EVG ® 720特征:
體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度
專有SmartNIL ®技術,多使用聚合物印模技術
集成式壓印,UV固化脫模和工作印模制造
盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發(fā)模式
可選的頂部對準
可選的迷你環(huán)境
適用于所有市售壓印材料的開放平臺
從研發(fā)到生產的可擴展性
系統(tǒng)外殼,可實現比較好過程穩(wěn)定性和可靠性技術數據
晶圓直徑(基板尺寸)
75至150毫米
解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:SmartNIL ®
曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2
對準:可選的頂部對準
自動分離:支持的
迷你環(huán)境和氣候控制:可選的
工作印章制作:支持的
EVG的SmartNIL技術是基于紫外線曝光的全場壓印技術,可提供功能強大的下一代光刻技術。晶片納米壓印圖像傳感器應用
HERCULES®NIL:完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實現300 mm的大批量生產
■批量生產低至40 nm的結構或更小尺寸(分辨率取決于過程和模板)
■結合了預處理(清潔/涂布/烘烤/冷卻)和SmartNIL®技術
■全自動壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復使用工作印章
■具備工作印章制造能力
EVG®770:連續(xù)重復的納米壓印光刻技術,可進行有效的母版制作
■用于晶圓級光學器件的微透鏡的高 效母模制造,直至SmartNIL®的納米結構
■不同類型的母版的簡單實現
■可變的光刻膠分配模式
■分配,壓印和脫模過程中的實時圖像
■用于壓印和脫模的原位力控制
安徽聯(lián)電納米壓印高 效,強大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度,擁有高度均勻圖案層和**少殘留層,易于擴展的晶圓尺寸和產量。
EVG ® 6200 NT是SmartNIL
UV納米壓印光刻系統(tǒng)。
用UV納米壓印能力設有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)®技術范圍達150m。這些系統(tǒng)以其自動化的靈活性和可靠性而著稱,以**小的占地面積提供了**
新的掩模對準技術。操作員友好型軟件,**短的掩模和工具更換時間以及高 效的全球服務和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境(半自動批量生產)的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對準。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻。此外,半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。
UV納米壓印光刻
EV Group提供完整的UV納米壓印光刻(UV-NIL)產品線,包括不同的***積壓印系統(tǒng),大面積壓印機,微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL,EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術。高 效,強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,高度均勻的圖案層和**少的殘留層,并具有易于擴展的晶圓尺寸和產量。EVG的SmartNI技術達到了納米壓印的長期預期,即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產微米和納米級結構的高性能,低成本和具有批量生產能力的技術。
岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。
EVG ® 720自動SmartNIL
® UV納米壓印光刻系統(tǒng)
自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米,設有EVG's專有SmartNIL ®技術
EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術和材料專業(yè)知識,能夠大規(guī)模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結構,具有****的吞吐量,非常適合批量生產下一代微流控和光子器件,例如衍射光學元件( DOEs)。
*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問官網,獲得更多信息。 步進重復納米壓印光刻可以從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。河北納米壓印供應商家
EVG的納米壓印設備已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為第三代(550 mm x 650 mm)的基板上實現。晶片納米壓印圖像傳感器應用
HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統(tǒng)達300毫米
結合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺®技術支持AR / VR,3D傳感器,光子和生物技術生產應用
EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟 蹤系統(tǒng),將清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻(NIL)工藝結合在一個平臺上,用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個基于EVG的全模塊化設備平臺和可交換模塊的NIL系統(tǒng),可為客戶提供比較大的自由度來配置他們的系統(tǒng),以比較好地滿足其生產需求,包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。
晶片納米壓印圖像傳感器應用
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