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湖北納米壓印應(yīng)用

來源: 發(fā)布時間:2021-03-19

EVG ® 510 HE熱壓印系統(tǒng)

應(yīng)用:高度靈活的熱壓印系統(tǒng),用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)

EVG510 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設(shè)計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。該設(shè)備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能,并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項,提供了許多用于高質(zhì)量納米圖案轉(zhuǎn)印的工藝。


EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準工藝,用于光學對準的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執(zhí)行

閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項

外部浮雕和冷卻站 岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。湖北納米壓印應(yīng)用

    NIL系統(tǒng)肖特增強現(xiàn)實負責人RuedigerSprengard博士表示:“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm,對于實現(xiàn)我們客戶滿足當今和未來**AR/MR設(shè)備不斷增長的市場需求所需的規(guī)模經(jīng)濟產(chǎn)量來說至關(guān)重要。通過攜手合作,EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設(shè)備和供應(yīng)鏈的就緒性?!痹诖酥?,使用光刻/納米壓印技術(shù)對具有光子學應(yīng)用結(jié)構(gòu)的玻璃基板進行圖案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設(shè)備推向大眾消費和工業(yè)市場邁出的重要一步。不過,在這些較大的基板上保持高基板質(zhì)量和工藝均勻性是很難控制的,需要先進的自動化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術(shù)得益于多年的研究、開發(fā)和實驗,旨在滿足納米圖案成形的需求,經(jīng)過了現(xiàn)場驗證,能夠輕松從晶圓級樣品尺寸擴展到大面積基板。去年六月,EVG推出了HERCULES?NIL300mm,將SmartNIL引入300-mm制造,滿足各種設(shè)備和應(yīng)用的生產(chǎn)需求,其中包括AR、MR和虛擬現(xiàn)實(VR)頭戴顯示設(shè)備的光學器件以及3D傳感器、生物醫(yī)療設(shè)備、納米光子學和等離子電子學。集成到SmartNIL?UV-NIL系統(tǒng)的全模塊化EVG?HERCULES?。廣東臺積電納米壓印IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)。

    NIL300mmEV集團企業(yè)技術(shù)開發(fā)和知識產(chǎn)權(quán)總監(jiān)MarkusWimplinger表示:“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年,為光刻/納米壓印技術(shù)供應(yīng)鏈中的各個合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個開放式的創(chuàng)新孵化器,從而縮短創(chuàng)新光子器件和應(yīng)用的開發(fā)周期和上市時間。我們很高興與肖特公司合作,證明EVG光刻/納米壓印技術(shù)解決方案的價值,不僅有助于新技術(shù)和新工藝的開發(fā),還能夠加速新技術(shù)和新工藝在大眾市場中的采用。我們正在攜手肖特開展的工作,彰顯了光刻/納米壓印技術(shù)設(shè)備和工藝的成熟性,為各種令人興奮的基于光子學的新產(chǎn)品和新應(yīng)用的300-mm制造奠定了基礎(chǔ)。”SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓是**AR/MR設(shè)備的關(guān)鍵組件,已經(jīng)實現(xiàn)了批量生產(chǎn)。產(chǎn)品組合提供了高達,支持深度沉浸的AR/MR應(yīng)用,視野更廣,高達65度。在與增強現(xiàn)實硬件制造商進行多年研發(fā)之后,肖特在2018年推出了***代SCHOTTRealView?。這款**產(chǎn)品在上市一年后便榮獲了享有盛譽的2019年SID顯示行業(yè)獎(SIDDisplayIndustryAward2019)。關(guān)于肖特肖特是特種玻璃、微晶玻璃和相關(guān)高科技材料領(lǐng)域的**國際技術(shù)集團。公司積累了超過130年的經(jīng)驗,是眾多行業(yè)的創(chuàng)新合作伙伴。

EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統(tǒng)。

用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)®技術(shù),在100毫米范圍內(nèi)。

EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名,它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術(shù)。操作員友好型軟件,**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務(wù)支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境(半自動批量生產(chǎn))的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對準選項。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻。此外,半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。


SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量。

EVGROUP®|產(chǎn)品/納米壓印光刻解決方案

納米壓印光刻的介紹:

EV Group是納米壓印光刻(NIL)的市場**設(shè)備供應(yīng)商。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年,掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術(shù)通過多年的研究,開發(fā)和現(xiàn)場經(jīng)驗進行了優(yōu)化,以解決常規(guī)光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形壓印結(jié)果。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進步。


EVG ? 770是分步重復納米壓印光刻系統(tǒng),使用分步重復納米壓印光刻技術(shù),可進行有效的母版制作。進口納米壓印實際價格

NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的相當有成本效益的方法。湖北納米壓印應(yīng)用

    據(jù)外媒報道,美國威斯康星大學麥迪遜分校(UWMadison)的研究人員們,已經(jīng)同合作伙伴聯(lián)手實現(xiàn)了一種突破性的方法。不僅**簡化了低成本高性能、無線靈活的金屬氧化物半導體場效應(yīng)晶體管(MOSFET)的制造工藝,還克服了許多使用標準技術(shù)制造設(shè)備時所遇到的操作上的問題。該技術(shù)可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板,并在可穿戴電子設(shè)備和彎曲傳感器等領(lǐng)域派上大用場。研究人員稱,這項突破性的納米壓印平板印刷制造工藝,可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能,MOSFET已經(jīng)迅速取代了電子電路中常見的雙極晶體管。為了滿足不斷縮小的集成電路需求,MOSFET尺寸也在不斷變小,然而這也引發(fā)了一些問題。湖北納米壓印應(yīng)用

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