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近場光斑光斑分析儀操作

來源: 發(fā)布時間:2025-04-07

使用 BeamHere 光斑分析儀測量激光光斑和質(zhì)量,包括以下步驟: 準(zhǔn)備:準(zhǔn)備 BeamHere 光斑分析儀、激光器和數(shù)據(jù)處理軟件。確保光斑傳感器放置并連接到計(jì)算機(jī)。 數(shù)據(jù)采集:啟動激光器,穩(wěn)定照射傳感器,實(shí)時傳輸圖像信息到計(jì)算機(jī)。 數(shù)據(jù)分析:BeamHere 軟件自動處理數(shù)據(jù),計(jì)算光斑參數(shù)和光束質(zhì)量參數(shù),支持 2D/3D 視圖。 結(jié)果展示:軟件以圖表和數(shù)值展示結(jié)果,一鍵生成包含所有數(shù)據(jù)的測試報告,便于導(dǎo)出和打印。 這些步驟幫助用戶測量光斑和光束質(zhì)量,支持激光技術(shù)。光束質(zhì)量M2怎么測量?近場光斑光斑分析儀操作

光斑分析儀

維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列提供高性價比光束質(zhì)量檢測解決方案,涵蓋掃描狹縫式、相機(jī)式及 M2 測試模塊三大產(chǎn)品線: 掃描狹縫式光斑分析儀采用國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),支持 190-2700nm 寬光譜范圍,可測量 2.5μm-10mm 光束直徑,0.1μm 超高分辨率實(shí)現(xiàn)亞微米級光斑細(xì)節(jié)捕捉。創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制使其無需外置衰減片即可直接測量近 10W 高功率激光,適用于激光加工等高能量場景。 相機(jī)式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段,支持 2D/3D 實(shí)時成像與動態(tài)分析,可測量非高斯光束(如平頂、貝塞爾光束)。獨(dú)特的六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可拆卸結(jié)構(gòu)支持科研成像功能拓展。 M2 測試模塊適配全系產(chǎn)品,通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法測量光束傳播參數(shù)(M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等),結(jié)合 BeamHere 軟件實(shí)現(xiàn)一鍵生成報告、多參數(shù)同步分析。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等領(lǐng)域的光斑檢測需求,兼顧實(shí)驗(yàn)室與產(chǎn)線在線監(jiān)測場景。光通信光斑分析儀怎么樣光斑分析儀保修期多長?維度光電整機(jī) 3 年質(zhì)保,部件 5 年延保。

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維度光電作為全球激光測量領(lǐng)域解決商,致力于打造 "三橫三縱" 產(chǎn)品矩陣: 橫向覆蓋: 光譜范圍:190-2700nm 全波段 光斑尺寸:0.1μm-10mm 全尺寸 功率等級:1μW-10W 全功率 縱向深度: 工業(yè)級:支持產(chǎn)線在線監(jiān)測與自動化對接 醫(yī)療級:符合 ISO 13485 認(rèn)證,保障臨床精度 科研級:開放 API 接口支持自定義算法 差異化優(yōu)勢: 同時提供雙技術(shù)方案的廠商(狹縫式 + 相機(jī)式) AI 算法庫支持光束質(zhì)量預(yù)測性維護(hù) 模塊化設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)設(shè)備功能動態(tài)擴(kuò)展 適合各類激光應(yīng)用中激光光束質(zhì)量測量與分析。

維度光電-BeamHere 光斑分析儀憑借高精度光束參數(shù)測量能力,為激光技術(shù)在各領(lǐng)域的創(chuàng)新應(yīng)用提供支持。在工業(yè)制造中,其亞微米級光斑校準(zhǔn)功能幫助優(yōu)化激光切割、焊接與打標(biāo)工藝,確保光束能量分布均勻性,提升加工一致性。醫(yī)療領(lǐng)域中,BeamHere 用于眼科準(zhǔn)分子激光設(shè)備的光束形態(tài)監(jiān)測,通過實(shí)時分析能量分布與光斑穩(wěn)定性,保障手術(shù)精度與安全性??蒲袌鼍跋拢撛O(shè)備支持超短脈沖激光的時空特性,為新型激光器與光束整形技術(shù)突破提供數(shù)據(jù)支撐。光通信領(lǐng)域,BeamHere 可檢測光纖端面光斑質(zhì)量,優(yōu)化光信號耦合效率,確保通信系統(tǒng)性能穩(wěn)定。全系產(chǎn)品覆蓋 200-2600nm 寬光譜范圍,支持千萬級功率測量,結(jié)合 M2 因子分析與 AI 算法,為客戶提供從光束診斷到工藝優(yōu)化的全流程解決方案。脈沖激光光束質(zhì)量怎么測檢測?維度光電,超快激光器研發(fā)利器。

