公司嚴(yán)格執(zhí)行 ISO9001:2008 質(zhì)量管理體系與 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理標(biāo)準(zhǔn),通過工藝革新與設(shè)備升級(jí)實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)過程的低污染、低能耗。注塑廢氣、噴涂廢氣經(jīng)多級(jí)凈化處理后達(dá)標(biāo)排放,生活污水經(jīng)預(yù)處理后納入市政管網(wǎng),冷卻水循環(huán)利用率達(dá) 100%。危險(xiǎn)廢物(如廢機(jī)油、含油抹布)均委托專業(yè)機(jī)構(gòu)安全處置,一般工業(yè)固廢(如邊角料、廢包裝材料)則通過回收或再生利用實(shí)現(xiàn)資源循環(huán)。 公司持續(xù)研發(fā)環(huán)保型材料,例如開發(fā)水性感光膠替代傳統(tǒng)油性產(chǎn)品,降低有機(jī)溶劑使用量;優(yōu)化錫膏助焊劑配方,減少焊接過程中的煙霧與異味。此外,其 BGA 助焊膏采用低溫固化技術(shù),在提升焊接效率的同時(shí)降低能源消耗。通過與科研機(jī)構(gòu)合作,公...
生產(chǎn)設(shè)備與工藝:從設(shè)計(jì)到制造的“木桶效應(yīng)” 前端設(shè)備的進(jìn)口依賴 光刻膠生產(chǎn)所需的超臨界流體萃取設(shè)備、納米砂磨機(jī)等關(guān)鍵裝備被德國耐馳、日本光洋等企業(yè)壟斷。國內(nèi)企業(yè)如拓帕實(shí)業(yè)雖推出砂磨機(jī)產(chǎn)品,但在研磨精度(如納米級(jí)顆粒分散)上仍落后于國際水平。 工藝集成的系統(tǒng)性短板 光刻膠生產(chǎn)涉及精密混合、過濾、包裝等環(huán)節(jié),需全流程數(shù)字化控制。國內(nèi)企業(yè)因缺乏MES(制造執(zhí)行系統(tǒng))等智能管理工具,導(dǎo)致批次一致性波動(dòng)。例如,鼎龍股份潛江工廠的KrF光刻膠產(chǎn)線雖實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化,但工藝參數(shù)波動(dòng)仍較日本同類產(chǎn)線高約10%。 光刻...
綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟(jì) 公司采用水性光刻膠技術(shù),溶劑揮發(fā)量較傳統(tǒng)產(chǎn)品降低60%,符合歐盟REACH法規(guī)和國內(nèi)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。同時(shí),其光刻膠廢液回收項(xiàng)目已投產(chǎn),通過膜分離+精餾技術(shù)實(shí)現(xiàn)90%溶劑循環(huán)利用,年減排VOCs(揮發(fā)性有機(jī)物)超100噸。 低碳供應(yīng)鏈管理 吉田半導(dǎo)體與上游供應(yīng)商合作開發(fā)生物基樹脂,部分產(chǎn)品采用可再生原料(如植物基丙烯酸酯),碳排放強(qiáng)度較傳統(tǒng)工藝降低30%。這一舉措使其在光伏電池和新能源汽車領(lǐng)域獲得客戶青睞,相關(guān)訂單占比從2022年的15%提升至2023年的25%。 納米壓印光刻膠哪家強(qiáng)?吉田半導(dǎo)體附著力提升 30%!青海阻焊油墨光刻膠品牌 公司...
