SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對(duì)小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長(zhǎng)期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。

*分辨率取決于過(guò)程和模板

如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 SmartNIL技術(shù)可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無(wú)限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。臺(tái)積電納米壓印摩擦學(xué)應(yīng)用

IQ Aligner UV-NIL特征：

用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用

用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用

三個(gè)**控制的Z軸，可在印模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償

三個(gè)**控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制

利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動(dòng)浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線粘合功能

IQ Aligner UV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型

曝光源：汞光源

對(duì)準(zhǔn)：≤±0.5微米

自動(dòng)分離：支持的

前處理：涂層：水坑點(diǎn)膠（可選）

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

晶圓片納米壓印可以試用嗎EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)有： EVG?610，EVG?620NT，EVG?6200NT，EVG?720，EVG?7200等。

EVG ® 520 HE熱壓印系統(tǒng)

特色：經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓印系統(tǒng)，可滿足比較高要求

EVG520 HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證的系統(tǒng)可以接受直徑比較大為200 mm的基板，并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個(gè)聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng)，提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。

如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。

EVG ® 520 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應(yīng)用

自動(dòng)化壓花工藝

EVG專有的**對(duì)準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印

氣動(dòng)壓花選項(xiàng)

軟件控制的流程執(zhí)行

EVG ® 520 HE技術(shù)數(shù)據(jù)

加熱器尺寸：150毫米，200毫米

比較大基板尺寸：150毫米，200毫米

**小基板尺寸：?jiǎn)涡酒?00毫米

比較大接觸力：10、20、60、100 kN

比較高溫度：標(biāo)準(zhǔn)：350°C；可選：550°C

粘合卡盤系統(tǒng)/對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

150毫米加熱器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200

200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT

真空：

標(biāo)準(zhǔn)：0.1毫巴

可選：0.00001 mbar 納米壓印設(shè)備哪個(gè)好？預(yù)墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。

HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統(tǒng)達(dá)300毫米

結(jié)合EVG的SmartNIL一個(gè)完全模塊化平臺(tái)®技術(shù)支持AR / VR，3D傳感器，光子和生物技術(shù)生產(chǎn)應(yīng)用

EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個(gè)完全集成的跟 蹤系統(tǒng)，將清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻（NIL）工藝結(jié)合在一個(gè)平臺(tái)上，用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個(gè)基于EVG的全模塊化設(shè)備平臺(tái)和可交換模塊的NIL系統(tǒng)，可為客戶提供比較大的自由度來(lái)配置他們的系統(tǒng)，以比較好地滿足其生產(chǎn)需求，包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。

EVG ? 610也可以設(shè)計(jì)成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)。上海掩模對(duì)準(zhǔn)納米壓印

EVG的熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高 效且靈活的制造技術(shù)，具有非常高的復(fù)制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。臺(tái)積電納米壓印摩擦學(xué)應(yīng)用

EVG ® 720自動(dòng)SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

自動(dòng)全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米，設(shè)有EVG's專有SmartNIL ®技術(shù)

EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識(shí)，能夠大規(guī)模制造微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結(jié)構(gòu)，具有****的吞吐量，非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件，例如衍射光學(xué)元件（ DOEs）。

*分辨率取決于過(guò)程和模板

如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。也可以訪問(wèn)官網(wǎng)，獲得更多信息。 臺(tái)積電納米壓印摩擦學(xué)應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司是一家其他型類企業(yè)，積極探索行業(yè)發(fā)展，努力實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品創(chuàng)新。是一家有限責(zé)任公司企業(yè)，隨著市場(chǎng)的發(fā)展和生產(chǎn)的需求，與多家企業(yè)合作研究，在原有產(chǎn)品的基礎(chǔ)上經(jīng)過(guò)不斷改進(jìn)，追求新型，在強(qiáng)化內(nèi)部管理，完善結(jié)構(gòu)調(diào)整的同時(shí)，良好的質(zhì)量、合理的價(jià)格、完善的服務(wù)，在業(yè)界受到寬泛好評(píng)。公司擁有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)，具有磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)等多項(xiàng)業(yè)務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)以創(chuàng)造***產(chǎn)品及服務(wù)的理念，打造高指標(biāo)的服務(wù)，引導(dǎo)行業(yè)的發(fā)展。