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光刻機(jī)輪廓儀國內(nèi)用戶

來源: 發(fā)布時(shí)間:2020-10-08

三、涵蓋面廣的2D、3D形貌參數(shù)分析:

  表面三維輪廓儀可測(cè)量300余種2D、3D參數(shù),無論加工的物件使用哪一種評(píng)定標(biāo)準(zhǔn),都可以提供***的檢測(cè)結(jié)果作為評(píng)定依據(jù),可輕松獲取被測(cè)物件精確的線粗糙度、面粗糙度、輪廓度等參數(shù)。

四、穩(wěn)定性強(qiáng),高重復(fù)性:

  儀器運(yùn)用高性能內(nèi)部抗震設(shè)計(jì),不受外部環(huán)境影響測(cè)量的準(zhǔn)確性。超精密的Z向掃描模塊和測(cè)量軟件完美結(jié)合,保證高重復(fù)性,將測(cè)量誤差降低到亞納米級(jí)別。


 三維表面輪廓儀是精密加工領(lǐng)域必不可少的檢測(cè)設(shè)備,它既保障了生產(chǎn)加工的準(zhǔn)確性,又提高了成品的出產(chǎn)效率,滿足用戶對(duì)各項(xiàng)2D,3D參數(shù)檢測(cè)需求的同時(shí),依然能夠保持高重復(fù)性,高穩(wěn)定性的運(yùn)行,其對(duì)精密加工所產(chǎn)生的的作用是舉足輕重的。 NanoX-2000/3000 系列 3D 光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測(cè)量(PSI)、白光垂直掃描干涉測(cè)量(VSI)和單色光。光刻機(jī)輪廓儀國內(nèi)用戶

輪廓儀在晶圓的IC封裝中的應(yīng)用:

晶圓的IC制造過程可簡(jiǎn)單看作是將光罩上的電路圖通過UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程,其中由于光罩中電路結(jié)構(gòu)尺寸極小,任何微小的黏附異物和下次均會(huì)導(dǎo)致制造的晶圓IC表面存在缺 陷,因此必須對(duì)光罩和晶圓的表面輪廓進(jìn)行檢測(cè),檢測(cè)相應(yīng)的輪廓尺寸。



白光輪廓儀的典型應(yīng)用:

對(duì)各種產(chǎn)品,不見和材料表面的平面度,粗糙度,波溫度,面型輪廓,表面缺 陷,磨損情況,腐蝕情況,孔隙間隙,臺(tái)階高度,完全變形情況,加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析。


干涉測(cè)量輪廓儀用途是什么輪廓儀可用于:散熱材料表面粗糙度分析(粗糙度控制),生物、醫(yī)藥新技術(shù),微流控器件。

    輪廓儀是用容易理解的機(jī)械技術(shù)測(cè)量薄膜厚度。它的工作原理是測(cè)量測(cè)量劃過薄膜的檢測(cè)筆的高度(見右圖)。輪廓儀的主要優(yōu)點(diǎn)是可以測(cè)量所有固體膜,包括不透明的厚金屬膜。更昂貴的系統(tǒng)能測(cè)繪整個(gè)表面輪廓。(有關(guān)我們的低成本光學(xué)輪廓儀的資訊,請(qǐng)點(diǎn)擊這里).獲取反射光譜指南然而輪廓儀也有不足之處。首先,樣本上必須有個(gè)小坎才能測(cè)量薄膜厚度,而小坎通常無法很標(biāo)準(zhǔn)(見圖)。這樣,標(biāo)定誤差加上機(jī)械漂移造成5%-10%的測(cè)量誤差。與此相比,光譜反射儀使用非接觸技術(shù),不需要任何樣本準(zhǔn)備就可以測(cè)量厚度。只需一秒鐘分析從薄膜反射的光就可確定薄膜厚度和折射率。光譜反射儀還可以測(cè)量多層薄膜。輪廓儀和光譜反射儀的主要優(yōu)點(diǎn)列表于下。如需更多光譜反射儀信息請(qǐng)?jiān)L問我們官網(wǎng)。

輪廓儀白光干涉的創(chuàng)始人:

邁爾爾遜

1852-1931

美國物理學(xué)家

曾從事光速的精密測(cè)量工作  

邁克爾遜首倡用光波波長作為長度基準(zhǔn)。

1881年,他發(fā)明了一種用以測(cè)量微小長度,折射率和光波波長的干涉儀,邁克爾遜干涉儀。

他和美國物理學(xué)家莫雷合作,進(jìn)行了***的邁克爾遜-莫雷實(shí)驗(yàn),否定了以太de 存在,為愛因斯坦建立狹義相對(duì)論奠定了基礎(chǔ)。

由于創(chuàng)制了精密的光學(xué)儀器和利用這些儀器所完成光譜學(xué)和基本度量學(xué)研究,邁克爾遜于1907年獲得諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)。 儀器運(yùn)用高性能內(nèi)部抗震設(shè)計(jì),不受外部環(huán)境影響測(cè)量的準(zhǔn)確性。

我們的輪廓儀有什么優(yōu)勢(shì)呢

世界先進(jìn)水平的產(chǎn)品技術(shù)

合理的產(chǎn)品價(jià)格

24小時(shí)到現(xiàn)場(chǎng)的本地化售后服務(wù)

無償產(chǎn)品技術(shù)培訓(xùn)和應(yīng)用技術(shù)支持

個(gè)性化的應(yīng)用軟件服務(wù)支持

合理的保質(zhì)期后產(chǎn)品服務(wù)

更佳的產(chǎn)品性價(jià)比和更優(yōu)解決方案


非接觸式輪廓儀(光學(xué)輪廓儀)是以白光干涉為原理制成的一款高精度微觀形貌測(cè)量?jī)x器,可測(cè)各類從超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級(jí)別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。(本段來自網(wǎng)絡(luò)) 包含了從納米到微米級(jí)別的輪廓、線粗糙度、面粗糙度等二維、三維參數(shù),作為評(píng)定該物件是否合格的標(biāo)準(zhǔn)。太陽能電池輪廓儀干涉測(cè)量應(yīng)用

晶圓的IC制造過程可簡(jiǎn)單看作是將光罩上的電路圖通過UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程。光刻機(jī)輪廓儀國內(nèi)用戶

NanoX-系列產(chǎn)品PCB測(cè)量應(yīng)用測(cè)試案例

測(cè)量種類

?

基板A Sold Mask 3D形貌、尺寸

?

基板A Sold Mask粗糙度

?

基板A 綠油區(qū)域3D 形貌

?

基板A 綠油區(qū)域 Pad 粗糙度

?

基板A 綠油區(qū)域粗糙度

?

基板A 綠油區(qū)域 pad寬度

?

基板A Trace 3D形貌和尺寸

?

基板B 背面 Pad


NanoX-8000 系統(tǒng)主要性能

? 菜單式系統(tǒng)設(shè)置,一鍵式操作,自動(dòng)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)

? 一鍵式系統(tǒng)校準(zhǔn)

? 支持連接MES系統(tǒng),數(shù)據(jù)可導(dǎo)入SPC

? 具備異常報(bào)警,急停等功能,報(bào)警信息可儲(chǔ)存

? MTBF ≥ 1500 hrs

? 產(chǎn)能 : 45s/點(diǎn) (移動(dòng) + 聚焦 + 測(cè)量)(掃描范圍 50um)

? 具備 Global alignment & Unit alignment

? 自動(dòng)聚焦范圍 : ± 0.3mm

? XY運(yùn)動(dòng)速度 **快

光刻機(jī)輪廓儀國內(nèi)用戶

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司專注技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā),發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大。公司目前擁有較多的高技術(shù)人才,以不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力,加快企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新,實(shí)現(xiàn)穩(wěn)健生產(chǎn)經(jīng)營。岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司主營業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā),堅(jiān)持“質(zhì)量保證、良好服務(wù)、顧客滿意”的質(zhì)量方針,贏得廣大客戶的支持和信賴。公司深耕磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā),正積蓄著更大的能量,向更廣闊的空間、更寬泛的領(lǐng)域拓展。