吉田半導(dǎo)體 YK-300 正性光刻膠:半導(dǎo)體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性,成為 45nm 及以上制程的理想選擇。 YK-300 正性光刻膠分辨率達(dá) 0.35μm,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,適用于半導(dǎo)體芯片前道工藝。其耐溶劑性與絕緣阻抗性能突出,在顯影與蝕刻過程中保持圖形穩(wěn)定性。產(chǎn)品已通過中芯國際量產(chǎn)驗(yàn)證,良率達(dá) 98% 以上,生產(chǎn)過程執(zhí)行 ISO9001 標(biāo)準(zhǔn),幫助客戶降低封裝成本 20% 以上。支持小批量試產(chǎn)與定制化需求,為國產(chǎn)芯片制造提供穩(wěn)定材料支撐。 松山湖半導(dǎo)體材料廠家吉田,全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)!安徽LED光刻膠工廠 技術(shù)趨勢(shì)與挑...
吉田半導(dǎo)體厚板光刻膠 JT-3001:國產(chǎn)技術(shù)助力 PCB 行業(yè)升級(jí) JT-3001 厚板光刻膠支持 500nm/min 深蝕刻,成為國產(chǎn) PCB 電路板制造推薦材料。 吉田半導(dǎo)體自主研發(fā)的 JT-3001 厚板光刻膠,分辨率 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,適用于高密度 PCB 制造。其無鹵無鉛配方通過歐盟 RoHS 認(rèn)證,已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與全自動(dòng)化工藝,批次穩(wěn)定性達(dá) 99.5%,幫助客戶提升生產(chǎn)效率 20%,加速國產(chǎn) PCB 行業(yè)技術(shù)升級(jí),推動(dòng) PCB 行業(yè)國產(chǎn)化進(jìn)程。 光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體,23 年研發(fā)經(jīng)驗(yàn),全自動(dòng)化生...
吉田半導(dǎo)體柯圖泰全系列感光膠:進(jìn)口品牌品質(zhì),本地化服務(wù)支持 柯圖泰全系列感光膠依托進(jìn)口技術(shù),提供高性價(jià)比的絲網(wǎng)印刷解決方案。 吉田半導(dǎo)體代理的柯圖泰全系列感光膠(如 PLUS 6000、Autosol 2000),源自美國先進(jìn)配方,分辨率達(dá) 120 線 / 英寸,適用于玻璃、陶瓷等多種基材。產(chǎn)品通過 SGS 認(rèn)證,符合電子行業(yè)有害物質(zhì)限制要求,其高感光度與耐摩擦性,確保絲網(wǎng)印刷的清晰度與耐久性。公司提供技術(shù)參數(shù)匹配、制版工藝指導(dǎo)等本地化服務(wù),幫助客戶優(yōu)化生產(chǎn)流程,降低材料損耗。 光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體,23 年研發(fā)經(jīng)驗(yàn),全自動(dòng)化生產(chǎn)保障品質(zhì)!山東PCB光刻膠 納米電子器件制造 ...
定義與特性 正性光刻膠是一種在曝光后,曝光區(qū)域會(huì)溶解于顯影液的光敏材料,形成與掩膜版(Mask)圖案一致的圖形。與負(fù)性光刻膠(未曝光區(qū)域溶解)相比,其優(yōu)勢(shì)是分辨率高、圖案邊緣清晰,是半導(dǎo)體制造(尤其是制程)的主流選擇。 化學(xué)組成與工作原理 主要成分 ? 樹脂(成膜劑): ? 傳統(tǒng)正性膠:采用**酚醛樹脂(Novolak)與重氮萘醌(DNQ,光敏劑)**的復(fù)合體系(PAC體系),占比約80%-90%。 ? 化學(xué)增幅型(用于DUV/EUV):含環(huán)化烯烴樹脂或含氟聚合物,搭配...
