SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。

*分辨率取決于過程和模板

如果需要詳細(xì)的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機(jī)以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。三維芯片納米壓印質(zhì)量怎么樣

EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統(tǒng)。

用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)®技術(shù)，在100毫米范圍內(nèi)。

EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以**小的占位面積提供了***的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件，**短的掩模和模具更換時(shí)間以及有效的全球服務(wù)支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準(zhǔn)選項(xiàng)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。

3D IC納米壓印技術(shù)支持EVG620 NT支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準(zhǔn)選項(xiàng)。

HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設(shè)備和應(yīng)用程序的生產(chǎn)，包括用于增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(shí)（AR / VR）頭戴式耳機(jī)的光學(xué)設(shè)備，3D傳感器，生物醫(yī)學(xué)設(shè)備，納米光子學(xué)和等離激元學(xué)。

HERCULES ® NIL特征：

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺，具有多達(dá)八個(gè)可交換過程模塊（壓印和預(yù)處理）

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D

適用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取決于過程和模板

IQ Aligner UV-NIL 自動化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

應(yīng)用：用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

IQ Aligner UV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進(jìn)行微成型和納米壓印工藝，非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統(tǒng)從從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝，可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應(yīng)。此外，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝，包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識。EV Group專有的卡盤設(shè)計(jì)可為高產(chǎn)量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機(jī)制。

EVG的納米壓印設(shè)備已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為第三代（550 mm x 650 mm）的基板上實(shí)現(xiàn)。

    NIL系統(tǒng)肖特增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)負(fù)責(zé)人RuedigerSprengard博士表示：“將高折射率玻璃晶圓的制造擴(kuò)展到300-mm，對于實(shí)現(xiàn)我們客戶滿足當(dāng)今和未來**AR/MR設(shè)備不斷增長的市場需求所需的規(guī)模經(jīng)濟(jì)產(chǎn)量來說至關(guān)重要。通過攜手合作，EVG和肖特彰顯了當(dāng)今300-mm高折射率玻璃制造的設(shè)備和供應(yīng)鏈的就緒性。”在此之前，使用光刻/納米壓印技術(shù)對具有光子學(xué)應(yīng)用結(jié)構(gòu)的玻璃基板進(jìn)行圖案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設(shè)備推向大眾消費(fèi)和工業(yè)市場邁出的重要一步。不過，在這些較大的基板上保持高基板質(zhì)量和工藝均勻性是很難控制的，需要先進(jìn)的自動化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術(shù)得益于多年的研究、開發(fā)和實(shí)驗(yàn)，旨在滿足納米圖案成形的需求，經(jīng)過了現(xiàn)場驗(yàn)證，能夠輕松從晶圓級樣品尺寸擴(kuò)展到大面積基板。去年六月，EVG推出了HERCULES?NIL300mm，將SmartNIL引入300-mm制造，滿足各種設(shè)備和應(yīng)用的生產(chǎn)需求，其中包括AR、MR和虛擬現(xiàn)實(shí)（VR）頭戴顯示設(shè)備的光學(xué)器件以及3D傳感器、生物醫(yī)療設(shè)備、納米光子學(xué)和等離子電子學(xué)。集成到SmartNIL?UV-NIL系統(tǒng)的全模塊化EVG?HERCULES?。EVG的熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高 效且靈活的制造技術(shù)，具有非常高的復(fù)制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。紫外光納米壓印要多少錢

岱美儀器代理的SmartNIL是一項(xiàng)關(guān)鍵的啟用技術(shù)，可用于顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中的許多新創(chuàng)新。三維芯片納米壓印質(zhì)量怎么樣

EVG ® 520 HE熱壓印系統(tǒng)

特色：經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓印系統(tǒng)，可滿足比較高要求

EVG520 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的系統(tǒng)可以接受直徑比較大為200 mm的基板，并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個(gè)聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng)，提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。

如果需要詳細(xì)的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 三維芯片納米壓印質(zhì)量怎么樣

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型的公司。公司自成立以來，以質(zhì)量為發(fā)展，讓匠心彌散在每個(gè)細(xì)節(jié)，公司旗下磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛。公司從事儀器儀表多年，有著創(chuàng)新的設(shè)計(jì)、強(qiáng)大的技術(shù)，還有一批**的專業(yè)化的隊(duì)伍，確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)憑借創(chuàng)新的產(chǎn)品、專業(yè)的服務(wù)、眾多的成功案例積累起來的聲譽(yù)和口碑，讓企業(yè)發(fā)展再上新高。