IQ Aligner UV-NIL 自動化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

應用：用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

IQ Aligner UV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進行微成型和納米壓印工藝，非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統(tǒng)從從晶圓尺寸的主圖章復制的軟性圖章開始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝，可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應。此外，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝，包括所有相關的材料專業(yè)知識。EV Group專有的卡盤設計可為高產(chǎn)量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機制。

EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)是基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。研究所納米壓印樣機試用

EVG ® 6200 NT特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG ® 6200 NT附加功能：

鍵對準

紅外對準

智能NIL ®

μ接觸印刷技術數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標準光刻：75至200 mm

柔軟的UV-NIL：75至200毫米

SmartNIL ®：**多至150mm

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對準：軟NIL：≤±0.5 μm；SmartNIL ®：≤±3微米

自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部；SmartNIL ®：支持

納米壓印報價EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺，可用于進行母版制作或?qū)迳系膹碗s結構進行直接圖案化。

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。

EVG的HERCULES ® NIL產(chǎn)品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系統(tǒng)達200毫米

對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案，具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術

HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案，適用于比較大200 mm的晶圓，是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員。HERCULES

NIL基于模塊化平臺，將EVG專有的SmartNIL壓印技術與清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟相結合。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務”，將裸露的晶圓裝載到工具中，然后將經(jīng)過完全處理的納米結構晶圓退回。

納米壓印設備哪個好？預墨印章用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。該技術用于表面化學的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。

納米壓印設備可以進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。

將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上，從而將材料轉(zhuǎn)變?yōu)檎承誀顟B(tài)。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。

EVG提供不同的***積壓印系統(tǒng)，大面積壓印機，微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。

納米壓印光刻設備-處理結果：

新應用程序的開發(fā)通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術和光子應用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結構的AFM圖像

資料來源：EVG與SwissLitho

AG合作（歐盟項目SNM）

2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片

資料來源：EVG

3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列

由加拿大國家研究委 員會提供

4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層，厚度約為10 nm

資料來源：EVG

5.紫外線成型鏡片300 μm

資料來源：EVG

6.光子晶體用于LED的光提取

多晶硅的蜂窩織構化（mc-Si）

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形結構50 μm

資料來源：EVG

8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝

資料來源：EVG

9.光子帶隙傳感器光柵

資料來源：EVG（歐盟Saphely項目）

10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相

資料來源：EVG IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)。浙江納米壓印聯(lián)系電話

納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結構的低成本的技術，大批量替代光刻技術。研究所納米壓印樣機試用

UV納米壓印光刻

EV Group提供完整的UV納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線，包括不同的***積壓印系統(tǒng)，大面積壓印機，微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL，EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術。高 效，強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度，高度均勻的圖案層和**少的殘留層，并具有易于擴展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。EVG的SmartNI技術達到了納米壓印的長期預期，即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級結構的高性能，低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術。

研究所納米壓印樣機試用

岱美儀器技術服務（上海）有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位，是一家磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司。公司自創(chuàng)立以來，投身于磁記錄，半導體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)，是儀器儀表的主力軍。岱美儀器技術服務始終以本分踏實的精神和必勝的信念，影響并帶動團隊取得成功。岱美儀器技術服務始終關注自身，在風云變化的時代，對自身的建設毫不懈怠，高度的專注與執(zhí)著使岱美儀器技術服務在行業(yè)的從容而自信。