客戶需求導(dǎo)向 支持特殊工藝需求定制,例如為客戶開發(fā)光刻膠配方,提供從材料選擇到工藝優(yōu)化的全流程技術(shù)支持,尤其在中小批量訂單中靈活性優(yōu)勢(shì)。 快速交付與售后支持 作為國內(nèi)廠商,吉田半導(dǎo)體依托松山湖產(chǎn)業(yè)集群資源,交貨周期較進(jìn)口品牌縮短 30%-50%,并提供 7×24 小時(shí)技術(shù)響應(yīng),降低客戶供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)。 性價(jià)比優(yōu)勢(shì) 國產(chǎn)光刻膠價(jià)格普遍低于進(jìn)口產(chǎn)品 30%-50%,吉田半導(dǎo)體通過規(guī)?;a(chǎn)和供應(yīng)鏈優(yōu)化進(jìn)一步壓縮成本,同時(shí)保持性能對(duì)標(biāo)國際品牌,適合對(duì)成本敏感的中低端市場(chǎng)及國產(chǎn)替代需求。 政策與市場(chǎng)機(jī)遇 受益于國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化趨勢(shì),吉田半導(dǎo)體作為 “專精特...
光刻膠的納米級(jí)性能要求 超高分辨率:需承受電子束(10keV以上)或EUV(13.5nm波長)的轟擊,避免散射導(dǎo)致的邊緣模糊,目前商用EUV膠分辨率已達(dá)13nm(3nm制程)。 低缺陷率:納米級(jí)結(jié)構(gòu)對(duì)膠層中的顆?;蚧瘜W(xué)不均性極其敏感,需通過化學(xué)增幅型配方(如酸催化交聯(lián))提升對(duì)比度和抗刻蝕性。 多功能性:兼容多種基底(柔性聚合物、陶瓷)和后處理工藝(干法刻蝕、原子層沉積),例如用于柔性電子的可拉伸光刻膠。 技術(shù)挑戰(zhàn)與前沿方向 ? EUV光刻膠優(yōu)化:解決曝光后酸擴(kuò)散導(dǎo)致的線寬波動(dòng),開發(fā)含氟聚合物或金屬有機(jī)材料以提高靈敏...
技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)重構(gòu)的臨界點(diǎn) 光刻膠技術(shù)的加速突破正在推動(dòng)芯片制造行業(yè)進(jìn)入“材料定義制程”的新階段。中國在政策支持和資本推動(dòng)下,已在KrF/ArF領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)局部突破,但EUV等領(lǐng)域仍需5-10年才能實(shí)現(xiàn)替代。未來3-5年,EUV光刻膠研發(fā)、原材料國產(chǎn)化及客戶認(rèn)證進(jìn)度將成為影響產(chǎn)業(yè)格局的主要變量。國際競(jìng)爭(zhēng)將從單純的技術(shù)比拼轉(zhuǎn)向“專利布局+供應(yīng)鏈韌性+生態(tài)協(xié)同”的綜合較量,而中國能否在這場(chǎng)變革中占據(jù)先機(jī),取決于對(duì)“卡脖子”環(huán)節(jié)的持續(xù)攻關(guān)和產(chǎn)業(yè)鏈的深度整合。 告別顯影殘留!化學(xué)增幅型光刻膠助力封裝。無錫阻焊油墨光刻膠報(bào)價(jià)以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝為,吉田半導(dǎo)體打造環(huán)保光刻...
吉田半導(dǎo)體柯圖泰全系列感光膠:進(jìn)口品牌品質(zhì),本地化服務(wù)支持 柯圖泰全系列感光膠依托進(jìn)口技術(shù),提供高性價(jià)比的絲網(wǎng)印刷解決方案。 吉田半導(dǎo)體代理的柯圖泰全系列感光膠(如 PLUS 6000、Autosol 2000),源自美國先進(jìn)配方,分辨率達(dá) 120 線 / 英寸,適用于玻璃、陶瓷等多種基材。產(chǎn)品通過 SGS 認(rèn)證,符合電子行業(yè)有害物質(zhì)限制要求,其高感光度與耐摩擦性,確保絲網(wǎng)印刷的清晰度與耐久性。公司提供技術(shù)參數(shù)匹配、制版工藝指導(dǎo)等本地化服務(wù),幫助客戶優(yōu)化生產(chǎn)流程,降低材料損耗。 松山湖半導(dǎo)體材料廠家吉田,全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)!煙臺(tái)厚膜光刻膠感光膠 生產(chǎn)設(shè)備與工藝:從設(shè)計(jì)到...
