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膜厚儀膜厚儀技術(shù)服務(wù)

來源: 發(fā)布時間:2020-10-19

濾光片整平光譜響應(yīng)。

ND#0.5 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#0.5 衰減整平濾波器.

ND#1 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#1 衰減整平濾波器.

ND#2 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#2 衰減整平濾波器.

420nm 高通濾波器.420nm 高通濾波器於濾波器架.

515nm 高通濾波器.515nm 高通濾波器於濾波器架.

520nm 高通濾波器 +ND1.520nm 高通濾波器 + ND#1 十倍衰減整平濾波器.

520nm 高通濾波器 + ND#2520nm 高通濾波器 + ND#2 一百倍衰減整平濾波器.

550nm 高通濾波器550nm 高通濾波器於濾波器架. F40-EXR范圍:20nm-120μm;波長:400-1700nm。膜厚儀膜厚儀技術(shù)服務(wù)

FSM 8018 VITE測試系列設(shè)備

VITE技術(shù)介紹:

VITE是傅里葉頻域技術(shù),利用近紅外光源的相位剪切技術(shù)(Phase shear technology)

設(shè)備介紹

適用于所有可讓近紅外線通過的材料:硅、藍(lán)寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石  英、聚合物…………

應(yīng)用:

   襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)

   平整度

   厚度變化 (TTV)

   溝槽深度

   過孔尺寸、深度、側(cè)壁角度

   粗糙度

薄膜厚度

不同半導(dǎo)體材料的厚度

   環(huán)氧樹脂厚度

   襯底翹曲度

   晶圓凸點(diǎn)高度(bump height)

MEMS 薄膜測量

TSV 深度、側(cè)壁角度...


高精密儀器膜厚儀特點(diǎn)F10-AR在用戶定義的任何波長范圍內(nèi)都能進(jìn)行比較低、比較高和平均反射測試。

厚度測量產(chǎn)品:我們的膜厚測量產(chǎn)品可適用于各種應(yīng)用。我們大部分的產(chǎn)品皆備有庫存以便快速交貨。請瀏覽本公司網(wǎng)頁產(chǎn)品資訊或聯(lián)系我們的應(yīng)用工程師針對您的厚度測量需求提供立即協(xié)助。


單點(diǎn)厚度測量:

一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺式測量系統(tǒng)。 測量 1nm 到 13mm 的單層薄膜或多層薄膜堆。

大多數(shù)產(chǎn)品都有庫存而且可立即出貨。

F20全世界銷量**hao的薄膜測量系統(tǒng)。有各種不同附件和波長覆蓋范圍。


微米(顯微)級別光斑尺寸厚度測量當(dāng)測量斑點(diǎn)只有1微米(μm)時,需要用您自己的顯微鏡或者用我們提供的整個系統(tǒng)。

厚度標(biāo)準(zhǔn):

所有 Filmetrics 厚度標(biāo)準(zhǔn)都是得到驗(yàn)證可追溯的 NIST 標(biāo)準(zhǔn)。

S-Custom-NIST:在客戶提供的樣品上定制可追溯的 NIST 厚度校準(zhǔn)。 

TS-Focus-SiO2-4-3100SiO2-on-Si :厚度標(biāo)準(zhǔn),外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準(zhǔn),厚度大約 3100A,4" 晶圓。

TS-Focus-SiO2-4-10000SiO2-on-Si :厚度標(biāo)準(zhǔn),外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準(zhǔn),厚度大約 10000A,4" 晶圓。

TS-Hardcoat-4μm:丙烯酸塑料硬涂層厚度標(biāo)準(zhǔn),厚度大約 4um,直徑 2"。

TS-Hardcoat-Trans:背面透明的硬涂層,可用于透射測量。

TS-Parylene-4um:丙烯酸塑料上的聚對二甲苯厚度標(biāo)準(zhǔn),厚度大約 4um ,直徑2"。

TS-Parylene-8um:硅基上的聚對二甲苯厚度標(biāo)準(zhǔn),厚度大約 8um,23mm x 23mm。

TS-SiO2-4-7200:硅基上的二氧化硅厚度標(biāo)準(zhǔn),厚度大約 7200A,4" 晶圓。

TS-SiO2-4-7200-NIST:可追溯的 NIST SiO2-4-7200 厚度標(biāo)準(zhǔn)。

TS-SiO2-6-Multi:多厚度硅基上的二氧化硅標(biāo)準(zhǔn): 125埃米,250埃米,500埃米,1000埃米,5000埃米,和 10000埃米 (+/-10%誤差),6英寸晶圓。TS-SS3-SiO2-8000:專為SS-3樣品平臺設(shè)計(jì)之二氧化硅厚度標(biāo)準(zhǔn)片,厚度大約為 8000A。 可選粗糙度: 20 — 1000? (RMS)。

FSM 360 拉曼光譜系統(tǒng)

FSM紫外光和可見光拉曼系統(tǒng), 型號360

FSM拉曼的應(yīng)用

l  局部應(yīng)力;

l  局部化學(xué)成分

l  局部損傷

紫外光可測試的深度

***的薄膜(SOI 或 Si-SiGe)或者厚樣的近表面局部應(yīng)力



可見光可測試的深度

良好的厚樣以及多層樣品的局部應(yīng)力

系統(tǒng)測試應(yīng)力的精度小于15mpa (0.03cm-1)

全自動的200mm和300mm硅片檢查

自動檢驗(yàn)和聚焦的能力。


以上的信息比較有限,如果您有更加詳細(xì)的技術(shù)問題,請聯(lián)系我們的技術(shù)人員為您解答?;蛘咴L問我們的官網(wǎng)了解更多信息。 F3-sX 系列測厚范圍:10μm - 3mm;波長:960-1580nm。晶圓膜厚儀價格

厚度變化 (TTV) ;溝槽深度;過孔尺寸、深度、側(cè)壁角度。膜厚儀膜厚儀技術(shù)服務(wù)

F54包含的內(nèi)容:

集成光譜儀/光源裝置

MA-Cmount 安裝轉(zhuǎn)接器 

顯微鏡轉(zhuǎn)接器光纖連接線BK7 

參考材料TS-Focus-SiO2-4-10000 

厚度標(biāo)準(zhǔn) 聚焦/厚度標(biāo)準(zhǔn)4", 6" and 200mm 

參考晶圓真空泵備用燈

型號厚度范圍*波長范圍

F54:20nm-40μm 380-850nm

F54-UV:4nm-30μm 190-1100nm

F54-NIR:40nm-100μm 950-1700nm

F54-EXR:20nm-100μm 380-1700nm

F54-UVX:4nm-100μm190-1700nm

*取決于材料與顯微鏡

額外的好處:每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫, 隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計(jì)劃 膜厚儀膜厚儀技術(shù)服務(wù)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大,現(xiàn)有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì),各種專業(yè)設(shè)備齊全。在岱美儀器技術(shù)服務(wù)近多年發(fā)展歷史,公司旗下現(xiàn)有品牌岱美儀器技術(shù)服務(wù)等。公司以用心服務(wù)為重點(diǎn)價值,希望通過我們的專業(yè)水平和不懈努力,將磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】等業(yè)務(wù)進(jìn)行到底。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終以質(zhì)量為發(fā)展,把顧客的滿意作為公司發(fā)展的動力,致力于為顧客帶來***的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)。