Dimension-Labs 突破性推出 Beamhere 智能光斑分析平臺(tái)，通過模塊化設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量全參數(shù)檢測(cè)。該系統(tǒng)采用高靈敏度傳感器陣列，可實(shí)時(shí)測(cè)繪光斑能量分布，同步計(jì)算發(fā)散角及 M2 因子等指標(biāo)。針對(duì)光束整形、聚焦優(yōu)化等場(chǎng)景，系統(tǒng)提供專業(yè)分析模板，支持 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)參數(shù)輸出。可選配的 M2 測(cè)試模塊通過滑軌式掃描技術(shù)，實(shí)現(xiàn)光束傳播特性的三維重建，終由 AI 算法自動(dòng)生成包含能量集中度、橢圓率等 20 + 參數(shù)的測(cè)試報(bào)告。 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)： 滿足測(cè)試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測(cè)試模塊 精心設(shè)計(jì)的分析軟件。 軟件真正做到交互友好，簡(jiǎn)單易用，一鍵輸出測(cè)試報(bào)告。掃描和狹縫光斑分析儀怎么選？大靶面光斑分析儀

維度光電Dimension-Labs BeamHere 系列作為全光譜光束分析解決方案，致力于為激光技術(shù)應(yīng)用提供 "一站式" 質(zhì)量管控工具。產(chǎn)品矩陣覆蓋 190-2700nm 超寬光譜，融合掃描狹縫式（2.5μm-10mm 光斑）與相機(jī)式（400-1700nm 成像）兩大技術(shù)平臺(tái)，形成從亞微米級(jí)高功率檢測(cè)到毫米級(jí)動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)的立體覆蓋。通過 ISO 11146 認(rèn)證的 M2 因子測(cè)試模塊，結(jié)合 AI 算法，實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量的量化評(píng)估與預(yù)測(cè)。模塊化設(shè)計(jì)支持設(shè)備功能動(dòng)態(tài)擴(kuò)展，適配激光加工、醫(yī)療、科研等多場(chǎng)景需求，助力客戶構(gòu)建智能化光束檢測(cè)體系。無(wú)干涉光斑分析儀怎么用國(guó)產(chǎn)的 M2 因子測(cè)量模塊哪家強(qiáng)？

維度光電針對(duì)當(dāng)前市場(chǎng)上的諸多行業(yè)痛點(diǎn)，隆重推出了光斑分析儀系列產(chǎn)品。在國(guó)內(nèi)激光光束質(zhì)量分析領(lǐng)域，長(zhǎng)期以來存在著一個(gè)的問題，那就是缺乏能夠提供多樣化型號(hào)及定制化解決方案的光斑分析儀品牌。許多企業(yè)長(zhǎng)期受限于國(guó)外設(shè)備的長(zhǎng)周期交付和難以定制的缺陷，這不僅影響了生產(chǎn)效率，還增加了企業(yè)的運(yùn)營(yíng)成本。 針對(duì)這一問題，維度光電決定立項(xiàng)光斑分析儀系列產(chǎn)品，旨在解決這一行業(yè)難題。我們深知，只有通過自主和創(chuàng)新，才能打破國(guó)外設(shè)備的壟斷局面，為國(guó)內(nèi)企業(yè)提供更加高效、便捷的光束質(zhì)量分析解決方案。因此，我們致力于打造國(guó)內(nèi)專業(yè)、多面的光束質(zhì)量分析儀品牌，以滿足不同企業(yè)的需求。 我們的光斑分析儀系列產(chǎn)品不僅具備多樣化的型號(hào)，還能夠根據(jù)客戶的實(shí)際需求進(jìn)行定制化設(shè)計(jì)。無(wú)論是激光加工、激光醫(yī)療、激光科研還是其他相關(guān)領(lǐng)域，我們的產(chǎn)品都能提供、高效的光束質(zhì)量分析服務(wù)。我們相信，通過我們的努力，能夠?yàn)閲?guó)內(nèi)激光行業(yè)的發(fā)展注入新的活力，推動(dòng)整個(gè)行業(yè)的進(jìn)步。