技術(shù)挑戰(zhàn) 光刻膠作為半導(dǎo)體、顯示面板等高級(jí)制造的材料,其技術(shù)挑戰(zhàn)主要集中在材料性能優(yōu)化、制程精度匹配、復(fù)雜環(huán)境適應(yīng)性以及產(chǎn)業(yè)自主化突破等方面 吉田半導(dǎo)體:以技術(shù)革新驅(qū)動(dòng)光刻膠產(chǎn)業(yè)升級(jí)。廈門負(fù)性光刻膠感光膠 ? 高分辨率:隨著半導(dǎo)體制程向3nm、2nm推進(jìn),需開發(fā)更高精度的EUV光刻膠,解決光斑擴(kuò)散、線寬控制等問題。 ? 靈敏度與穩(wěn)定性:平衡感光速度和圖案抗蝕能力,適應(yīng)極紫外光(13.5nm)的低能量曝光。 ? 國產(chǎn)化替代:目前光刻膠(如EUV、ArF浸沒式)長期被日本、美國企業(yè)壟斷,國內(nèi)正加速研發(fā)突破。 ...
光伏電池(半導(dǎo)體級(jí)延伸) ? HJT/TOPCon電池:在硅片表面圖形化金屬電極,使用高靈敏度光刻膠(曝光能量≤50mJ/cm2),線寬≤20μm,降低遮光損失。 ? 鈣鈦礦電池:用于電極圖案化和層間隔離,需耐有機(jī)溶劑(適應(yīng)溶液涂布工藝)。 納米壓印技術(shù)(下一代光刻) ? 納米壓印光刻膠:通過模具壓印實(shí)現(xiàn)10nm級(jí)分辨率,用于3D NAND存儲(chǔ)孔陣列(直徑≤20nm)、量子點(diǎn)顯示陣列等。 微流控與生物醫(yī)療 ? 微流控芯片:制造微米級(jí)流道(寬度10-100μm),材料需生物相容性(如PDMS...
國家戰(zhàn)略支持 《國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金三期規(guī)劃》將光刻膠列為重點(diǎn)投資領(lǐng)域,計(jì)劃投入超500億元支持研發(fā)。工信部對(duì)通過驗(yàn)證的企業(yè)給予稅收減免和設(shè)備采購補(bǔ)貼,單家企業(yè)比較高補(bǔ)貼可達(dá)研發(fā)投入的30%。 地方產(chǎn)業(yè)協(xié)同 濟(jì)南設(shè)立寬禁帶半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)專項(xiàng)基金,深圳國際半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)展覽會(huì)(2025年4月)吸引全球300余家企業(yè)參展,推動(dòng)技術(shù)交流。 資本助力產(chǎn)能擴(kuò)張 恒坤新材通過科創(chuàng)板IPO募資15億元,擴(kuò)大KrF光刻膠產(chǎn)能并布局集成電路前驅(qū)體項(xiàng)目。彤程新材半導(dǎo)體光刻膠業(yè)務(wù)2024年上半年?duì)I收增長54.43%,ArF光刻膠開始形成銷售。...
