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廣西正性光刻膠工廠

來源: 發(fā)布時間:2025-06-13

廣東吉田半導體材料有限公司,坐落于松山湖經濟技術開發(fā)區(qū),是半導體材料領域的一顆璀璨明珠。公司注冊資本 2000 萬元,專注于半導體材料的研發(fā)、生產與銷售,是國家高新技術企業(yè)、廣東省專精特新企業(yè)以及廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)。

強大的產品陣容:吉田半導體產品豐富且實力強勁。芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠精細滿足芯片制造、微納加工等關鍵環(huán)節(jié)需求;半導體錫膏、焊片在電子焊接領域性能;靶材更是在材料濺射沉積工藝中發(fā)揮關鍵作用。這些產品遠銷全球,與眾多世界 500 強企業(yè)及電子加工企業(yè)建立了長期穩(wěn)固的合作關系。

雄厚的研發(fā)生產實力:作為一家擁有 23 年研發(fā)與生產經驗的綜合性企業(yè),吉田半導體具備行業(yè)前列規(guī)模與先進的全自動化生產設備。23 年的深耕細作,使其在技術研發(fā)、工藝優(yōu)化等方面積累了深厚底蘊,能夠快速響應市場需求,不斷推出創(chuàng)新性產品。

嚴格的質量管控:公司始終將品質視為生命線,嚴格按照 ISO9001:2008 質量體系標準監(jiān)控生產制程。生產環(huán)境執(zhí)行 8S 現場管理,從源頭抓起,所有生產材料均選用美國、德國、日本等國家進口的高質量原料,確??蛻羰褂玫匠哔|量且穩(wěn)定的產品。 吉田半導體強化研發(fā),布局下一代光刻技術。廣西正性光刻膠工廠

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公司遵循國際質量管理標準,通過 ISO9001:2008 認證,并在生產過程中執(zhí)行 8S 現場管理,從原料入庫到成品出庫實現全流程監(jiān)控。以錫膏產品為例,其無鹵無鉛配方符合環(huán)保要求,同時具備低飛濺、高潤濕性等特點,適用于電子產品組裝。此外,公司建立了行業(yè)標準化實驗室,配備先進檢測設備,確保產品性能達到國際同類水平。

憑借多年研發(fā)積累,公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領域的豐富產品線。在焊接材料方面,不僅提供常規(guī)錫膏、助焊膏,還針對特殊場景開發(fā)了 BGA 助焊膏、針筒錫膏等定制化產品,滿足精密電子組裝的多樣化需求。同時,感光膠系列產品分為水性與油性兩類,兼具耐潮性與易操作性,廣泛應用于印刷電路板制造。
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“設備-材料-工藝”閉環(huán)驗證
吉田半導體與中芯國際、華虹半導體等晶圓廠建立了聯合研發(fā)機制,針對28nm及以上成熟制程開發(fā)專門使用光刻膠,例如其KrF光刻膠已通過中芯國際北京廠的產線驗證,良率達95%以上。此外,公司參與國家重大專項(如02專項),與中科院微電子所合作開發(fā)EUV光刻膠基礎材料,雖未實現量產,但在酸擴散控制和靈敏度優(yōu)化方面取得階段性突破。

政策支持與成本優(yōu)勢
作為廣東省專精特新企業(yè),吉田半導體享受稅收優(yōu)惠(如15%企業(yè)所得稅)和研發(fā)補貼(2023年獲得國家補助超2000萬元),比較明顯降低產品研發(fā)成本。同時,其本地化生產(東莞松山湖基地)可將物流成本壓縮至進口產品的1/3,并實現48小時緊急訂單響應,這對中小客戶具有吸引力。

聚焦先進封裝需求,吉田半導體提供從光刻膠到配套材料的一站式服務,助力高性能芯片制造。
在 5G 芯片與 AI 處理器封裝領域,吉田半導體研發(fā)的 SU-3 負性光刻膠支持 3μm 厚膜加工,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,為高密度金屬互連提供可靠支撐。其 BGA 助焊膏采用低溫固化技術(180℃),焊接空洞率 < 5%;針筒錫膏適用于 01005 超微型元件,印刷精度達 ±5μm。通過標準化實驗室與快速響應團隊,公司為客戶提供工藝優(yōu)化建議,幫助降低生產成本,增強市場競爭力。耐高溫光刻膠 JT-2000,250℃環(huán)境穩(wěn)定運行,圖形保真度超 95%,用于納米結構制造!

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  1. 全品類覆蓋
    吉田半導體產品線涵蓋正性 / 負性光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、厚膜光刻膠及水性光刻膠等,覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等多領域需求,技術布局全面性于多數國內廠商。
  2. 關鍵技術突破
    納米壓印技術:JT-2000 納米壓印光刻膠耐高溫達 250℃,支持納米級精度圖案復制,適用于第三代半導體(GaN/SiC)及 Mini LED 等新興領域,技術指標接近國際先進水平。
    水性環(huán)保配方:JT-1200 水性感光膠以水為溶劑替代傳統(tǒng)有機溶劑,低 VOC 排放,符合 RoHS 和 REACH 標準,環(huán)保性能優(yōu)于同類產品。
    厚膜工藝能力:JT-3001 厚板光刻膠膜厚可控(達數十微米),滿足高密度像素陣列及 MEMS 器件的制造需求。
挑戰(zhàn)與未來展望的發(fā)展。廣西正性光刻膠工廠

吉田半導體全流程解決方案,賦能客戶提升生產效率。廣西正性光刻膠工廠

 上游原材料:

? 樹脂:彤程新材、鼎龍股份實現KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成,金屬雜質含量<5ppb(國際標準<10ppb)。

? 光引發(fā)劑:久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產酸劑,累計形成噸級訂單;威邁芯材合肥基地建成100噸/年ArF/KrF光刻膠主材料產線。

? 溶劑:怡達股份電子級PM溶劑全球市占率超40%,與南大光電合作開發(fā)配套溶劑,技術指標達SEMI G5標準。

設備與驗證:

? 上海新陽與上海微電子聯合開發(fā)光刻機適配參數,驗證周期較國際廠商縮短6個月;徐州博康實現“單體-樹脂-成品膠”全鏈條國產化,適配ASML Twinscan NXT系列光刻機。

? 國內企業(yè)通過18-24個月的晶圓廠驗證周期(如中芯國際、長江存儲),一旦導入不易被替代。
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標簽: 錫膏 錫片 光刻膠