此外離子氮化技術(shù)主要儀器就是離子氮化爐，通過離子滲氮可以使?jié)B氮的周期縮短60%～70%，簡化工序，零件變形小，產(chǎn)品質(zhì)量好，節(jié)約能源，無污染，是近年來發(fā)展較快的熱處理工藝。離子氮化設(shè)備由氮化爐、真空系統(tǒng)、供氮系統(tǒng)、電源及溫度測控系統(tǒng)組成。氮化介質(zhì)一般采用氨或氮?dú)浠旌蠚怏w。離子氮化操作要求嚴(yán)格，否則易導(dǎo)致溢度不均勻和弧光放電。離子氮化開始于30年代，到50年代只用于炮管內(nèi)膛氮化。60年代推廣使用于結(jié)構(gòu)鋼、工模具鋼、球墨鑄鐵、合金鑄鐵、不銹鋼和耐熱鋼等。可離子氮化的零件有軋輥、鍛模、沖模、銑刀、塑料成形機(jī)螺桿、柴油機(jī)缸套等[4]離子氮化和氣體氮化哪個(gè)比較好？什么是離子氮化性能

    離子氮化是為了提高工件表面耐磨性、耐疲勞性、耐蝕性及耐高溫等性能，利用等離子輝光放電在離子氮化設(shè)備內(nèi)制備氮化層的一種工藝方法。離子氮化分三個(gè)階段，第一階段活性氮原子產(chǎn)生，第二階段活性氮原子從介質(zhì)中遷移到工件表面，第三階段氮原子從工件表面轉(zhuǎn)移到芯部。其中第一階段電離和第三階段擴(kuò)散機(jī)制比較清楚，第二階段活性氮原子如何從介質(zhì)中遷移到工件表面的機(jī)理尚存爭議，普遍認(rèn)可的是“濺射-沉積”理論。具體原理為：高能離子轟擊工件表面，鐵原子脫離基體飛濺出來和空間中的活性氮原子反應(yīng)形成滲氮鐵，滲氮鐵分子凝聚后再沉積到工件表面。滲氮鐵在一定的滲氮溫度下分解成含氮量更低的氮鐵化合物，釋放出氮原子，滲氮鐵不斷形成為一定厚度的滲氮層。 肇慶高頻離子氮化設(shè)備制造離子氮化工藝原理是什么。

此外離子氮化技術(shù)主要儀器就是離子氮化爐，通過離子滲氮可以使?jié)B氮的周期縮短60%～70%，簡化工序，零件變形小，產(chǎn)品質(zhì)量好，節(jié)約能源，無污染，是近年來發(fā)展較快的熱處理工藝。離子氮化設(shè)備由氮化爐、真空系統(tǒng)、供氮系統(tǒng)、電源及溫度測控系統(tǒng)組成。氮化介質(zhì)一般采用氨或氮?dú)浠旌蠚怏w。離子氮化操作要求嚴(yán)格，否則易導(dǎo)致溢度不均勻和弧光放電。離子氮化開始于30年代，到50年代只用于炮管內(nèi)膛氮化。60年代推廣使用于結(jié)構(gòu)鋼、工模具鋼、球墨鑄鐵、合金鑄鐵、不銹鋼和耐熱鋼等?？呻x子氮化的零件有軋輥、鍛模、沖模、銑刀、塑料成形機(jī)螺桿、柴油機(jī)缸套等

離子氮化作為七十年代興起的一種新型滲氮方法與一般的氣體滲氮相比，離子滲氮的特點(diǎn)是：1）滲氮速度較快，可適當(dāng)縮短滲氮周期，離子氮化時(shí)間短，能縮短到氣體氮化時(shí)間的1/3～2/3。。2）滲氮層脆性小，離子氮化表面形成的白層很薄，甚至沒有，另外引起的變形小，特別適宜于形狀復(fù)雜的精密零件。3）可節(jié)約能源和氨的消耗量，電能消耗為氣體氮化的1/2～1/5，氨氣消耗為氣體氮化的1/5～1/20。4）易于實(shí)現(xiàn)局部氮化，只要設(shè)法使不欲氮化的部分不產(chǎn)生輝光即可，非滲氮部位便于保護(hù)，采用機(jī)械屏蔽、用鐵板隔斷輝光，即可保護(hù)。5）離子轟擊有凈化表面作用，自動(dòng)去除鈍化膜，不銹鋼、耐熱鋼材料無需預(yù)先去除鈍化膜，可使不銹鋼、耐熱鋼工件直接滲氮。6）化合物層結(jié)構(gòu)、滲層厚度和組織可以控制。7）處理溫度范圍較寬，即使在350℃以下也能獲得一定厚度的滲氮層。8)勞動(dòng)條件有所改善， 、離子滲氮處理在很低的壓力下進(jìn)行，排出的廢氣極少。氣源為氮?dú)狻錃夂桶睔?，基本上無有害物質(zhì)產(chǎn)生。9）可以適用于各種材料，包括要求氮化溫度高的不銹鋼、耐熱鋼，以及氮化溫度較低的工模具(工具鋼)和精密零件，而低溫氮化對(duì)氣體氮化來說是相當(dāng)困難的。離子氮化與QPQ工藝的比較。

離子滲氮作為強(qiáng)化金屬表面的一種利用輝光放電現(xiàn)象，將含氮?dú)怏w電離后產(chǎn)生的氮離子轟擊零件表面加熱并進(jìn)行氮化，獲得表面滲氮層的離子化學(xué)熱處理工藝， 適用于鑄鐵、碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等。零件經(jīng)離子滲氮處理后，可顯著提高材料表面的硬度，使其具有高的耐磨性、疲勞強(qiáng)度，抗蝕能力及抗燒傷性等。離子氮化，它早在1931年就已在實(shí)驗(yàn)室里取得成功并獲 。其所運(yùn)用的輝光放電，是氣體放電的一種重要形式。低氣壓輝光放電的擊穿機(jī)制是，從陰極發(fā)射電子，在放電空間引形成相應(yīng)離子，由此產(chǎn)生的正離子再轟擊陰極使其發(fā)射出更多的電子。按其狀態(tài)，輝光放電又可分為前期輝光、正常輝光和異常輝光三個(gè)不同階段。離子氮化陰極結(jié)構(gòu)示意圖。汕頭離子氮化對(duì)比

離子氮化都有哪些工藝？什么是離子氮化性能

離子氮化處理后的錐環(huán)支板金相檢測結(jié)果如圖3所示。其氮化層是由表面白亮層和擴(kuò)散層組成，圖3a所示為低倍下表面白亮層和擴(kuò)散層的金相照片，可以看出表面白亮層的厚度是比較均勻的。測得硬化層的層深為0.28mm，白亮層深度為8μm，表面硬化層的硬度為530～540HV。其中表面氮化層的金相組織如圖3b所示，其組織由含氮的板條馬氏體+屈氏體團(tuán)+回火索氏體+少量鐵素體組成。采用 量具測得內(nèi)齒的圓度變形為0.05～0.07mm，支板平面變形度均值為0.07mm，滿足變形技術(shù)要求。綜上述分析，改善后的離子氮化工藝獲得了質(zhì)量合格的錐環(huán)支板。什么是離子氮化性能

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