臺達(dá)ME300變頻器:小身材,大能量,開啟工業(yè)調(diào)速新篇章
臺達(dá)MH300變頻器:傳動與張力控制的革新利器-友誠創(chuàng)
磁浮軸承驅(qū)動器AMBD:高速變頻技術(shù)引導(dǎo)工業(yè)高效能新時(shí)代
臺達(dá)液冷型變頻器C2000-R:工業(yè)散熱與空間難題
臺達(dá)高防護(hù)型MS300 IP66/NEMA 4X變頻器
重載設(shè)備救星!臺達(dá)CH2000變頻器憑高過載能力破局工業(yè)難題
臺達(dá)C2000+系列變頻器:工業(yè)驅(qū)動的優(yōu)越之選!
臺達(dá)CP2000系列變頻器:工業(yè)驅(qū)動的革新力量!
臺達(dá)變頻器MS300系列:工業(yè)節(jié)能與智能控制的全能之選。
一文讀懂臺達(dá) PLC 各系列!性能優(yōu)越,優(yōu)勢盡顯
使用 BeamHere 光斑分析儀測量激光光斑和質(zhì)量,包括以下步驟: 準(zhǔn)備:準(zhǔn)備 BeamHere 光斑分析儀、激光器和數(shù)據(jù)處理軟件。確保光斑傳感器放置并連接到計(jì)算機(jī)。 數(shù)據(jù)采集:啟動激光器,穩(wěn)定照射傳感器,實(shí)時(shí)傳輸圖像信息到計(jì)算機(jī)。 數(shù)據(jù)分析:BeamHere 軟件自動處理數(shù)據(jù),計(jì)算光斑參數(shù)和光束質(zhì)量參數(shù),支持 2D/3D 視圖。 結(jié)果展示:軟件以圖表和數(shù)值展示結(jié)果,一鍵生成包含所有數(shù)據(jù)的測試報(bào)告,便于導(dǎo)出和打印。 這些步驟幫助用戶測量光斑和光束質(zhì)量,支持激光技術(shù)。光斑分析儀以舊換新?維度光電推出設(shè)備升級計(jì)劃。狹縫光斑分析儀操作
全系列產(chǎn)品矩陣與智能分析系統(tǒng) Dimension-Labs BeamHere 系列產(chǎn)品通過全光譜覆蓋與模塊化設(shè)計(jì),構(gòu)建起完整的光束質(zhì)量測量生態(tài)系統(tǒng): 1. 全場景產(chǎn)品體系 光譜覆蓋:190-2700nm 超寬響應(yīng)范圍,滿足紫外到遠(yuǎn)紅外波段的測試需求 技術(shù)方案: 掃描狹縫式:支持 2.5μm-10mm 光斑檢測,0.1μm 超高分辨率,可測近 10W 高功率激光,適合半導(dǎo)體加工、高功率焊接等場景 相機(jī)式:400-1700nm 實(shí)時(shí)成像,5.5μm 像元精度,標(biāo)配 6 片濾光片轉(zhuǎn)輪實(shí)現(xiàn) 1μW-1W 寬功率測量,擅長復(fù)雜光斑分析與脈沖激光檢測 結(jié)構(gòu)創(chuàng)新:掃描狹縫式采用 ±90° 轉(zhuǎn)筒調(diào)節(jié)與可調(diào)光闌設(shè)計(jì),相機(jī)式支持濾光片轉(zhuǎn)輪與相機(jī)分離,拓展科研成像功能 2. M2 因子測試模塊 兼容全系產(chǎn)品,基于 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量參數(shù)測量 可獲?。?光束發(fā)散角(mrad) 束腰位置(mm) M2 因子(無量綱) 瑞利長度(mm) 支持光束傳播方向上的全鏈路分析,為激光系統(tǒng)設(shè)計(jì)提供數(shù)據(jù)激光光斑分析儀網(wǎng)站脈沖激光光束質(zhì)量怎么測檢測?維度光電,超快激光器研發(fā)利器。
維度光電光束質(zhì)量測量解決方案基于兩大技術(shù)平臺: 掃描狹縫式系統(tǒng):采用正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構(gòu),通過 ±90° 旋轉(zhuǎn)實(shí)現(xiàn) XY 軸同步掃描,結(jié)合刀口 / 狹縫雙模式切換,突破亞微米級光斑檢測極限。光學(xué)系統(tǒng)集成高靈敏度光電探測器,配合高斯擬合算法,實(shí)現(xiàn) 0.1μm 分辨率與 ±0.8% 測量重復(fù)性。 相機(jī)式成像系統(tǒng):搭載背照式 CMOS 傳感器(量子效率 95%@500-1000nm),結(jié)合非球面透鏡組消除畸變,支持皮秒級觸發(fā)同步與全局快門技術(shù),捕捉單脈沖光斑形態(tài)。算法通過二階矩法計(jì)算 M2 因子,測量精度達(dá) ±0.3%。 創(chuàng)新突破: 狹縫物理衰減機(jī)制實(shí)現(xiàn) 10W 級激光直接測量 面陣傳感器動態(tài)范圍擴(kuò)展技術(shù)支持 1μW-1W 寬功率檢測 AI 缺陷診斷模型自動識別光斑異常(率 97.2%)
