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光電輪廓儀競爭力怎么樣

來源: 發(fā)布時間:2021-03-27

NanoX-系列輪廓儀**性客戶

? 集成電路相關(guān)產(chǎn)業(yè)

– 集成電路先進封裝和材料:華天科技,通富微電子,江蘇納佩斯

半導體,華潤安盛等

? MEMS相關(guān)產(chǎn)業(yè)

– 中科院蘇州納米所,中科電子46所,華東光電集成器件等

? 高 效太陽能電池相關(guān)產(chǎn)業(yè)

– 常州億晶光電,中國臺灣速位科技、山東衡力新能源等

? 微電子、FPD、PCB等產(chǎn)業(yè)

– 三星電機、京東方、深圳夏瑞科技等  



具備 Global alignment & Unit alignment

自動聚焦范圍 : ± 0.3mm

XY運動速度 **快


如果有什么問題,請聯(lián)系我們。


包含了從納米到微米級別的輪廓、線粗糙度、面粗糙度等二維、三維參數(shù),作為評定該物件是否合格的標準。光電輪廓儀競爭力怎么樣

關(guān)于三坐標測量輪廓度及粗糙度

  三坐標測量機是不能測量粗糙度的,至于測量零件的表面輪廓 ,要視三坐標的測量精度及零件表面輪廓度的要求了,如果你的三坐標測量機精度比較高,但零件輪廓度要求不可,是可以用三坐標來代替的。一般三坐標精度都在2-3um左右,而輪廓儀都在2um以內(nèi),還有就是三坐標可以測量大尺寸零件的輪廓,因為它有龍門式三坐標和關(guān)節(jié)臂三坐標,而輪廓儀主要是用來測量一些小的精密零件輪廓尺寸的,加上粗糙度模塊也可以測量粗糙度。 干涉儀輪廓儀售后服務(wù)支持連接MES系統(tǒng),數(shù)據(jù)可導入SPC。

輪廓儀對所測樣品的尺寸有何要求?

答:輪廓儀對載物臺xy行程為140*110mm(可擴展),Z向測量范圍比較大可達10mm,但由于白光干涉儀單次測量區(qū)域比較小(以10X鏡頭為例,在1mm左右),因而在測量大尺寸的樣品時,全檢的方式需要進行拼接測量,檢測效率會比較低,建議尋找樣品表 面的特征位置或抽取若干區(qū)域進行抽點檢測,以單點或多點反映整個面的粗糙度參數(shù);

4.測量的**小尺寸是否可以達到12mm,或者能夠測到更小的尺寸?


如果需要了解更多,請訪問官網(wǎng)。

    比較大視場Thefilm3D以10倍物鏡優(yōu)異地提供更寛廣的2毫米視野,其數(shù)位變焦功能有助于緩解不同應(yīng)用時切換多個物鏡的需要,更進一步減少總體成本。手動式物鏡轉(zhuǎn)盤能一次搭載四組物鏡,能滿足需要多種倍率物鏡交替使用的測量應(yīng)用。索取技術(shù)資料索取報價性能規(guī)格厚度范圍,WSI50nm-10mm厚度范圍,PSI0-3μm樣品反射率範圍-100 %電腦要求機械規(guī)格Z范圍100mmPiezo(壓電)范圍500μmXY平臺類型手動或自動XY平臺范圍100mmx100mm相機2592x1944(5百萬像素)系統(tǒng)尺寸,寬x深x高300mmx300mmx550mm系統(tǒng)重量15kg物鏡1(NikonCFICEpiPlan)放大倍率5X10X20X50X100X視場xmmxmmxmmxmmxmm采樣空間2μmμmμmμmμm1分別出售2樣本上之像素大小常見的選購配件:urionNano30主動式防震臺4微米,2微米,和100納米多臺階高度標準。晶圓的IC制造過程可簡單看作是將光罩上的電路圖通過UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程。

輪廓儀在集成電路的應(yīng)用

封**ump測量  

視場:72*96(um)物鏡:干涉50X 檢測位置:樣品局部

面減薄表面粗糙度分析

封裝:300mm硅片背面減薄表面粗糙度分析  面粗糙度分析:2D, 3D顯示;線粗糙度分析:Ra, Ry,Rz,…

器件多層結(jié)構(gòu)臺階高  MEMS 器件多層結(jié)構(gòu)分析、工藝控制參數(shù)分析

激光隱形切割工藝控制  世界***的能夠?qū)崿F(xiàn)激光槽寬度、深度自動識別和數(shù)據(jù)自動生成,**地縮

短了激光槽工藝在線檢測的時間,避免人工操作帶來的一致性,可靠性問題


歡迎咨詢。 NanoX-8000的XY光柵分辨率 0.1um,定位精度 5um,重復精度 1um。廣東輪廓儀技術(shù)服務(wù)

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輪廓儀白光干涉的創(chuàng)始人:

邁爾爾遜

1852-1931

美國物理學家

曾從事光速的精密測量工作  

邁克爾遜首倡用光波波長作為長度基準。

1881年,他發(fā)明了一種用以測量微小長度,折射率和光波波長的干涉儀,邁克爾遜干涉儀。

他和美國物理學家莫雷合作,進行了***的邁克爾遜-莫雷實驗,否定了以太de 存在,為愛因斯坦建立狹義相對論奠定了基礎(chǔ)。

由于創(chuàng)制了精密的光學儀器和利用這些儀器所完成光譜學和基本度量學研究,邁克爾遜于1907年獲得諾貝爾物理學獎。 光電輪廓儀競爭力怎么樣

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