SEM）觀察膜表面的污染物形態(tài)，通過傅里葉變換紅外光譜（FTIR）分析污染物的化學成分，從而確定主要的污染類型，如無機鹽垢、有機物污染、生物膜污染等。準備清洗設備與藥劑，清洗水箱：選用耐腐蝕、耐酸堿且與清洗液不發(fā)生反應的材質制成的水箱，容量根據(jù)膜組件數(shù)量和清洗液用量確定，一般要保證有足夠的空間容納清洗液并能進行循環(huán)操作，例如，對于一套處理量為 100m/h 的反滲透系統(tǒng)，清洗水箱容量可選擇 5 - 10m。清洗泵：泵的流量和揚程應滿足清洗要求，流量一般為膜組件正常運行流量的 1/3 - 1/2，揚程要能克服膜組件和管道的阻力并提供一定的循環(huán)動力，如選用流量為 30 - 50m/h、揚程為 30 - 50m 的離心泵。
各類科學實驗：在化學實驗、生物實驗、物理實驗等實驗室中，超純水常被用作反應物、溶劑或沖洗用水等。例如，在細胞培養(yǎng)實驗中，需要使用超純水來配制培養(yǎng)基，以避免水中的有機污染物和雜質對細胞生長產生影響；在化學分析實驗中，超純水可作為空白對照或用于配制標準溶液，確保實驗數(shù)據(jù)的準確性和可靠性機械過濾：通常采用石英砂過濾器、活性炭過濾器等，去除原水中的懸浮物、泥沙、鐵銹、膠體等大顆粒雜質和部分有機物，保護后續(xù)的反滲透膜。比如，石英砂過濾器可有效截留 5μm 以上的顆粒物質245.軟化處理：若原水硬度較高，還需進行軟化處理，一般使用軟化樹脂過濾器，去除水中的鈣、鎂離子，防止其在反滲透膜表面結垢，影響膜的性能和壽命4.精密過濾：在進入反滲透系統(tǒng)前，經(jīng)過保安過濾器進行精密過濾，進一步去除水中殘留的微小顆粒雜質，確保進水的 SDI 值滿足反滲透膜的要求，通常要求 SDI 值小于 5，保護反滲透膜不受堵塞23.原子吸收光譜分析用水必須為超純水，避免背景干擾。
連接管道：采用耐酸堿的塑料管道（如 UPVC 或 PVDF）連接清洗水箱、清洗泵和反滲透膜組件，管道直徑根據(jù)流量計算確定，同時要保證連接牢固、無泄漏。化學藥劑，酸性清洗劑：如檸檬酸，純度不低于 99%，用于去除鈣、鎂等無機鹽垢。根據(jù)膜污染程度，將檸檬酸配制成 0.2% - 0.5%（質量分數(shù)）的溶液，例如，對于 5m 的清洗水箱，需稱取 10 - 25kg 檸檬酸，先在少量水中溶解后再加入清洗水箱并補充水至規(guī)定體積。堿性清洗劑：可選用氫氧化鈉，純度不低于 96%，用于去除有機物和生物膜污染。配制成 0.1% - 0.3%（質量分數(shù)）的氫氧化鈉溶液，操作方法同酸性清洗劑配制。氧化劑清洗劑：如過氧化氫（濃度為 30%）或次氯酸鈉（有效氯含量不低于 10%），用于處理生物膜和一些難以氧化的有機物。過氧化氫溶液濃度可配制成 0.1% - 0.3%（體積分數(shù)），次氯酸鈉溶液有效氯濃度控制在 200 - 500ppm，配制時需注意安全，在通風良好的環(huán)境下操作并穿戴防護用品。超純水的儲存與使用過程需防止光照引起水質變化。甘肅超純水項目
超純水的色度幾乎為零，呈現(xiàn)極高的光學純凈度。甘肅技術密集超純水
電子行業(yè) 在半導體制造領域，超純水的應用極為關鍵。芯片制造過程中，從硅片的清洗、光刻、蝕刻到離子注入等各個工序，都需要超純水。例如，在硅片清洗過程中，超純水可以有效去除硅片表面的顆粒、有機物和金屬離子等雜質。因為芯片的線寬非常小，微小的雜質顆粒都可能導致芯片短路或出現(xiàn)性能問題。在光刻工藝中，超純水用于沖洗光刻膠，確保光刻圖案的準確性。其高純度能夠避免水中雜質對光刻膠的溶解特性產生影響，從而保障芯片的高精度制造。 對于電子元器件的生產，如電路板的制作，超純水也不可或缺。它用于清洗電路板，去除焊接過程中產生的助焊劑殘留物、金屬屑等雜質。這些雜質如果殘留在電路板上，可能會引起電路的腐蝕或短路，影響電子產品的可靠性和使用壽命。甘肅技術密集超純水
