F30 系列監(jiān)控薄膜沉積，**強有力的工具F30 光譜反射率系統(tǒng)能實時測量沉積率、沉積層厚度、光學常數(shù) (n 和 k 值) 和半導體以及電介質層的均勻性。
樣品層分子束外延和金屬有機化學氣相沉積: 可以測量平滑和半透明的，或輕度吸收的薄膜。 這實際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導體材料。
各項優(yōu)點:極大地提高生產(chǎn)力低成本 —幾個月就能收回成本A精確 — 測量精度高于 ±1%快速 — 幾秒鐘完成測量非侵入式 — 完全在沉積室以外進行測試易于使用 — 直觀的 Windows? 軟件幾分鐘就能準備好的系統(tǒng)
型號厚度范圍*波長范圍
F30:15nm-70μm 380-1050nm
F30-EXR:15nm - 250μm 380-1700nm
F30-NIR:100nm - 250μm 950-1700nm
F30-UV:3nm-40μm 190-1100nm
F30-UVX:3nm - 250μm 190-1700nm
F30-XT:0.2μm - 450μm1440-1690nm Filmetrics F60-t 系列就像我們的 F50產(chǎn)品一樣測繪薄膜厚度和折射率，但它增加了許多用于生產(chǎn)環(huán)境的功能。浙江膜厚儀應用
平臺和平臺附件標準和**平臺。
CS-1可升級接觸式SS-3樣品臺，可測波長范圍190-1700nm
SS-36“×6” 樣品平臺，F(xiàn)20 系統(tǒng)的標準配置。 可調(diào)節(jié)鏡頭高度，103 mm 進深。 適用所有波長范圍。
SS-3-88“×8” 樣品平臺?？烧{(diào)節(jié)鏡頭高度，139mm 進深。 適用所有波長范圍。
SS-3-24F20 的 24“×24” 樣品平臺。 可調(diào)節(jié)鏡頭高度，550mm 進深。 適用所有波長范圍。
SS-56" x 6" 吋樣品臺，具有可調(diào)整焦距的反射光學配件，需搭配具有APC接頭的光纖，全波長范圍使用
樣品壓重-SS-3-50
樣品壓重 SS-3 平臺, 50mm x 50mm
樣品壓重-SS-3-110
樣品壓重 SS-3 平臺, 110mm x 110mm
工藝薄膜膜厚儀樣品測試F30測厚范圍：15nm-70μm；波長：380-1050nm。
F10-AR易于使用而且經(jīng)濟有效地分析減反涂層和鏡頭上的硬涂層F10-AR 是測試眼科減反涂層設計的儀器。 雖然價格**低于當今絕大多數(shù)同類儀器，應用幾項技術， F10-AR 使線上操作人員經(jīng)過幾分鐘的培訓，就可以進行厚度測量。
在用戶定義的任何波長范圍內(nèi)都能進行比較低、比較高和平均反射測試。
我們有專門的算法對硬涂層的局部反射失真進行校正。 我們獨有的 AutoBaseline 能極大地增加基線間隔，提供比其它光纖探頭反射儀高出五倍的精確度。
利用可選的 UPG-F10-AR-HC 軟件升級能測量 0.25-15um 的硬涂層厚度。 在減反層存在的情況下也能對硬涂層厚度進行測量。
厚度標準：
所有 Filmetrics 厚度標準都是得到驗證可追溯的 NIST 標準。
S-Custom-NIST：在客戶提供的樣品上定制可追溯的 NIST 厚度校準。
TS-Focus-SiO2-4-3100SiO2-on-Si ：厚度標準，外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準，厚度大約 3100A，4" 晶圓。
TS-Focus-SiO2-4-10000SiO2-on-Si ：厚度標準，外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準，厚度大約 10000A，4" 晶圓。
TS-Hardcoat-4μm：丙烯酸塑料硬涂層厚度標準，厚度大約 4um，直徑 2"。
TS-Hardcoat-Trans：背面透明的硬涂層，可用于透射測量。
TS-Parylene-4um：丙烯酸塑料上的聚對二甲苯厚度標準，厚度大約 4um ，直徑2"。
TS-Parylene-8um：硅基上的聚對二甲苯厚度標準，厚度大約 8um，23mm x 23mm。
TS-SiO2-4-7200：硅基上的二氧化硅厚度標準，厚度大約 7200A，4" 晶圓。
TS-SiO2-4-7200-NIST：可追溯的 NIST SiO2-4-7200 厚度標準。
TS-SiO2-6-Multi：多厚度硅基上的二氧化硅標準: 125埃米，250埃米，500埃米，1000埃米，5000埃米，和 10000埃米 (+/-10%誤差)，6英寸晶圓。TS-SS3-SiO2-8000：專為SS-3樣品平臺設計之二氧化硅厚度標準片,厚度大約為 8000A。 F50-UV測厚范圍：5nm-40μm；波長：190-1100nm。
F30包含的內(nèi)容：集成光譜儀/光源裝置光斑尺寸10微米的單點測量平臺FILMeasure 8反射率測量軟件Si 參考材料FILMeasure **軟件 (用于遠程數(shù)據(jù)分析)
額外的好處：每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫, 隨著不同應用更超過數(shù)百種應用工程師可立刻提供幫助（周一 - 周五）網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃
型號厚度范圍*波長范圍
F3-s 980:10μm - 1mm 960-1000nm
F3-s1310:15μm - 2mm 1280-1340nm
F3-s1550:25μm - 3mm 1520-1580nm
*取決于薄膜種類 紅外干涉測量技術, 非接觸式測量。臺積電膜厚儀
監(jiān)測控制生產(chǎn)過程中移動薄膜厚度。高達100 Hz的采樣率可以在多個測量位置得到。浙江膜厚儀應用
FSM 8018 VITE測試系列設備
VITE技術介紹：
VITE是傅里葉頻域技術，利用近紅外光源的相位剪切技術（Phase shear technology）
設備介紹
適用于所有可讓近紅外線通過的材料：硅、藍寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石 英、聚合物…………
應用:
襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)
平整度
厚度變化 (TTV)
溝槽深度
過孔尺寸、深度、側壁角度
粗糙度
薄膜厚度
不同半導體材料的厚度
環(huán)氧樹脂厚度
襯底翹曲度
晶圓凸點高度(bump height)
MEMS 薄膜測量
TSV 深度、側壁角度...
浙江膜厚儀應用
岱美儀器技術服務（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位。公司自成立以來，以質量為發(fā)展，讓匠心彌散在每個細節(jié)，公司旗下磁記錄，半導體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛。公司將不斷增強企業(yè)重點競爭力，努力學習行業(yè)知識，遵守行業(yè)規(guī)范，植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展。岱美儀器技術服務憑借創(chuàng)新的產(chǎn)品、專業(yè)的服務、眾多的成功案例積累起來的聲譽和口碑，讓企業(yè)發(fā)展再上新高。