離子氮化設備一般由電氣控制系統、真空爐體、滲劑氣體配氣系統、真空產生和維持系統、真空測量及控制系統等幾大部分組成。離子滲氮設備中重要的是電氣控制系統，根據控制系統電源種類的不同可分為直流電源（LD系列）和脈沖電源（LDMC系列）兩大類。大功率脈沖電源自上個世紀九十年代我所獨自研發(fā)成功以來，經過十多年的發(fā)展，發(fā)展到了第二代脈沖電源（PN-II），現已取代了直流電源，成為離子滲氮設備的優(yōu)先電源。如果有離子氮化的需要，歡迎聯系。離子氮化處理用什么材料硬度會高。梅州真空離子氮化溫度

離子氮化法具有以下一些優(yōu)點：由于離子氮化是在真空中進行，因而可獲得無氧化的加工表面，也不會損害被處理工件的表面光潔度。而且由于是在低溫下進行處理，被處理工件的變形量極小，處理后無需再行加工，極適合于成品的處理。通過調節(jié)氮、氫及其他（如碳、氧、硫等）氣氛的比例，可自由地調節(jié)化合物層的相組成，從而獲得預期的機械性能。離子氮化從380℃起即可進行氮化處理，此外，對鈦等特殊材料也可在850℃的高溫下進行氮化處理，因而適應范圍十分廣。由于離子氮化是在低氣壓下以離子注入的方式進行，因而耗氣量極少（只為氣體滲氮的百分之幾），可降低耗能。河源高頻離子氮化缺點金屬離子氮化注意事項。

    哪些零件不適合進行離子氮化？由于離子氮化的過程是起輝電離放電的過程，所以一定要遵循基本的放電原理。當陰極放電長度小于小孔或窄縫尺寸的一半時，離子氮化才能夠正常進行。而陰極放電長度主要受氣壓、氣體組分、電壓等參數的影響，.小也就能控制到1mm左右，所以理論上通過起輝進行氮化的小孔和窄縫的.小尺寸是2mm。同時，由于空心陰極效應，當小孔的孔徑比達到一定數值時，離子氮化的滲氮也無法正常進行，因為深孔內起輝容易導致孔內輝光疊加進而引起工件表面超溫。另一方面，如果孔深過大，受陰陽極距離的影響，孔內的起輝難度會增大，導致工件溫度偏低。根據經驗，通孔的內孔長度與直徑的比值達到8時滲氮效果會變差，此時可以增加輔極來改善滲氮效果；通孔的內孔長度與直徑的比值達到16時滲氮會變得很困難，需要特殊方法才能實現。

    離子氮化處理工藝：處理溫度：閥板880～900。C，閥座840～860。C處理時間：6～8h比較大加熱速度：15℃/min比較大冷卻速度：18℃/min反應氣氛：N2與H2混合氣體，并適當引入其他氣體，如氧等氮勢：66%～90%工作氣壓：3999～5332Pa氣體流量：100～150L/h電流密度：3～7mA/cm2擬進行離子氮化的零件必須經過徹底的清洗，以免因油污、銹斑、揮發(fā)物等而引起電弧，損傷零件。零件在裝爐時，其間隙必須足夠大而均勻，裝載過密處往往會引起溫度過高。對局部氮化的零件，可在非滲部位用外罩(對凸出面而言)或塞子(對內凹面或孔而言)屏蔽，以避免在該處起輝。裝爐時還要注意合理地分布測溫監(jiān)控熱電偶。此外離子氮化技術主要儀器就是離子氮化爐，通過離子滲氮可以使?jié)B氮的周期縮短60%～70%，簡化工序，零件變形小，產品質量好，節(jié)約能源，無污染，是近年來發(fā)展較快的熱處理工藝。離子氮化設備由氮化爐、真空系統、供氮系統、電源及溫度測控系統組成。氮化介質一般采用氨或氮氫混合氣體。離子氮化操作要求嚴格，否則易導致溢度不均勻和弧光放電。離子氮化開始于30年代，到50年代只用于炮管內膛氮化。60年代推廣使用于結構鋼、工模具鋼、球墨鑄鐵、合金鑄鐵、不銹鋼和耐熱鋼等。 離子氮化及其與氣體氮化的區(qū)別你真的了解了嗎?

    在以含氮氣體的低真空爐體內的條件下，氣源通常采用純氨，也可采用分解氨。把金屬工件作為陰極爐體為陽極，在陰極(工件)與陽極(爐體)之間加上高壓(300～900V)直流電源后，稀薄氣體被電離并產生輝光放電，形成氮、氫陽離子，在陰陽極之間形成等離子區(qū)。在等離子區(qū)強電場作用下，氮和氫的正離子以高速向工件表面轟擊。離子的高動能轉變?yōu)闊崮?，加熱工件表面至所需溫度。離子氮化處理，歡迎聯系衡創(chuàng)。氮、氫等正離子在電場的加速下轟擊零件表面，產生很大熱量以加熱零件，同時使部分鐵原子濺射出來與氮結合生成FeN由于離子的轟擊，工件表面產生原子濺射，因而得到凈化，同時由于吸附和擴散作用，繼而分解出活性氮原子向工件內部擴散而形成氮化層。其在工件表面形成滲氮層，主要有能量轉換、陰極濺射、凝附等具體過程的發(fā)生。 離子氮化工藝操作記錄。珠海高速鋼離子氮化硬度和深度

離子氮化和氣體氮化區(qū)別。梅州真空離子氮化溫度

    離子氮化與氣體氮化對比因其滲入理論與氣體氮化有一定差別，也有一定相同性，在操作上有一定的特殊性。二者都涉及到四要素，即工件表面潔凈度，氮化溫度，氨的分解率，滲氮保溫時間。但在以上相同四點的各點上，有一定的區(qū)別，而且因其特異性，在操作上有一些形式的不同，尤其防滲方法存在較大的不同。清洗工件，與氣體氮化大體相同，但對于工件交檢質量不構成威脅，如果清洗的好，可縮短打弧時間，反之只需延長打弧時間，也可以維持工作。離子氮化溫度與氣體氮化溫度一樣，但其溫度測量至今尚為一道難題，即熱電偶很難與工件匹配，其顯示值也不能完全一致，只可作參考，所以目測觀測溫度甚為重要。離子氮化也需要足夠的氮原子，但因其獨特的電離能力，極少的氮原子即可滿足氮化需要。所以一次工作保溫階段有1kg氨氣即可滿足工作需要。其氮原子是否足夠工作需要，可視爐內氣體被電離后所發(fā)出的輝光厚度及顏色來進行判斷。正常工作時輝光發(fā)出淡藍色微光，輝光厚度保持在，發(fā)黃發(fā)亮，輝光厚度超過3mm，則為氨氣供給量太少；輝光暗淡發(fā)黑厚度小于2mm，則為氨氣供給太多。 梅州真空離子氮化溫度

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