電介質(zhì)成千上萬(wàn)的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué)，半導(dǎo)體，以及其它數(shù)十個(gè)行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測(cè)量所有的薄膜。 

測(cè)量范例氮化硅薄膜作為電介質(zhì)，鈍化層，或掩膜材料被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。這個(gè)案例中，我們用F20-UVX成功地測(cè)量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度，折射率，和消光系數(shù)。有趣的事，氮化硅薄膜的光學(xué)性質(zhì)與薄膜的分子當(dāng)量緊密相關(guān)。使用Filmetrics專有的氮化硅擴(kuò)散模型，F(xiàn)20-UVX可以很容易地測(cè)量氮化硅薄膜的厚度和光學(xué)性質(zhì)，不管他們是富硅，貧硅，還是分子當(dāng)量。 F40-EXR范圍：20nm-120μm；波長(zhǎng)：400-1700nm。盒厚膜厚儀24小時(shí)在線服務(wù)

    其可測(cè)量薄膜厚度在1nm到1mm之間，測(cè)量精度高達(dá)1埃，測(cè)量穩(wěn)定性高達(dá)，測(cè)量時(shí)間只需一到二秒,并有手動(dòng)及自動(dòng)機(jī)型可選。可應(yīng)用領(lǐng)域包括：生物醫(yī)學(xué)（Biomedical）,液晶顯示(Displays),硬涂層(Hardcoats),金屬膜(Metal),眼鏡涂層(Ophthalmic),聚對(duì)二甲笨(Parylene),電路板(PCBs&PWBs),多孔硅(PorousSilicon),光阻材料(ThickResist),半導(dǎo)體材料(Semiconductors),太陽(yáng)光伏(Solarphotovoltaics),真空鍍層(VacuumCoatings),圈筒檢查(Webinspectionapplications)等。通過(guò)Filmetrics膜厚測(cè)量?jī)x*新反射式光譜測(cè)量技術(shù),*多4層透明薄膜厚度、n、k值及粗糙度能在數(shù)秒鐘測(cè)得。其應(yīng)用***，例如:半導(dǎo)體工業(yè):光阻、氧化物、氮化物。LCD工業(yè):間距(cellgaps)，ito電極、polyimide保護(hù)膜。光電鍍膜應(yīng)用:硬化鍍膜、抗反射鍍膜、過(guò)濾片。極易操作、快速、準(zhǔn)確、機(jī)身輕巧及價(jià)格便宜為其主要優(yōu)點(diǎn)，F(xiàn)ilmetrics提供以下型號(hào)以供選擇:F20:這簡(jiǎn)單入門型號(hào)有三種不同波長(zhǎng)選擇(由220nm紫外線區(qū)至1700nm近紅外線區(qū))為任意攜帶型，可以實(shí)現(xiàn)反射、膜厚、n、k值測(cè)量。F30:這型號(hào)可安裝在任何真空鍍膜機(jī)腔體外的窗口。可實(shí)時(shí)監(jiān)控長(zhǎng)晶速度、實(shí)時(shí)提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長(zhǎng)或固定測(cè)量時(shí)間間距。Filmetrics F3-SX膜厚儀**測(cè)試樣品F20-UV測(cè)厚范圍：1nm - 40μm；波長(zhǎng)：190-1100nm。

厚度測(cè)量產(chǎn)品：我們的膜厚測(cè)量產(chǎn)品可適用于各種應(yīng)用。我們大部分的產(chǎn)品皆備有庫(kù)存以便快速交貨。請(qǐng)瀏覽本公司網(wǎng)頁(yè)產(chǎn)品資訊或聯(lián)系我們的應(yīng)用工程師針對(duì)您的厚度測(cè)量需求提供立即協(xié)助。

單點(diǎn)厚度測(cè)量：

一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺(tái)式測(cè)量系統(tǒng)。 測(cè)量 1nm 到 13mm 的單層薄膜或多層薄膜堆。

大多數(shù)產(chǎn)品都有庫(kù)存而且可立即出貨。

微米(顯微)級(jí)別光斑尺寸厚度測(cè)量當(dāng)測(cè)量斑點(diǎn)只有1微米（μm）時(shí)，需要用您自己的顯微鏡或者用我們提供的整個(gè)系統(tǒng)。