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司憑借技術(shù)創(chuàng)新與質(zhì)量優(yōu)勢(shì),在半導(dǎo)體材料行業(yè)占據(jù)重要地位。公司聚焦光刻膠、電子膠、錫膏等產(chǎn)品,其中納米壓印光刻膠可耐受 250℃高溫及強(qiáng)酸強(qiáng)堿環(huán)境,適用于高精度納米結(jié)構(gòu)制造;LCD 光刻膠以高穩(wěn)定性和精細(xì)度成為顯示面板行業(yè)的推薦材料。此外,公司還提供焊片、靶材等配套材料,滿足客戶多元化需求。 在技術(shù)層面,吉田半導(dǎo)體通過自主研發(fā)與國際合作結(jié)合,持續(xù)優(yōu)化生產(chǎn)工藝,實(shí)現(xiàn)全流程自動(dòng)化控制。其生產(chǎn)基地配備先進(jìn)設(shè)備,并嚴(yán)格執(zhí)行國際標(biāo)準(zhǔn),確保產(chǎn)品性能達(dá)到國際水平。同時(shí),公司注重人才培養(yǎng)與引進(jìn),匯聚化工、材料學(xué)等領(lǐng)域的專業(yè)團(tuán)隊(duì),為技術(shù)創(chuàng)新提供堅(jiān)實(shí)支撐。未來,吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)以...
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,主要涵蓋厚板、負(fù)性、正性、納米壓印及光刻膠等類別,以滿足不同領(lǐng)域的需求。 厚板光刻膠:JT-3001 型號(hào),具有優(yōu)異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),保質(zhì)期 1 年。適用于對(duì)精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝,如特定電路板制造。 負(fù)性光刻膠 SU-3 負(fù)性光刻膠:分辨率優(yōu)異,對(duì)比度良好,曝光靈敏度高,光源適應(yīng),重量 100g。常用于對(duì)曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。 正性光刻膠 半導(dǎo)體芯片制造,用于精細(xì)電路圖案光刻,決定芯片性能與集成度。常...
應(yīng)用場(chǎng)景 半導(dǎo)體集成電路(IC)制造: ? 邏輯芯片(CPU/GPU):在28nm以下制程中,正性DUV/EUV膠用于晶體管、互連布線的精細(xì)圖案化(如10nm節(jié)點(diǎn)線寬只有100nm)。 ? 存儲(chǔ)芯片(DRAM/NAND):3D堆疊結(jié)構(gòu)中,正性膠用于層間接觸孔(Contact)和柵極(Gate)的高深寬比圖形(深寬比>10:1)。 平板顯示(LCD/OLED): ? 彩色濾光片(CF):制作黑矩陣(BM)和彩色層(R/G/B),要求高透光率和邊緣銳利度(線寬5-10μm)。 ...
制版光刻膠應(yīng)用場(chǎng)景:印刷電路板(FPC)、觸摸屏(TP)的掩膜版制作,以及光學(xué)元件(如衍射光柵)的微納加工。特點(diǎn):高分辨率與耐化學(xué)性,確保模板的長期使用壽命。 水性光刻膠(JT-1200)應(yīng)用場(chǎng)景:環(huán)保要求高的電子元件(如醫(yī)療設(shè)備、汽車電子)的制造,以及柔性電路的生產(chǎn)。特點(diǎn):以水為溶劑,低 VOC 排放,符合 RoHS 和 REACH 環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。 水油兩用光刻膠(JT-2001/SR-3308)適用于混合工藝場(chǎng)景(如部分環(huán)節(jié)需水性顯影,部分需溶劑顯影),提升生產(chǎn)靈活性。 耐高溫光刻膠 JT-2000,250℃環(huán)境穩(wěn)定運(yùn)行,圖形保真度超 95%,用于納米結(jié)構(gòu)制造!廣東LED光刻膠國產(chǎn)廠...
吉田半導(dǎo)體水性感光膠 JT-1200:水油兼容,鋼片加工精度 ±5μm JT-1200 水性感光膠解決鋼片加工難題,提升汽車電子部件制造精度。 針對(duì)汽車電子鋼片加工需求,吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 JT-1200 水性感光膠實(shí)現(xiàn)水油兼容性達(dá) 100%,加工精度 ±5μm。其高粘接強(qiáng)度與耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿特性,確保復(fù)雜結(jié)構(gòu)的長期可靠性。其涂布性能優(yōu)良,易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn),適用于安全氣囊傳感器、車載攝像頭模組等精密部件。產(chǎn)品通過 IATF 16949 汽車行業(yè)認(rèn)證,生產(chǎn)過程嚴(yán)格控制金屬離子含量,確保電子產(chǎn)品可靠性。 廣東光刻膠廠家哪家好?無錫紫外光刻膠報(bào)價(jià) 廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,主要涵蓋厚...
