濺射鍍膜不良膜層分析，改善方法： 1.白霧主要表現(xiàn)：膜層外觀一層白霧。 原因分析及改善：（白霧可擦拭）：外層膜松散粗糙；出爐溫差大；潮氣吸附；膜層結構不均勻；反應氣體不足/不均勻；外層膜應力大等。     （白霧不可擦拭）：殘留臟污；材腐蝕污染；膜層之間不匹配；反應氣體不足/不均勻；基材受潮污染；真空室臟有水汽；環(huán)境溫差大。 2.發(fā)蒙主要表現(xiàn)：膜層表面粗糙無光。 原因分析及改善：設備漏氣；反應氣體故障；膜層過厚；偏壓故障；       3.色斑主要表現(xiàn)：局部膜色變異。 原因分析及改善：腐蝕，局部折射率改變；前道工程夾具加工方法痕跡（形狀規(guī)則、部位一致、界限分明）； 周轉運輸庫存過程留下痕跡；研磨拋光殘留；多層膜系中，部分膜層過薄；機組微量返油。 4.打火 5.碰擦傷主要表現(xiàn)：劃痕碰傷。 原因分析及改善：劃痕有膜層：鍍前碰擦傷；劃痕無膜層（漏基材）：鍍后碰擦傷。ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及燒結靶材。合肥CuZr靶材型號

所述防護層400包括防護層和第二防護層，所述防護層覆蓋所述頂板210底部表面；所述第二防護層覆蓋所述側板220的內(nèi)側面。所述防護層表面與第二防護層表面相垂直。本實施例中，所述防護層與第二防護層厚度相等。本實施例中，所述防護層與第二防護層為一體成型。在其他實施例中，所述防護層及第二防護層還可以為分體的。本實施例中，所述靶材拋光裝置100還包括：把手，所述把手設置于所述固定板200的外表面上。為便于操作人員雙手抓握，所述把手的數(shù)量為兩個，其中一個所述把手設置于所述固定板200的頂部，另一個所述把手設置于所述固定板200的側壁上，該設置方式有利于提高操作人員手持所述靶材拋光裝置100進行拋光作業(yè)的便捷性。本實施例中，兩個所述把手分別為把手510和第二把手520，所述把手510設置于所述頂板210上，所述第二把手520設置于所述側板220上。常州鋯靶材型號而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。

真空鍍膜機分類真空鍍膜機在近二十年內(nèi)發(fā)展迅速，其涉足的行業(yè)包括：塑料、五金、建筑、模具、裝飾、陶瓷、汽車等行業(yè)，而真空鍍膜設備根據(jù)各大個行業(yè)的功能需求，發(fā)展為蒸發(fā)真空鍍膜機、多弧離子真空鍍膜機、磁控濺射真空鍍膜機。其中蒸發(fā)機主要應用于塑料、五金等行業(yè)。表面進行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的設備，所鍍膜層特點：牢固且細密，是工業(yè)化生產(chǎn)的理想設備，其大的優(yōu)點是它的環(huán)保性，真空鍍膜設備屬于無三廢、無污染的清潔生產(chǎn)設備，無須環(huán)保部門審批。多弧離子真空鍍膜機主要應用于表面涂裝PVD膜層，是目前世界上先進涂裝PVD膜層設備，真空所自主研發(fā)生產(chǎn)的多弧離子真空鍍膜設備運用PLC及觸摸屏實現(xiàn)自動化邏輯程序控制操作,設備結構合理、外觀優(yōu)雅、性能穩(wěn)定、操作達到人機對話，簡便。

背景技術：濺射鍍膜屬于物相沉積方法制備薄膜的工藝之一，具體是指利用高能粒子轟擊靶材表面，使得靶材原子或分子獲得足夠的能量逸出，并沉積在基材或工件表面，從而形成薄膜。由于背板具有良好的導電導熱性能，且還可以起到固定支撐作用，因此，靶材在鍍膜前需與背板焊接在一起，然后共同裝配至濺射基臺。一般活性金屬靶材，例如鋁靶材，由于長期暴露在空氣中，靶材表面材料容易氧化形成一層氧化皮。在直流脈沖、中頻濺射過程中，離子撞擊的能量不足以破壞該氧化皮，導致靶材原子或分子難以逸出，因此在將靶材安裝至濺射基臺之前，需要對靶材表面進行拋光。此外，對于活性金屬靶材及非活性金屬靶材，拋光操作有利于改善靶材的濺射速率的穩(wěn)定性，有助于提高濺射鍍膜質量。通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則，該化學反應無法繼續(xù)進行。

高純金屬的概念： 任何金屬都不能達到純?！案呒儭焙汀俺儭本哂邢鄬Φ暮x，是指技術上達到的標準。由于技術的發(fā)展，也常使“超純”的標準升級。例如過去高純金屬的雜質為 ppm級（即百萬分之幾）,而超純半導體材料的雜質達ppb級（十億分之幾）,并將逐步發(fā)展到以ppt級（一萬億分之幾）表示。實際上純度以幾個“9”(N)來表示（如雜質總含量為百萬分之一，即稱為6個“9”或6N），是不完整概念，如電子器件用的超純硅以金屬雜質計算，其純度相當于9 個“9”。 但如計入碳，則可能不到6個“9”?！俺儭钡南鄬γ~是指“雜質”，廣義的雜質是指化學雜質（元素）及“物理雜質”，后者是指位錯及空位等，而化學雜質是指基體以外的原子以代位或填隙等形式摻入。但只當金屬純度達到很高的標準時(如純度 9N 以上的金屬)，物理雜質的概念才是有意義的， 因此目前工業(yè)生產(chǎn)的金屬仍是以化學雜質的含量作為標準，即以金屬中雜質總含量為百萬分之幾表示。金屬化合物的二次電子發(fā)射系數(shù)比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物。常州鋯靶材型號

金屬靶表面氧化或有不清潔物質，打磨清理干凈后即可。合肥CuZr靶材型號

高純金屬的純度分析原則： 高純金屬材料的純度一般用減量法衡量。減量計算的雜質元素主要是金屬雜質，不包括C ,O ,N ,H等間隙元素，但是間隙元素的含量也是重要的衡量指標，一般單獨提出。依應用背景的不同，要求進行分析的雜質元素種類少則十幾種, 多則70多種。簡單的說高純金屬是幾個N(九) 并不能真正的表達其純度, 只有提供雜質元素和間隙元素的種類及其含量才能明確表達高純金屬的純度水平。 高純金屬的純度檢測應以實際應用需要作為主要標準，例如目前工業(yè)電解鈷的純度一般接99.99 % ,而且檢測的雜質元素種類較少。我國電解鈷的有色金屬行業(yè)標準(YS/ T25522000)要求分析C ,S ,Mn , Fe, Ni , Cu , As , Pb , Zn , Si , Cd , Mg , P , Al , Sn ,Sb , Bi等17 個雜質元素, Co9998電解鈷的雜質總量不超過0.02，但這仍然不能滿足功能薄膜材料材料的要求[2]。合肥CuZr靶材型號

江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機構合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領域。同時也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。