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廣東聯(lián)電納米壓印

來源: 發(fā)布時間:2021-06-16

EVG ® 6200 NT特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和轉換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG ® 6200 NT附加功能:

鍵對準

紅外對準

智能NIL ®

μ接觸印刷技術數(shù)據(jù)

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:75至200 mm

柔軟的UV-NIL:75至200毫米

SmartNIL ®:**多至150mm

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL

®


曝光源:汞光源或紫外線LED光源

對準:軟NIL:≤±0.5 μm;SmartNIL ®:≤±3微米

自動分離:柔紫外線NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持


EVG的納米壓印光刻(NIL) - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。廣東聯(lián)電納米壓印

EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統(tǒng)。

用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)®技術,在100毫米范圍內。

EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名,它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。操作員友好型軟件,**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境(半自動批量生產(chǎn))的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對準選項。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻。此外,半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。


**納米壓印有誰在用SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量。

納米壓印光刻(NIL)技術

EVG是納米壓印光刻(NIL)設備和集成工藝的市場**供應商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL,并實現(xiàn)了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當有成本效益的工藝,可用于生物MEMS,微流體,電子學以及**近各種衍射光學元件的各種商業(yè)應用。


其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號包含:

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®


熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號包含:

EVG®510HE

EVG®520HE


詳細的參數(shù),請聯(lián)系我們岱美有限公司。


    納米壓印微影技術可望優(yōu)先導入LCD面板領域原本計劃應用在半導體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(Nano-ImpLithography;NIL),現(xiàn)將率先應用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術。據(jù)ETNews報導,南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組,未確認NIL設備實際圖樣形成能力,直接參訪海外NIL設備廠。該制程研發(fā)小組透露,若引進相關設備,將可提升面板性能。并已展開具體供貨協(xié)商。NIL是以刻印圖樣的壓印機,像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后,再以壓印機接觸施加壓力,印出面板圖樣。之后再經(jīng)過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣,不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程,但省落偏光膜貼附制程,可維持同樣的生產(chǎn)成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣,將不會發(fā)生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高,因配線較多,較難確保開口率(ApertureRatio)。EVG提供不同的***積壓印系統(tǒng),大面積壓印機,微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。

EVG ® 770分步重復納米壓印光刻系統(tǒng)

分步重復納米壓印光刻技術,可進行有效的母版制作


EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從**

大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合,分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

EVG770的主要功能包括精確的對準功能,完整的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。 SmartNIL的主要技術是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。半導體設備納米壓印技術服務

EVG是納米壓印光刻(NIL)的市場**設備供應商。廣東聯(lián)電納米壓印

曲面基底上的納米結構在許多領域都有著重要應用,例如仿生學、柔性電子學和光學器件等。傳統(tǒng)的納米壓印技術通常采用剛性模板,可以實現(xiàn)亞10nm的分辨率,但是模板不能彎折,無法在曲面基底上壓印制備納米結構。而采用彈性模板的軟壓印技術可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸,實現(xiàn)結構在非平面基底上的壓印復制,但是由于彈性模板的楊氏模量較低,所以壓印結構的分辨率和精度都受到限制?;谀壳凹{米壓印的發(fā)展現(xiàn)狀,結合傳統(tǒng)的納米壓印技術和軟壓印技術,中國科學院光電技術研究所團隊發(fā)展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復合軟壓印模板的制備方法,該模板包含剛性結構層和彈性基底層。(來自網(wǎng)絡,侵權請聯(lián)系我們進行刪除,謝謝?。?廣東聯(lián)電納米壓印

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