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近場光斑光斑分析儀

來源: 發(fā)布時間:2025-04-17

維度光電Dimension-Labs BeamHere 系列作為全光譜光束分析解決方案,致力于為激光技術(shù)應(yīng)用提供 "一站式" 質(zhì)量管控工具。產(chǎn)品矩陣覆蓋 190-2700nm 超寬光譜,融合掃描狹縫式(2.5μm-10mm 光斑)與相機式(400-1700nm 成像)兩大技術(shù)平臺,形成從亞微米級高功率檢測到毫米級動態(tài)監(jiān)測的立體覆蓋。通過 ISO 11146 認證的 M2 因子測試模塊,結(jié)合 AI 算法,實現(xiàn)光束質(zhì)量的量化評估與預(yù)測。模塊化設(shè)計支持設(shè)備功能動態(tài)擴展,適配激光加工、醫(yī)療、科研等多場景需求,助力客戶構(gòu)建智能化光束檢測體系。光束質(zhì)量分析儀推薦?維度光電 M2 因子測量模塊;近場光斑光斑分析儀

光斑分析儀

Dimension-Labs 推出的相機式光斑分析儀系列包含兩個型號,覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,實現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實時顯示與分析。其優(yōu)勢如下: 寬光譜覆蓋與動態(tài)分析 單臺設(shè)備即可滿足 400-1700nm 全波段測量需求,支持 2D 光斑實時成像與 3D 功率分布動態(tài)分析。高幀率連續(xù)測量模式下,可實時捕捉光斑變化并生成任意視角的 3D 視圖,為光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試、動態(tài)測試及時間監(jiān)控提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復(fù)雜光斑適應(yīng)性 基于面陣傳感器的成像原理,可測量非高斯分布光束(如平頂、貝塞爾光束)及含高階橫模的復(fù)雜光斑,突破傳統(tǒng)掃描式設(shè)備的局限性。 功率調(diào)節(jié)系統(tǒng) 標配 6 片不同衰減率的濾光片,通過獨特的轉(zhuǎn)輪結(jié)構(gòu)實現(xiàn)功率范圍擴展,可測功率提升 100 倍。一鍵切換濾光片設(shè)計簡化操作流程,兼顧寬量程與高精度需求。 科研級功能拓展 采用模塊化可拆卸設(shè)計,光斑分析相機與濾光片轉(zhuǎn)輪可分離使用。拆卸后的相機兼容通用驅(qū)動軟件,支持科研成像、光譜分析等擴展應(yīng)用,實現(xiàn)工業(yè)檢測與實驗室的一機多用。國產(chǎn)化光斑分析儀費用是多少光斑分析儀應(yīng)該怎么選?

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BeamHere 分析軟件作為組件,支持多設(shè)備協(xié)同工作:掃描數(shù)據(jù)自動校準、光斑模式智能識別、M2 因子三維重建。通過機器學(xué)習(xí)算法,可自動補償環(huán)境光干擾與溫度漂移。通過可視化界面,用戶可實時查看光斑能量分布云圖、發(fā)散角變化曲線及束腰位置動態(tài)圖,支持多參數(shù)聯(lián)動分析。軟件內(nèi)置模板庫,一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標準化報告,支持 PDF/Excel/XML 多格式導(dǎo)出,并支持數(shù)據(jù)追溯與批量處理,歷史數(shù)據(jù)可自動關(guān)聯(lián)測試條件,縮短測試周期。企業(yè)版支持用戶權(quán)限分級管理與數(shù)據(jù)加密。

使用 BeamHere 光斑分析儀測量光斑與光束質(zhì)量的流程 1. 成像原理 BeamHere 采用背照式 CMOS 傳感器,量子效率達 95%(500-1000nm),配合非球面透鏡組實現(xiàn)無畸變成像。 2. 信號處理 采集到的模擬信號經(jīng) 16 位 ADC 轉(zhuǎn)換,通過數(shù)字濾波算法消除噪聲,確保弱光信號(SNR>40dB)還原。 3. 參數(shù)計算 光斑尺寸:基于高斯擬合與閾值分割法 M2 因子:采用 ISO 11146-1:2005 標準的二階矩法 發(fā)散角:通過不同位置光斑尺寸計算斜率 4. 校準流程 內(nèi)置波長校準模塊(400-1700nm),每年需用標準光源進行增益校準,確保測量精度 ±1.5%。 5. 數(shù)據(jù)安全 測量數(shù)據(jù)自動加密存儲于本地數(shù)據(jù)庫,支持云端備份,符合 GDPR 數(shù)據(jù)保護法規(guī)。高功率激光光束質(zhì)量怎么測?

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Dimension-Labs 通過三大創(chuàng)新重構(gòu)光斑分析標準:狹縫 - 刀口雙模式切換技術(shù),突破傳統(tǒng)設(shè)備量程限制,切換時間小于 50ms;高動態(tài)范圍傳感器,實現(xiàn) 200-2600nm 全光譜響應(yīng),量子效率達 85%; AI 驅(qū)動的光斑模式識別算法,率達 99.7%,可區(qū)分高斯、平頂、環(huán)形等 12 種光斑類型。全系產(chǎn)品支持 M2 因子在線測試,測量重復(fù)性達 ±0.5%,結(jié)合工業(yè)級防護設(shè)計,可在 - 40℃至 85℃環(huán)境下穩(wěn)定工作,通過 IP65 防塵防水認證,滿足嚴苛場景需求。產(chǎn)品已通過 CE、FCC、RoHS 三重國際認證。M2因子測量模塊,兼顧光斑與光束質(zhì)量一站式測試。光斑位置光斑分析儀優(yōu)勢

激光光斑的光斑尺寸、形狀、強度分布、M2因子、空間位置與穩(wěn)定性測試。近場光斑光斑分析儀

維度光電-光斑分析儀的使用 科研場景 將 BeamHere 安裝在飛秒激光實驗平臺,使用觸發(fā)模式同步采集單脈沖光斑。 通過軟件 "時間序列分析" 功能,觀察脈沖序列中光斑形態(tài)變化。 調(diào)用 "光束質(zhì)量評估" 模塊,計算啁啾脈沖的 M2 因子演變曲線。 在 "用戶自定義" 界面添加波長、脈寬等實驗參數(shù),生成帶批注的報告。 工業(yè)場景 在激光切割設(shè)備光路中插入 BeamHere,選擇 "在線監(jiān)測" 模式。 實時顯示光斑橢圓率、能量分布均勻性等參數(shù)。 當(dāng)檢測到光斑漂移超過閾值時,軟件自動觸發(fā)警報并記錄異常數(shù)據(jù)。 每日生成生產(chǎn)質(zhì)量報表,統(tǒng)計良品率與設(shè)備穩(wěn)定性趨勢。近場光斑光斑分析儀

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