維度光電-光斑分析儀的使用 科研場(chǎng)景 將 BeamHere 安裝在飛秒激光實(shí)驗(yàn)平臺(tái)，使用觸發(fā)模式同步采集單脈沖光斑。 通過軟件 "時(shí)間序列分析" 功能，觀察脈沖序列中光斑形態(tài)變化。 調(diào)用 "光束質(zhì)量評(píng)估" 模塊，計(jì)算啁啾脈沖的 M2 因子演變曲線。 在 "用戶自定義" 界面添加波長(zhǎng)、脈寬等實(shí)驗(yàn)參數(shù)，生成帶批注的報(bào)告。 工業(yè)場(chǎng)景 在激光切割設(shè)備光路中插入 BeamHere，選擇 "在線監(jiān)測(cè)" 模式。 實(shí)時(shí)顯示光斑橢圓率、能量分布均勻性等參數(shù)。 當(dāng)檢測(cè)到光斑漂移超過閾值時(shí)，軟件自動(dòng)觸發(fā)警報(bào)并記錄異常數(shù)據(jù)。 每日生成生產(chǎn)質(zhì)量報(bào)表，統(tǒng)計(jì)良品率與設(shè)備穩(wěn)定性趨勢(shì)。M2因子測(cè)量模塊，兼顧光斑與光束質(zhì)量一站式測(cè)試。

Dimension-Labs 光斑分析儀系列采用差異化設(shè)計(jì)：掃描狹縫式側(cè)重高功率場(chǎng)景（千萬(wàn)級(jí)功率），通過物理衰減機(jī)制實(shí)現(xiàn)安全測(cè)量，衰減級(jí)數(shù)達(dá) 10?:1，無(wú)需外置衰減片；相機(jī)式則主打?qū)捁庾V（200-2600nm）與實(shí)時(shí)成像功能，支持 100fps 高速連拍。相較于傳統(tǒng)設(shè)備，其 0.1μm 分辨率提升 10 倍以上，可解析直徑小于 5μm 的亞微米級(jí)光斑；M2 測(cè)試模塊支持光束傳播特性動(dòng)態(tài)分析，通過滑軌式掃描獲取 100 + 測(cè)量點(diǎn)數(shù)據(jù)。軟件集成 AI 算法，可自動(dòng)識(shí)別光斑模式，率達(dá) 99.7%，將人工分析效率提升 90%，單組數(shù)據(jù)處理時(shí)間從 20 分鐘縮短至 2 分鐘。M2 因子測(cè)量模塊怎么選？維度光電 M2 因子測(cè)量模塊，搭配光斑分析儀，測(cè)量激光光束質(zhì)量。近場(chǎng)光斑光斑分析儀網(wǎng)站

如何利用光斑分析儀和 M2 因子測(cè)量模塊評(píng)估激光質(zhì)量？大靶面光斑分析儀

維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列提供高性價(jià)比光束質(zhì)量檢測(cè)解決方案，涵蓋掃描狹縫式、相機(jī)式及 M2 測(cè)試模塊三大產(chǎn)品線： 掃描狹縫式光斑分析儀采用國(guó)內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù)，支持 190-2700nm 寬光譜范圍，可測(cè)量 2.5μm-10mm 光束直徑，0.1μm 超高分辨率實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié)捕捉。創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制使其無(wú)需外置衰減片即可直接測(cè)量近 10W 高功率激光，適用于激光加工等高能量場(chǎng)景。 相機(jī)式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段，支持 2D/3D 實(shí)時(shí)成像與動(dòng)態(tài)分析，可測(cè)量非高斯光束（如平頂、貝塞爾光束）。獨(dú)特的六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展，可拆卸結(jié)構(gòu)支持科研成像功能拓展。 M2 測(cè)試模塊適配全系產(chǎn)品，通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法測(cè)量光束傳播參數(shù)（M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等），結(jié)合 BeamHere 軟件實(shí)現(xiàn)一鍵生成報(bào)告、多參數(shù)同步分析。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等領(lǐng)域的光斑檢測(cè)需求，兼顧實(shí)驗(yàn)室與產(chǎn)線在線監(jiān)測(cè)場(chǎng)景。大靶面光斑分析儀