EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

用于大面積****的共形納米壓印光刻。

EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術(shù)，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用，至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟有效的方法，因為它不受光學(xué)系統(tǒng)的限制，并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度。

SmartNIL利用非常強大且可控的加工工藝，提供了低至40 nm *的出色保形壓印結(jié)果。憑借獨特且經(jīng)過驗證的設(shè)備功能（包括****的易用性）以及高水平的工藝專業(yè)知識，EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求。

*分辨率取決于過程和模板 EVG ? 610也可以設(shè)計成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)。鏡片成型納米壓印免稅價格

HERCULES ® NIL特征：

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺，具有多達(dá)八個可交換過程模塊（壓印和預(yù)處理）

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D

適用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取決于過程和模板

HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準(zhǔn)：≤±3微米

自動分離：支持的

前處理：提供所有預(yù)處理模塊

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

青海納米壓印微流控應(yīng)用EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，能夠輕松地適應(yīng)各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。

為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印印章制造設(shè)備。作為一項特殊功能，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境，以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復(fù)制。

通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位。

*根據(jù)ISO 14644

HERCULES ® NIL特征：

批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)

聯(lián)合預(yù)處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®

體積驗證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度

全自動壓印和受控的低力分離，可很大程度地重復(fù)使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源，固化時間**快

優(yōu)化的模塊化平臺可實現(xiàn)高吞吐量

*分辨率取決于過程和模板

納米壓印光刻（NIL） -SmartNIL ®

用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝

介紹：

EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場**設(shè)備供應(yīng)商。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年，掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術(shù)通過多年的研究，開發(fā)和現(xiàn)場經(jīng)驗進行了優(yōu)化，以解決常規(guī)光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。

如果要獲得詳細(xì)信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司或者訪問官網(wǎng)。

EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)。

    納米壓印微影技術(shù)可望優(yōu)先導(dǎo)入LCD面板領(lǐng)域原本計劃應(yīng)用在半導(dǎo)體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(shù)(Nano-ImpLithography；NIL)，現(xiàn)將率先應(yīng)用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術(shù)。據(jù)ETNews報導(dǎo)，南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組，未確認(rèn)NIL設(shè)備實際圖樣形成能力，直接參訪海外NIL設(shè)備廠。該制程研發(fā)小組透露，若引進相關(guān)設(shè)備，將可提升面板性能。并已展開具體供貨協(xié)商。NIL是以刻印圖樣的壓印機，像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后，再以壓印機接觸施加壓力，印出面板圖樣。之后再經(jīng)過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣，不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程，但省落偏光膜貼附制程，可維持同樣的生產(chǎn)成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣，將不會發(fā)生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高，因配線較多，較難確保開口率(ApertureRatio)。納米壓印設(shè)備可用來進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。四川納米壓印要多少錢

EVG620 NT支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準(zhǔn)選項。鏡片成型納米壓印免稅價格

納米壓印設(shè)備哪個好？預(yù)墨印章用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。該技術(shù)用于表面化學(xué)的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。

納米壓印設(shè)備可以進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。

將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上，從而將材料轉(zhuǎn)變?yōu)檎承誀顟B(tài)。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進步。

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岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位，是一家磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】的公司。岱美儀器技術(shù)服務(wù)擁有一支經(jīng)驗豐富、技術(shù)創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團隊，以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)不斷開拓創(chuàng)新，追求出色，以技術(shù)為先導(dǎo)，以產(chǎn)品為平臺，以應(yīng)用為重點，以服務(wù)為保證，不斷為客戶創(chuàng)造更高價值，提供更優(yōu)服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注自身，在風(fēng)云變化的時代，對自身的建設(shè)毫不懈怠，高度的專注與執(zhí)著使岱美儀器技術(shù)服務(wù)在行業(yè)的從容而自信。