本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑，來改善磷酸的浸潤性和表面張力，使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術：氮化硅是一種具有很高的化學穩(wěn)定性的絕緣材料，氫氟酸和熱磷酸能對氮化硅進行緩慢地腐蝕。在半導體制造工藝中，一般是采用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻，一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來蝕刻氮化硅。但隨著半導體制程的飛速發(fā)展，器件的特征尺寸越來越小，集成度越來越高，對制造工藝中的各工藝節(jié)點要求也越來越高，如蝕刻工藝中對蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求。在使用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻時，晶圓表面會出現不均勻的現象，體現于在蝕刻前后進行相同位置取點的厚度測量時，檢測點之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問題，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實現氮化硅層的均勻蝕刻。技術實現要素：本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液。本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，所述蝕刻液的組成包括：占蝕刻液總重量≥88％的磷酸、％的醇醚類、％的表面活性劑。進一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液。專業(yè)BOE蝕刻液由蘇州博洋化學股份有限公司提供。什么是BOE蝕刻液按需定制

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    然后將裝有蝕刻液的石英燒瓶放入加熱套中加熱，待加熱到確定溫度后，放入氮化硅樣片進行蝕刻；蝕刻完后，取出樣片采用熱超純水清洗和氮氣吹干后，使用橢圓偏振光譜儀對蝕刻前所取位置的6個點的厚度進行測量，計算蝕刻前后6個取點的厚度差值，對比6個點之間的厚度差值的差異。與現有的使用磷酸作為蝕刻液相比，本發(fā)明的有益效果是：醇醚類和表面活性劑的添加能明顯改善磷酸溶液的浸潤性和降低磷酸溶液的表面張力，有效提高了蝕刻液對氮化硅層的潤濕性和蝕刻均勻性。具體實施方式下面結合具體實施例，進一步闡述本發(fā)明，對本發(fā)明做進一步詳細的說明，但不限于這些實施例。本發(fā)明的蝕刻液配制時選擇的磷酸濃度為85％，蝕刻溫度為160℃，蝕刻時間為10min。先對所配制蝕刻液的表面張力進行檢測，然后將氮化硅樣片使用超純水清洗和氮氣吹干后，進行接觸角的測量；蝕刻前使用超純水清洗和氮氣吹干氮化硅樣片后，在氮化硅樣片上取6個不同位置的點對其厚度進行測量；蝕刻完成后使用熱超純水清洗和氮氣吹干氮化硅樣片后，取與蝕刻前相同位置的6個點進行厚度測量。實施例1本發(fā)明的實施例按蝕刻液總質量為400g進行配制，先稱取濃度為85％的磷酸，然后稱取添加劑加入磷酸中。什么制程中需要使用BOE蝕刻液。

    所述九氟丁基烷基醚主要由九氟正丁基烷基醚和九氟異丁基烷基醚組成。5.權利要求14中任一項的組合物，特征在于，所述組合物是共沸的或共沸型的。6.權利要求5的組合物，特征在于，所述組合物包含515重量％的甲基四氫呋喃和8595重量％的九氟丁基甲基醚。7.共沸組合物，其包含8重量％的甲基四氫呋喃和92重量％的九氟丁基甲基醚，并且在大氣壓()下具有°C的沸點。8.權利要求5的組合物，特征在于，所述組合物包含1040重量％的甲基四氫呋喃和6090重量％的九氟丁基乙基醚。9.共沸組合物，其包含％的甲基四氫呋喃和％的九氟丁基乙基醚，并且在大氣壓()下具有°C的沸點。10.制冷劑，特征在于，其包含前述權利要求中任一項的組合物。11.溶劑，特征在于，其包含權利要求19中任一項的組合物。全文摘要本發(fā)明涉及含有全氟丁基醚的共沸或共沸型混合物或組合物。更具體地說，本發(fā)明涉及含有至少一種九氟丁基烷基醚和可生物降解化合物的組合物，該組合物可用作溶劑或制冷劑。博洋 BOE 蝕刻液有妙招，個性化解決方案為您排憂解難。浙江一種BOE蝕刻液供應商

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