UV-NIL / SmartNIL 納米壓印系統(tǒng)

EV Group為基于紫外線的納米壓印光刻（UV-NIL）提供完整的產(chǎn)品線，包括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL，EVG還提供其專有的SmartNIL技術(shù)以及多種用途的聚合物印模技術(shù)。高 效，強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度，高度均勻的圖案層和**少的殘留層，并具有易于調(diào)整的晶圓尺寸和產(chǎn)量。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期承諾，即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級結(jié)構(gòu)的高性能，低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術(shù)。

這個系列的型號包括：EVG®610；EVG®620NT；EVG®6200NT；EVG®720；EVG®7200；EVG®7200LA；HERCULES®NIL；EVG®770；IQAligner®。 EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。氮化鎵納米壓印應(yīng)用

EVG610特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG610附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

EVG610技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）

標準光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

自動分離：不支持

工作印章制作：外部

臺積電納米壓印美元報價SmartNIL 非常適合對具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)微流控芯片進行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備生產(chǎn)。

EVG ® 720特征：

體積驗證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度

專有SmartNIL ®技術(shù)，多使用聚合物印模技術(shù)

集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發(fā)模式

可選的頂部對準

可選的迷你環(huán)境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺

從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴展性

系統(tǒng)外殼，可實現(xiàn)比較好過程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

75至150毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準：可選的頂部對準

自動分離：支持的

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印印章制造設(shè)備。作為一項特殊功能，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境，以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復(fù)制。

通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位。

*根據(jù)ISO 14644

HERCULES ® NIL特征：

批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)

聯(lián)合預(yù)處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®

體積驗證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度

全自動壓印和受控的低力分離，可很大程度地重復(fù)使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源，固化時間**快

優(yōu)化的模塊化平臺可實現(xiàn)高吞吐量

*分辨率取決于過程和模板 EVG ? 770是分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)，使用分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù)，可進行有效的母版制作。

EVG ® 620 NT特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG ® 620 NT附加功能：

鍵對準

紅外對準

SmartNIL

μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標準光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

SmartNIL ®：在100毫米范圍

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對準：

軟NIL：≤±0.5 μm

SmartNIL ®：≤±3微米

自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部：SmartNIL ®：支持

EVG ? 520 HE是熱壓印系統(tǒng)。黑龍江納米壓印微流控應(yīng)用

EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。氮化鎵納米壓印應(yīng)用

EVG ® 770特征：

微透鏡用于晶片級光學(xué)器件的高 效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL ®

簡單實施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配，壓印和脫模過程中的實時圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學(xué)楔形誤差補償

可選的自動盒帶間處理

EVG ® 770技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2

對準：頂側(cè)顯微鏡，用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm

較早印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

有效印記區(qū)域：長達50 x 50毫米

自動分離：支持的

前處理：涂層：液滴分配（可選）

氮化鎵納米壓印應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，以科技創(chuàng)新實現(xiàn)***管理的追求。岱美儀器技術(shù)服務(wù)作為磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的企業(yè)之一，為客戶提供良好的磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)不斷開拓創(chuàng)新，追求出色，以技術(shù)為先導(dǎo)，以產(chǎn)品為平臺，以應(yīng)用為重點，以服務(wù)為保證，不斷為客戶創(chuàng)造更高價值，提供更優(yōu)服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注自身，在風(fēng)云變化的時代，對自身的建設(shè)毫不懈怠，高度的專注與執(zhí)著使岱美儀器技術(shù)服務(wù)在行業(yè)的從容而自信。