產(chǎn)品特點(diǎn):耐溶劑型優(yōu)良,抗潮耐水性好,耐印率高;固含量高,流平性好,涂布性能優(yōu)良;經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,網(wǎng)版平滑、無白點(diǎn)、無沙眼、亮度高;剝膜性好,網(wǎng)版可再生使用;解像性、高架橋性好,易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線條;感光度高,曝光時(shí)間短,曝光寬容度大,節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時(shí)間,提高工作效率 。 應(yīng)用范圍:適用于塑料、皮革、標(biāo)牌、印刷電路板(PCB)、廣告宣傳、玻璃、陶瓷、紡織品等產(chǎn)品的印刷。例如在塑料表面形成牢固圖案,滿足皮革制品精細(xì)印刷需求,制作各類標(biāo)牌保證圖案清晰,用于 PCB 制造滿足高精度要求等。 產(chǎn)業(yè)鏈配套:原材料與設(shè)備協(xié)同發(fā)展。大連低溫光刻膠供應(yīng)商 綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟(jì)...
光刻膠(如液晶平板顯示器光刻膠) 液晶平板顯示器制造:在液晶平板顯示器(LCD)的生產(chǎn)過程中,光刻膠用于制作液晶盒內(nèi)的各種精細(xì)圖案,包括像素電極、公共電極、取向?qū)訄D案等。這些圖案的精度和質(zhì)量直接影響液晶顯示器的顯示效果,如分辨率、對(duì)比度、視角等。 有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(OLED)制造:OLED 顯示器的制造同樣需要光刻膠來制作電極、像素定義層等關(guān)鍵結(jié)構(gòu)。OLED 顯示器具有自發(fā)光、響應(yīng)速度快等優(yōu)點(diǎn),而光刻膠能保障其精細(xì)的像素結(jié)構(gòu)制作,提升顯示器的發(fā)光效率和顯示質(zhì)量 。 納米壓印光刻膠哪家強(qiáng)?吉田半導(dǎo)體附著力提升 30%!南京網(wǎng)版光刻膠供應(yīng)商 光刻膠的...
制版光刻膠應(yīng)用場(chǎng)景:印刷電路板(FPC)、觸摸屏(TP)的掩膜版制作,以及光學(xué)元件(如衍射光柵)的微納加工。特點(diǎn):高分辨率與耐化學(xué)性,確保模板的長期使用壽命。 水性光刻膠(JT-1200)應(yīng)用場(chǎng)景:環(huán)保要求高的電子元件(如醫(yī)療設(shè)備、汽車電子)的制造,以及柔性電路的生產(chǎn)。特點(diǎn):以水為溶劑,低 VOC 排放,符合 RoHS 和 REACH 環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。 水油兩用光刻膠(JT-2001/SR-3308)適用于混合工藝場(chǎng)景(如部分環(huán)節(jié)需水性顯影,部分需溶劑顯影),提升生產(chǎn)靈活性。 吉田半導(dǎo)體強(qiáng)化研發(fā),布局下一代光刻技術(shù)。深圳LED光刻膠報(bào)價(jià) LCD 正性光刻膠(YK-200)應(yīng)用場(chǎng)景:LCD...
