據(jù)外媒報道,美國威斯康星大學麥迪遜分校(UWMadison)的研究人員們,已經(jīng)同合作伙伴聯(lián)手實現(xiàn)了一種突破性的方法。不僅**簡化了低成本高性能、無線靈活的金屬氧化物半導體場效應晶體管(MOSFET)的制造工藝,還克服了許多使用標準技術(shù)制造設(shè)備時所遇到的操作上的問題。該技術(shù)可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板,并在可穿戴電子設(shè)備和彎曲傳感器等領(lǐng)域派上大用場。研究人員稱,這項突破性的納米壓印平板印刷制造工藝,可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能,MOSFET已經(jīng)迅速取代了電子電路中常見的雙極晶體管。為了滿足不斷縮小的集成電路需求,MOSFET尺寸也在不斷變小,然而這也引發(fā)了一些問題。SmartNIL 非常適合對具有復雜納米結(jié)構(gòu)微流控芯片進行高精度圖案化,用在下一代藥 物研究和醫(yī)學診斷設(shè)備生產(chǎn)。EVG7200納米壓印供應商家
為了優(yōu)化工藝鏈,HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造,這是大批量生產(chǎn)的基石,不需要額外的壓印印章制造設(shè)備。作為一項特殊功能,該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境,以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復制。
通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案,HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導地位。
*根據(jù)ISO 14644
HERCULES ® NIL特征:
批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)
聯(lián)合預處理(清潔/涂層/烘烤/寒意)和SmartNIL ®
體積驗證的壓印技術(shù),具有出色的復制保真度
全自動壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復使用工作印章
包括工作印章制造能力
高功率光源,固化時間**快
優(yōu)化的模塊化平臺可實現(xiàn)高吞吐量
*分辨率取決于過程和模板 HERCULES NIL納米壓印有哪些品牌EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻(UV-NIL)產(chǎn)品線。
納米壓印應用一:鏡片成型
晶圓級光學(WLO)的制造得到EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設(shè)備的支持。使用從晶片尺寸的主印模復制來的工作印模,通過軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉(zhuǎn)移到光學聚合物材料中。EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,可以輕松地適應各種材料組合,以用于工作印模和微透鏡材料。EVG系統(tǒng)是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制的優(yōu)先。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進步。
在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心,雙方合作研發(fā)用于制造光學傳感器的新材料,以及適用于大眾化市場的晶圓級光學元件。(奧地利)與WINDACH(德國),2019年11月27日――EV集團(EVG)這一全球**的為微機電系統(tǒng)、納米技術(shù)與半導體市場提供晶圓鍵合與光刻設(shè)備的供應商,***宣布與高科技工業(yè)粘合劑制造商DELO在晶圓級光學元件(WLO)領(lǐng)域開展合作。這兩家公司均在光學傳感器制造領(lǐng)域處于**地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設(shè)備與DELO先進的粘合劑與抗蝕材料,在工業(yè),汽車,消費類電子產(chǎn)品市場開發(fā)與應用新型光學設(shè)備,例如生物特征身份認證,面部識別。目前雙方正在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心(位于EVG總部,奧地利Florian)以及DELO在德國Windach的總部展開合作。雙方致力于改善與加快材料研發(fā)周期。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應鏈的客戶與合作伙伴提供了開放的創(chuàng)新孵化器,旨在通過合作來縮短創(chuàng)新設(shè)備與應用的研發(fā)與推廣周期。該中心的基礎(chǔ)設(shè)施包括**技術(shù)的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設(shè)備,例如分步重復母版,透鏡模制,以及EVG的SmartNIL?技術(shù),晶圓鍵合與必要的測量設(shè)備。EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。
EVG ® 6200 NT特征:
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形補償序列
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導
遠程技術(shù)支持
多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)
敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG ® 6200 NT附加功能:
鍵對準
紅外對準
智能NIL ®
μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑(基板尺寸)
標準光刻:75至200 mm
柔軟的UV-NIL:75至200毫米
SmartNIL ®:**多至150mm
解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL
®
曝光源:汞光源或紫外線LED光源
對準:軟NIL:≤±0.5 μm;SmartNIL ®:≤±3微米
自動分離:柔紫外線NIL:不支持;SmartNIL
®:支持
工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持
EVG的納米壓印光刻(NIL) - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。步進重復納米壓印用于生物芯片
EVG提供不同的***積壓印系統(tǒng),大面積壓印機,微透鏡成型設(shè)備以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。EVG7200納米壓印供應商家
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù),可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化,并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。
注:*分辨率取決于過程和模板
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岱美儀器技術(shù)服務(上海)有限公司屬于儀器儀表的高新企業(yè),技術(shù)力量雄厚。公司致力于為客戶提供安全、質(zhì)量有保證的良好產(chǎn)品及服務,是一家有限責任公司企業(yè)。以滿足顧客要求為己任;以顧客永遠滿意為標準;以保持行業(yè)優(yōu)先為目標,提供***的磁記錄,半導體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務將以真誠的服務、創(chuàng)新的理念、***的產(chǎn)品,為彼此贏得全新的未來!