廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢,適用于不同領(lǐng)域。
LCD 正性光刻膠 YK - 200:具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力的特點,重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,能確保 LCD 生產(chǎn)過程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和良好的涂布效果。
半導體正性光刻膠 YK - 300:具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g。主要用于半導體制造工藝,滿足半導體器件對光刻膠在化學穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。
耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100:重量 1L,具有耐腐蝕的特性,適用于在有腐蝕風險的光刻工藝中,比如一些特殊環(huán)境下的半導體加工或電路板制造。
吉田半導體材料的綠色環(huán)保與可持續(xù)發(fā)展。內(nèi)蒙古制版光刻膠品牌
廣東吉田半導體材料有限公司憑借技術(shù)創(chuàng)新與質(zhì)量優(yōu)勢,在半導體材料行業(yè)占據(jù)重要地位。公司聚焦光刻膠、電子膠、錫膏等產(chǎn)品,其中納米壓印光刻膠可耐受 250℃高溫及強酸強堿環(huán)境,適用于高精度納米結(jié)構(gòu)制造;LCD 光刻膠以高穩(wěn)定性和精細度成為顯示面板行業(yè)的推薦材料。此外,公司還提供焊片、靶材等配套材料,滿足客戶多元化需求。
在技術(shù)層面,吉田半導體通過自主研發(fā)與國際合作結(jié)合,持續(xù)優(yōu)化生產(chǎn)工藝,實現(xiàn)全流程自動化控制。其生產(chǎn)基地配備先進設(shè)備,并嚴格執(zhí)行國際標準,確保產(chǎn)品性能達到國際水平。同時,公司注重人才培養(yǎng)與引進,匯聚化工、材料學等領(lǐng)域的專業(yè)團隊,為技術(shù)創(chuàng)新提供堅實支撐。未來,吉田半導體將繼續(xù)以 “中國前列半導體材料方案提供商” 為愿景,推動行業(yè)技術(shù)升級與國產(chǎn)化進程。
江門負性光刻膠耗材告別顯影殘留!化學增幅型光刻膠助力封裝。
光刻膠的工作原理:
1. 涂覆與曝光:在基底(如硅片、玻璃、聚合物)表面均勻涂覆光刻膠,通過掩膜(或直接電子束掃描)對特定區(qū)域曝光。
2. 化學變化:曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生光化學反應(yīng)(正性膠曝光后溶解,負性膠曝光后交聯(lián)不溶)。
3. 顯影與刻蝕:溶解未反應(yīng)的部分,留下圖案化的膠層,作為后續(xù)刻蝕或沉積的掩模,將圖案轉(zhuǎn)移到基底上。
在納米技術(shù)中,關(guān)鍵挑戰(zhàn)是突破光的衍射極限(λ/2),因此需依賴高能束曝光技術(shù)(如電子束光刻、極紫外EUV光刻)和高性能光刻膠(高分辨率、低缺陷)。
廣東吉田半導體材料有限公司以全球化視野布局市場,通過嚴格的質(zhì)量管控與完善的服務(wù)體系贏得客戶信賴。公司產(chǎn)品不僅通過 ISO9001 認證,更以進口原材料和精細化生產(chǎn)流程保障品質(zhì),例如錫膏產(chǎn)品采用無鹵無鉛配方,符合環(huán)保要求,適用于電子產(chǎn)品制造。其銷售網(wǎng)絡(luò)覆蓋全球,與富士康、聯(lián)想等企業(yè)保持長期合作,并在全國重點區(qū)域設(shè)立辦事處,提供本地化技術(shù)支持與售后服務(wù)。
作為廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè),吉田半導體始終將技術(shù)研發(fā)視為核心競爭力。公司投入大量資源開發(fā)新型光刻膠及焊接材料,例如 BGA 助焊膏和針筒錫膏,滿足精密電子組裝的需求。同時,依托東莞 “世界工廠” 的產(chǎn)業(yè)集群優(yōu)勢,公司強化供應(yīng)鏈協(xié)同,縮短交付周期,為客戶提供高效解決方案。未來,吉田半導體將持續(xù)深化技術(shù)創(chuàng)新與全球合作,助力中國半導體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺階。
光刻膠的關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域。
市場與客戶優(yōu)勢:全球化布局與頭部客戶合作
全球客戶網(wǎng)絡(luò)
產(chǎn)品遠銷全球,與三星、LG、京東方等世界500強企業(yè)建立長期合作,在東南亞、北美市場市占率超15%。
區(qū)域市場深耕
依托東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群,與華為、OPPO等本土企業(yè)合作,在消費電子、汽車電子領(lǐng)域快速響應(yīng)客戶需求。
產(chǎn)業(yè)鏈配套優(yōu)勢:原材料與設(shè)備協(xié)同
主要原材料自主化
公司自主生產(chǎn)光刻膠樹脂、光引發(fā)劑,降低對進口依賴,成本較國際競品低20%。
設(shè)備與工藝協(xié)同
與國內(nèi)涂膠顯影設(shè)備廠商合作,開發(fā)適配國產(chǎn)設(shè)備的光刻膠配方,提升工藝兼容性。
吉田公司以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝打造環(huán)保光刻膠。江門負性光刻膠耗材
松山湖光刻膠廠家吉田,2000 萬級產(chǎn)能,48 小時極速交付!內(nèi)蒙古制版光刻膠品牌
光刻膠系列:
厚板光刻膠 JT - 3001,具備優(yōu)異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能,符合歐盟 ROHS 標準,保質(zhì)期 1 年;
水油光刻膠 SR - 3308,容量 5L;SU - 3 負性光刻膠,分辨率優(yōu)異,對比度良好,曝光靈敏度高,光源適應(yīng),重量 100g;
液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000,有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格,分辨率高,準確性和穩(wěn)定性好;
JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,耐強酸強堿,耐高溫達 250°C,長期可靠性高,粘接強度高,重量 100g;
LCD 正性光刻膠 YK - 200,具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力,重量 100g;
半導體正性光刻膠 YK - 300,具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g;
耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100,重量 1L。
內(nèi)蒙古制版光刻膠品牌