吉田半導體水性感光膠 JT-1200：水油兼容，鋼片加工精度 ±5μm
JT-1200 水性感光膠解決鋼片加工難題，提升汽車電子部件制造精度。
針對汽車電子鋼片加工需求，吉田半導體研發(fā)的 JT-1200 水性感光膠實現(xiàn)水油兼容性達 100%，加工精度 ±5μm。其高粘接強度與耐強酸強堿特性，確保復雜結(jié)構(gòu)的長期可靠性。其涂布性能優(yōu)良，易做精細網(wǎng)點，適用于安全氣囊傳感器、車載攝像頭模組等精密部件。產(chǎn)品通過 IATF 16949 汽車行業(yè)認證，生產(chǎn)過程嚴格控制金屬離子含量，確保電子產(chǎn)品可靠性。
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光刻膠的主要應用領(lǐng)域
光刻膠是微電子制造的主要材料，廣泛應用于以下領(lǐng)域：
半導體制造
功能：在晶圓表面形成微細電路圖案，作為蝕刻或離子注入的掩膜。
分類：
正性光刻膠：曝光區(qū)域溶解于顯影液，形成與掩膜版一致的圖案（主流，分辨率高）。
負性光刻膠：未曝光區(qū)域溶解，形成反向圖案（用于早期工藝，耐蝕刻性強）。
技術(shù)演進：隨制程精度提升，需匹配不同曝光波長（紫外UV、深紫外DUV、極紫外EUV），例如EUV光刻膠用于7nm以下制程。
平板顯示（LCD/OLED）
彩色濾光片（CF）：在玻璃基板上制作紅/綠/藍像素單元，光刻膠用于圖案化黑矩陣（BM）、彩色層（R/G/B）和保護層。
電極圖案：制作TFT-LCD的電極線路或OLED的陰極/陽極，需高透光率和精細邊緣控制。
印刷電路板（PCB）
線路蝕刻：在覆銅板上涂膠，曝光顯影后保留線路區(qū)域，蝕刻去除未保護的銅箔，形成導電線路。
阻焊與字符層：阻焊膠覆蓋非線路區(qū)域，防止短路；字符膠用于印刷電路板標識。
LED與功率器件
芯片制造：在藍寶石/硅基板上制作電極和量子阱結(jié)構(gòu)，需耐高功率環(huán)境的耐高溫光刻膠。
Micro-LED：微米級芯片轉(zhuǎn)移和陣列化，依賴超高分辨率光刻膠（分辨率≤5μm）。
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市場與客戶優(yōu)勢：全球化布局與頭部客戶合作
全球客戶網(wǎng)絡
產(chǎn)品遠銷全球，與三星、LG、京東方等世界500強企業(yè)建立長期合作，在東南亞、北美市場市占率超15%。
區(qū)域市場深耕
依托東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群，與華為、OPPO等本土企業(yè)合作，在消費電子、汽車電子領(lǐng)域快速響應客戶需求。
產(chǎn)業(yè)鏈配套優(yōu)勢：原材料與設備協(xié)同
主要原材料自主化
公司自主生產(chǎn)光刻膠樹脂、光引發(fā)劑，降低對進口依賴，成本較國際競品低20%。
設備與工藝協(xié)同
與國內(nèi)涂膠顯影設備廠商合作，開發(fā)適配國產(chǎn)設備的光刻膠配方，提升工藝兼容性。
吉田半導體的自研產(chǎn)品已深度融入國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)鏈：
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芯片制造：YK-300 光刻膠服務中芯國際、長江存儲，支持國產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn)。
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顯示面板：YK-200 LCD 光刻膠市占率達 15%，成為京東方、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴。
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新能源領(lǐng)域：無鹵無鉛焊片通過 UL 認證，批量應用于寧德時代儲能系統(tǒng)，年供貨量超 500 噸。
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研發(fā)投入：年研發(fā)費用占比超 15%，承擔國家 02 專項課題，獲 “國家技術(shù)發(fā)明二等獎”。
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產(chǎn)能規(guī)模：光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸，納米壓印光刻膠占全球市場份額 15%。
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質(zhì)量體系：通過 ISO9001、IATF 16949 等認證，生產(chǎn)過程執(zhí)行 8S 管理，批次穩(wěn)定性達 99.5%。
吉田半導體將繼續(xù)聚焦光刻膠研發(fā)，加速 EUV 光刻膠與木基材料技術(shù)突破，目標在 2027 年前實現(xiàn) 7nm 制程材料量產(chǎn)。同時，深化國產(chǎn)供應鏈協(xié)同，構(gòu)建 “材料 - 設備 - 工藝” 一體化生態(tài)圈，為中國半導體產(chǎn)業(yè)自主化貢獻 “吉田力量”。
從突破國際壟斷到行業(yè)標準，吉田半導體以自研自產(chǎn)為引擎，走出了一條中國半導體材料企業(yè)的崛起之路。未來，公司將以更具競爭力的產(chǎn)品與技術(shù)，助力中國半導體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺階。
感光膠的工藝和應用。
技術(shù)挑戰(zhàn)
光刻膠作為半導體、顯示面板等高級制造的材料，其技術(shù)挑戰(zhàn)主要集中在材料性能優(yōu)化、制程精度匹配、復雜環(huán)境適應性以及產(chǎn)業(yè)自主化突破等方面
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高分辨率：隨著半導體制程向3nm、2nm推進，需開發(fā)更高精度的EUV光刻膠，解決光斑擴散、線寬控制等問題。
靈敏度與穩(wěn)定性：平衡感光速度和圖案抗蝕能力，適應極紫外光（13.5nm）的低能量曝光。
國產(chǎn)化替代：目前光刻膠（如EUV、ArF浸沒式）長期被日本、美國企業(yè)壟斷，國內(nèi)正加速研發(fā)突破。
光刻膠的性能直接影響芯片制造的良率和精度，是支撐微電子產(chǎn)業(yè)的“卡脖子”材料之一。
納米級圖案化的主要工具。重慶水油光刻膠品牌
光刻膠系列：
厚板光刻膠 JT - 3001，具備優(yōu)異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能，符合歐盟 ROHS 標準，保質(zhì)期 1 年；
水油光刻膠 SR - 3308，容量 5L；SU - 3 負性光刻膠，分辨率優(yōu)異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應，重量 100g；
液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000，有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格，分辨率高，準確性和穩(wěn)定性好；
JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠，耐強酸強堿，耐高溫達 250°C，長期可靠性高，粘接強度高，重量 100g；
LCD 正性光刻膠 YK - 200，具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力，重量 100g；
半導體正性光刻膠 YK - 300，具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g；
耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100，重量 1L。
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