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維度光電深刻認(rèn)識到高功率光束檢測在激光應(yīng)用中的性和難度。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會飽和,而常規(guī)激光器功率普遍較高,這使得大功率光束檢測成為激光應(yīng)用的難點(diǎn)。為解決這一問題,維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng)。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創(chuàng)新的狹縫物理衰減機(jī)制,可直接測量近 10W 高功率激光,保障了測試過程的安全與高效。為應(yīng)對更高功率,又推出單次和雙次取樣配件,可疊加使用形成多次取樣系統(tǒng)。搭配合適衰減片,可測功率超 1000W。單次取樣配件 DL - LBA - 1,取樣率 4% - 5%,采用 45° 傾斜設(shè)計(jì)和 C 口安裝,有鎖緊環(huán)可固定在任意方向測量不同角度入射激光;雙次取樣配件 DL - LBA - 2,取樣率 0.16% - 0.25%,內(nèi)部兩片取樣透鏡緊湊安裝,能應(yīng)對 400W 功率光束,多面體結(jié)構(gòu)便于工業(yè)或?qū)嶒?yàn)環(huán)境安裝。組合安裝配件可獲得高衰減程度,實(shí)現(xiàn)更高功率激光測量。同時,其緊湊結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的取樣光程滿足聚焦光斑測量,單次 68mm,雙次 53mm,為激光生產(chǎn)提供了強(qiáng)大的檢測支持。高功率激光光束質(zhì)量怎么測?近紅外光斑分析儀怎么選型

掃描和狹縫光斑分析儀怎么選?近場光斑光斑分析儀操作

維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列,整合掃描狹縫式、相機(jī)式及 M2 測試模塊三大產(chǎn)品線,為激光光束質(zhì)量檢測提供全場景解決方案。 掃描狹縫式光斑分析儀刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),覆蓋 190-2700nm 寬光譜,支持 2.5μm-10mm 光束直徑測量。0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級光斑細(xì)節(jié),無需外置衰減片即可直接測量近 10W 高功率激光,適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備等高能量場景。 相機(jī)式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段,支持 2D/3D 實(shí)時成像與動態(tài)分析,可測量非高斯光束(如平頂、貝塞爾光束)。獨(dú)特的六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可拆卸結(jié)構(gòu)支持科研成像功能拓展。 M2 測試模塊適配全系產(chǎn)品,通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法測量光束傳播參數(shù)(M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等),結(jié)合 BeamHere 軟件實(shí)現(xiàn)一鍵生成報告、多參數(shù)同步分析。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等領(lǐng)域的光斑檢測需求,兼顧實(shí)驗(yàn)室與產(chǎn)線在線監(jiān)測場景。近場光斑光斑分析儀操作

維度光電:一站式光電服務(wù)平臺Dimension-labs隸屬深圳市維度科技有限公司,以助推突破技術(shù)壁壘、打破國外壟斷、加速國產(chǎn)化替代為使命,以構(gòu)建、培育網(wǎng)狀光電生態(tài)鏈,促進(jìn)產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)化升級,提升科研效率,降低企業(yè)創(chuàng)新及研發(fā)成本為愿景建立一站式光電產(chǎn)品服務(wù)平臺(Dimension-Labs),將互聯(lián)網(wǎng)電子商務(wù)與光電行業(yè)深度融合,形成創(chuàng)新型數(shù)字化產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈,為全球的高校、科研、企業(yè)及創(chuàng)客團(tuán)體提供:

1、質(zhì)量的一站式光電產(chǎn)品現(xiàn)貨、極速供應(yīng)服務(wù),產(chǎn)品涵蓋光機(jī)械、光學(xué)元件、光電檢測儀器、激光光源、光學(xué)成像鏡頭、科研相機(jī)、光束分析等;“燈塔”光電開放研究實(shí)驗(yàn)室及光電數(shù)據(jù)庫,

2、提供技術(shù)攻關(guān)、技術(shù)開發(fā)、儀器共享、科技資源共享、科研交流、檢驗(yàn)檢測、系統(tǒng)搭建等深度技術(shù)服務(wù);

3、立足服務(wù)平臺,連接線上線下、銜接供需兩端、對接國內(nèi)國外市場,賦能經(jīng)濟(jì)社會數(shù)字化轉(zhuǎn)型和后時代社會建設(shè);

4、助力提高科研效率,降低企業(yè)創(chuàng)新研發(fā)成本,助推突破技術(shù)壁壘,加速國產(chǎn)化替代,培育并構(gòu)建數(shù)字化、智能化網(wǎng)狀光電產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈。

標(biāo)簽: 光斑分析儀