技術(shù)研發(fā):從配方到工藝的經(jīng)驗(yàn)壁壘 配方設(shè)計(jì)的“黑箱效應(yīng)” 光刻膠配方涉及成百上千種成分的排列組合,需通過數(shù)萬次實(shí)驗(yàn)優(yōu)化。例如,ArF光刻膠需在193nm波長下實(shí)現(xiàn)0.1μm分辨率,其光酸產(chǎn)率、熱穩(wěn)定性等參數(shù)需精確匹配光刻機(jī)性能。日本企業(yè)通過數(shù)十年積累形成的配方數(shù)據(jù)庫,國內(nèi)企業(yè)短期內(nèi)難以突破。 工藝控制的極限挑戰(zhàn) 光刻膠生產(chǎn)需在百級(jí)超凈車間進(jìn)行,金屬離子含量需控制在1ppb以下。國內(nèi)企業(yè)在“吸附—重結(jié)晶—過濾—干燥”耦合工藝上存在技術(shù)短板,導(dǎo)致產(chǎn)品批次一致性差。例如,恒坤新材的KrF光刻膠雖通過12英寸產(chǎn)線驗(yàn)證,但量產(chǎn)良率較日本同類...
技術(shù)研發(fā):從配方到工藝的經(jīng)驗(yàn)壁壘 配方設(shè)計(jì)的“黑箱效應(yīng)” 光刻膠配方涉及成百上千種成分的排列組合,需通過數(shù)萬次實(shí)驗(yàn)優(yōu)化。例如,ArF光刻膠需在193nm波長下實(shí)現(xiàn)0.1μm分辨率,其光酸產(chǎn)率、熱穩(wěn)定性等參數(shù)需精確匹配光刻機(jī)性能。日本企業(yè)通過數(shù)十年積累形成的配方數(shù)據(jù)庫,國內(nèi)企業(yè)短期內(nèi)難以突破。 工藝控制的極限挑戰(zhàn) 光刻膠生產(chǎn)需在百級(jí)超凈車間進(jìn)行,金屬離子含量需控制在1ppb以下。國內(nèi)企業(yè)在“吸附—重結(jié)晶—過濾—干燥”耦合工藝上存在技術(shù)短板,導(dǎo)致產(chǎn)品批次一致性差。例如,恒坤新材的KrF光刻膠雖通過12英寸產(chǎn)線驗(yàn)證,但量產(chǎn)良率較日本同類...
吉田半導(dǎo)體助力區(qū)域經(jīng)濟(jì),構(gòu)建半導(dǎo)體材料生態(tài)圈,發(fā)揮企業(yè)作用,吉田半導(dǎo)體聯(lián)合上下游資源,推動(dòng)?xùn)|莞松山湖半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新。 作為松山湖產(chǎn)業(yè)集群重要成員,吉田半導(dǎo)體聯(lián)合光刻機(jī)制造商、光電子企業(yè)共建材料生態(tài)圈。公司通過技術(shù)輸出與資源共享,幫助本地企業(yè)提升工藝水平,促進(jìn)產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新。例如,與華中科技大學(xué)合作研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠,極限分辨率 120nm,工藝寬容度優(yōu)于日本信越同類產(chǎn)品,已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)并出口東南亞,為區(qū)域經(jīng)濟(jì)發(fā)展注入新動(dòng)能。半導(dǎo)體材料選吉田,歐盟認(rèn)證,支持定制化解決方案!LED光刻膠生產(chǎn)廠家制版光刻膠應(yīng)用場(chǎng)景:印刷電路板(FPC)、觸摸屏(TP)的掩膜版制作,以及光學(xué)元件(如衍...
納米電子器件制造 ? 半導(dǎo)體芯片:在22nm以下制程中,EUV光刻膠(分辨率≤10nm)用于制備晶體管柵極、納米導(dǎo)線等關(guān)鍵結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)芯片集成度提升(如3nm制程的FinFET/GAA晶體管)。 ? 二維材料器件:在石墨烯、二硫化鉬等二維材料表面,通過電子束光刻膠定義納米電極陣列,構(gòu)建單原子層晶體管或傳感器。 納米光子學(xué)與超材料 ? 光子晶體與波導(dǎo):利用光刻膠制備亞波長周期結(jié)構(gòu)(如光子晶體光纖、納米級(jí)波導(dǎo)彎頭),調(diào)控光的傳播路徑,用于集成光路或量子光學(xué)器件。 ? 超材料設(shè)計(jì):在金屬/介質(zhì)基底上刻蝕納米級(jí)“魚網(wǎng)狀...
