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EVG7200納米壓印應(yīng)用

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-04-07

HERCULES ® NIL特征:

全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺,具有多達(dá)八個(gè)可交換過程模塊(壓印和預(yù)處理)

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀,包括3D

適用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取決于過程和模板


HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸):100至200毫米/ 200和300毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2

對準(zhǔn):≤±3微米

自動(dòng)分離:支持的

前處理:提供所有預(yù)處理模塊

迷你環(huán)境和氣候控制:可選的

工作印章制作:支持的


EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。EVG7200納米壓印應(yīng)用

NIL已被證明是在大面積上實(shí)現(xiàn)納米級圖案的相當(dāng)有成本效益的方法,因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制,并且它可以為極小尺寸(小于100分)提供比較好圖案保真度nm)結(jié)構(gòu)。

EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術(shù),可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù),幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,因此還可以實(shí)現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r(shí)間。

新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 云南納米壓印中芯在用嗎EVG的納米壓印光刻(NIL) - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。

UV納米壓印光刻系統(tǒng)

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)

■高精度對準(zhǔn)臺

■自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制

■電動(dòng)和程序控制的曝光間隙

■支持***的UV-LED技術(shù)

■**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求


EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自動(dòng)化的全場納米壓印解決方案,適用于第3代基材

■體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度

■專有的SmartNIL®技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù)

■集成式壓印,UV固化,脫模和工作印模制作

■盒帶間自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式


■適用于所有市售壓印材料的開放平臺


    面板廠為補(bǔ)償較低的開口率,多運(yùn)用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù),但此作法的缺點(diǎn)是用電量較高。若運(yùn)用NIL制程,可確保適當(dāng)?shù)拈_口率,降低用電量。利用一般曝光設(shè)備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設(shè)備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板,需要經(jīng)過數(shù)十次的曝光制程。不僅制程時(shí)間長,經(jīng)過多次曝光后,在圖樣間會形成細(xì)微的縫隙,無法完整顯示影像。若將NIL技術(shù)應(yīng)用在5代設(shè)備,可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板,6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示,在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程,是LCD領(lǐng)域中***一個(gè)創(chuàng)新任務(wù)。若加速NIL制程導(dǎo)入LCD生產(chǎn)的時(shí)程,偏光膜企業(yè)的營收可能減少。(來自網(wǎng)絡(luò)。EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)有: EVG?610,EVG?620NT,EVG?6200NT,EVG?720,EVG?7200等。

EVGROUP®|產(chǎn)品/納米壓印光刻解決方案

納米壓印光刻的介紹:

EV Group是納米壓印光刻(NIL)的市場**設(shè)備供應(yīng)商。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年,掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術(shù)通過多年的研究,開發(fā)和現(xiàn)場經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行了優(yōu)化,以解決常規(guī)光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形壓印結(jié)果。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步。


IQ Aligner UV-NIL是自動(dòng)化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng),是用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印的系統(tǒng)。湖北納米壓印報(bào)價(jià)

HERCULES ? NIL是完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。EVG7200納米壓印應(yīng)用

客戶示范

■工藝開發(fā)

■材料測試

■與合作伙伴共同研發(fā)

■資助項(xiàng)目

■小批量試生產(chǎn)

■IP管理

■過程技術(shù)許可證

■流程培訓(xùn)

→世界前列的潔凈室基礎(chǔ)設(shè)施

→**的設(shè)備

→技術(shù)**

→**計(jì)量

→工藝知識

→應(yīng)用知識

→與NIL的工作印模材料和表面化學(xué)有關(guān)的化學(xué)專業(yè)知識


新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,并在顯示器,生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。

岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步。


EVG7200納米壓印應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號第五層六十五部位,是一家磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)】的公司。岱美儀器技術(shù)服務(wù)擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團(tuán)隊(duì),以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于把技術(shù)上的創(chuàng)新展現(xiàn)成對用戶產(chǎn)品上的貼心,為用戶帶來良好體驗(yàn)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)創(chuàng)始人陳玲玲,始終關(guān)注客戶,創(chuàng)新科技,竭誠為客戶提供良好的服務(wù)。