Dimension-Labs 通過三大創(chuàng)新重構(gòu)光斑分析標(biāo)準(zhǔn):狹縫 - 刀口雙模式切換技術(shù),突破傳統(tǒng)設(shè)備量程限制,切換時(shí)間小于 50ms;高動態(tài)范圍傳感器,實(shí)現(xiàn) 200-2600nm 全光譜響應(yīng),量子效率達(dá) 85%; AI 驅(qū)動的光斑模式識別算法,率達(dá) 99.7%,可區(qū)分高斯、平頂、環(huán)形等 12 種光斑類型。全系產(chǎn)品支持 M2 因子在線測試,測量重復(fù)性達(dá) ±0.5%,結(jié)合工業(yè)級防護(hù)設(shè)計(jì),可在 - 40℃至 85℃環(huán)境下穩(wěn)定工作,通過 IP65 防塵防水認(rèn)證,滿足嚴(yán)苛場景需求。產(chǎn)品已通過 CE、FCC、RoHS 三重國際認(rèn)證。近場光斑測試方案,推進(jìn)半導(dǎo)體,硅光行業(yè)優(yōu)化升級。
Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列采用國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),覆蓋 190-2700nm 寬光譜,可測 2.5μm-10mm 光束直徑,0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)檢測極限。其創(chuàng)新設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)三大優(yōu)勢: 雙模式自適應(yīng)檢測 通過軟件切換刀口 / 狹縫模式,分析 < 20μm 極小光斑形態(tài)或 10mm 大光斑能量分布,全量程無盲區(qū)。 高功率直接測量 狹縫物理衰減機(jī)制允許單次通過狹縫區(qū)域光,無需外置衰減片即可安全測量近 10W 高功率激光。 超分辨率成像 基于狹縫掃描原理實(shí)現(xiàn) 0.1μm 分辨率,完整捕捉亞微米級光斑細(xì)節(jié),避免能量分布特征丟失。 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動輪,通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸功率數(shù)據(jù),經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等 20 + 參數(shù)。緊湊模塊化設(shè)計(jì)適配多場景安裝,通過 CE/FCC 認(rèn)證,適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域,助力客戶提升光束質(zhì)量檢測精度與效率。工業(yè)光斑檢測儀如何選?維度光電;光斑位置光斑分析儀有哪些型號
國產(chǎn)光斑分析儀廠家有哪些?維度光電深耕18年。狹縫光斑分析儀操作
Dimension-Labs 維度光電相機(jī)式與狹縫式光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場景的光斑尺寸、功率等級、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度。相機(jī)式基于面陣傳感器成像,可測大10mm 光斑(受限于 sensor 尺寸),小光斑為 55μm(10 倍 5.5μm 像元),結(jié)合 6 片衰減片(BeamHere 標(biāo)配)實(shí)現(xiàn) 1W 功率測量,適合大光斑、脈沖激光(觸發(fā)模式同步捕獲單脈沖)及非高斯光束(如貝塞爾光束)檢測,通過面陣實(shí)時(shí)反饋保留復(fù)雜形態(tài)細(xì)節(jié)。狹縫式采用正交狹縫掃描,刀口模式可測小 2.5μm 光斑,創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制允許直接測量近 10W 高功率激光,適合亞微米光斑、高功率及高斯光斑檢測,但需嚴(yán)格匹配掃描頻率與激光重頻以避免脈沖丟失,且復(fù)雜光斑會因狹縫累加導(dǎo)致能量分布失真。維度光電 BeamHere 系列提供雙技術(shù)方案,用戶可根據(jù)光斑尺寸(亞微米選狹縫,大光斑選相機(jī))、功率等級(高功率選狹縫,微瓦級選相機(jī))及光斑類型(復(fù)雜形態(tài)選相機(jī),高斯光斑選狹縫)靈活選擇,實(shí)現(xiàn)光斑檢測全場景覆蓋。狹縫光斑分析儀操作