定義與特性 正性光刻膠是一種在曝光后,曝光區(qū)域會(huì)溶解于顯影液的光敏材料,形成與掩膜版(Mask)圖案一致的圖形。與負(fù)性光刻膠(未曝光區(qū)域溶解)相比,其優(yōu)勢(shì)是分辨率高、圖案邊緣清晰,是半導(dǎo)體制造(尤其是制程)的主流選擇。 化學(xué)組成與工作原理 主要成分 ? 樹脂(成膜劑): ? 傳統(tǒng)正性膠:采用**酚醛樹脂(Novolak)與重氮萘醌(DNQ,光敏劑)**的復(fù)合體系(PAC體系),占比約80%-90%。 ? 化學(xué)增幅型(用于DUV/EUV):含環(huán)化烯烴樹脂或含氟聚合物,搭配...
憑借多年研發(fā)積累,公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線。在焊接材料方面,不僅提供常規(guī)錫膏、助焊膏,還針對(duì)特殊場(chǎng)景開發(fā)了 BGA 助焊膏、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品,滿足精密電子組裝的多樣化需求。同時(shí),感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性兩類,兼具耐潮性與易操作性,廣泛應(yīng)用于印刷電路板制造。 公司產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球,并與多家跨國企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長期合作關(guān)系。通過在重點(diǎn)區(qū)域設(shè)立辦事處,提供快速響應(yīng)的技術(shù)支持與售后服務(wù)。依托東莞 “世界工廠” 的產(chǎn)業(yè)資源,公司強(qiáng)化供應(yīng)鏈協(xié)同,縮短交付周期,為客戶提供高效解決方案。 未來,廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司將繼續(xù)深化技術(shù)創(chuàng)新,拓展產(chǎn)品...
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司以全球化視野布局市場(chǎng),通過嚴(yán)格的質(zhì)量管控與完善的服務(wù)體系贏得客戶信賴。公司產(chǎn)品不僅通過 ISO9001 認(rèn)證,更以進(jìn)口原材料和精細(xì)化生產(chǎn)流程保障品質(zhì),例如錫膏產(chǎn)品采用無鹵無鉛配方,符合環(huán)保要求,適用于電子產(chǎn)品制造。其銷售網(wǎng)絡(luò)覆蓋全球,與富士康、聯(lián)想等企業(yè)保持長期合作,并在全國重點(diǎn)區(qū)域設(shè)立辦事處,提供本地化技術(shù)支持與售后服務(wù)。 作為廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè),吉田半導(dǎo)體始終將技術(shù)研發(fā)視為核心競(jìng)爭(zhēng)力。公司投入大量資源開發(fā)新型光刻膠及焊接材料,例如 BGA 助焊膏和針筒錫膏,滿足精密電子組裝的需求。同時(shí),依托東莞 “世界工廠” 的產(chǎn)業(yè)集群優(yōu)勢(shì),公司強(qiáng)化供應(yīng)鏈協(xié)同,縮短...
吉田半導(dǎo)體的自研產(chǎn)品已深度融入國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈: 芯片制造:YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國際、長江存儲(chǔ),支持國產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn)。 顯示面板:YK-200 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,成為京東方、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴。 新能源領(lǐng)域:無鹵無鉛焊片通過 UL 認(rèn)證,批量應(yīng)用于寧德時(shí)代儲(chǔ)能系統(tǒng),年供貨量超 500 噸。 研發(fā)投入:年研發(fā)費(fèi)用占比超 15%,承擔(dān)國家 02 專項(xiàng)課題,獲 “國家技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng)”。 產(chǎn)能規(guī)模:光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸,納米壓印光刻膠占全球市場(chǎng)份額 15%。 質(zhì)量體系:通過 ISO9...