F54包含的內(nèi)容：

集成光譜儀/光源裝置

MA-Cmount 安裝轉(zhuǎn)接器 

顯微鏡轉(zhuǎn)接器光纖連接線BK7 

參考材料TS-Focus-SiO2-4-10000 

厚度標(biāo)準(zhǔn) 聚焦/厚度標(biāo)準(zhǔn)4", 6" and 200mm 

參考晶圓真空泵備用燈

型號(hào)厚度范圍*波長(zhǎng)范圍

F54:20nm-40μm 380-850nm

F54-UV:4nm-30μm 190-1100nm

F54-NIR:40nm-100μm 950-1700nm

F54-EXR:20nm-100μm 380-1700nm

F54-UVX:4nm-100μm190-1700nm

*取決于材料與顯微鏡

額外的好處：每臺(tái)系統(tǒng)內(nèi)建超過(guò)130種材料庫(kù), 隨著不同應(yīng)用更超過(guò)數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助（周一 - 周五）網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級(jí)計(jì)劃 應(yīng)用：襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)，平整度。

F3-CS：

快速厚度測(cè)量可選配FILMeasure厚度測(cè)量軟件使厚度測(cè)量就像在平臺(tái)上放置你的樣品一樣容易, 軟件內(nèi)建所有常見的電介質(zhì)和半導(dǎo)體層（包括C，N和HT型聚對(duì)二甲苯）的光學(xué)常數(shù)(n和k）,厚度結(jié)果會(huì)及時(shí)的以直覺的測(cè)量結(jié)果顯示對(duì)于進(jìn)階使用者，可以進(jìn)一步以F3-CS測(cè)量折射率, F3-CS可在任何運(yùn)行Windows XP到 Windows8 64位作業(yè)系統(tǒng)的計(jì)算機(jī)上運(yùn)行, USB電纜則提供電源和通信功能.

包含的內(nèi)容：USB供電之光譜儀/光源裝置FILMeasure 8 軟件內(nèi)置樣品平臺(tái)BK7 參考材料四萬(wàn)小時(shí)光源壽命

額外的好處：應(yīng)用工程師可立刻提供幫助（周一 - 周五）網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng)) 可測(cè)量的層數(shù): 通常能夠測(cè)量薄膜堆內(nèi)的三層**薄膜。 在某些情況下，能夠測(cè)量到十幾層。NK值膜厚儀**樣品測(cè)試

F20-XT膜厚范圍：0.2μm - 450μm；波長(zhǎng)：1440-1690nm。盒厚膜厚儀24小時(shí)在線服務(wù)

Total Thickness Variation (TTV) 應(yīng)用

規(guī)格:

測(cè)量方式:

紅外干涉(非接觸式)

樣本尺寸:

50、75、100、200、300 mm， 也可以訂做客戶需要的產(chǎn)品尺寸

測(cè)量厚度:

15 — 780 μm (單探頭)

     3 mm (雙探頭總厚度測(cè)量)

掃瞄方式:

半自動(dòng)及全自動(dòng)型號(hào),

 另2D/3D掃瞄(Mapping)可選

襯底厚度測(cè)量: TTV、平均值、*小值、*大值、公差...

可選粗糙度: 20 — 1000? (RMS)

重復(fù)性:

0.1 μm (1 sigma)單探頭*

  0.8 μm

(1 sigma)雙探頭*

分辨率:

 10 nm

請(qǐng)?jiān)L問(wèn)我們的中文官網(wǎng)了解更多關(guān)于本產(chǎn)品的信息。

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，以科技創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)***管理的追求。岱美儀器技術(shù)服務(wù)深耕行業(yè)多年，始終以客戶的需求為向?qū)?，為客戶提?**的磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)不斷開拓創(chuàng)新，追求出色，以技術(shù)為先導(dǎo)，以產(chǎn)品為平臺(tái)，以應(yīng)用為重點(diǎn)，以服務(wù)為保證，不斷為客戶創(chuàng)造更高價(jià)值，提供更優(yōu)服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注儀器儀表行業(yè)。滿足市場(chǎng)需求，提高產(chǎn)品價(jià)值，是我們前行的力量。