光刻設(shè)備對(duì)溫濕度的要求也極高，光源發(fā)出的光線需經(jīng)過(guò)一系列復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)聚焦到硅片表面特定區(qū)域，以實(shí)現(xiàn)對(duì)光刻膠的曝光，將設(shè)計(jì)好的電路圖案印制上去。當(dāng)環(huán)境溫度出現(xiàn)極其微小的波動(dòng)，哪怕只是零點(diǎn)幾攝氏度的變化，光刻機(jī)內(nèi)部的精密光學(xué)元件就會(huì)因熱脹冷縮特性而產(chǎn)生細(xì)微的尺寸改變。這些光學(xué)元件包括鏡片、反射鏡等，它們的微小位移或形狀變化，會(huì)使得光路發(fā)生偏差。原本校準(zhǔn)、聚焦于硅片特定坐標(biāo)的光線，就可能因?yàn)楣饴返母淖兌x預(yù)定的曝光位置，出現(xiàn)曝光位置的漂移。在生物制藥研發(fā)中，該設(shè)備能高效調(diào)控環(huán)境，助力藥物成分穩(wěn)定，保障實(shí)驗(yàn)結(jié)果可靠。北京細(xì)胞恒溫恒濕

對(duì)于光學(xué)儀器，溫度哪怕有細(xì)微變化，都會(huì)引發(fā)諸多問(wèn)題。由于大多數(shù)光學(xué)儀器采用了玻璃鏡片、金屬鏡筒等不同材質(zhì)的部件，這些材料熱膨脹系數(shù)各異。當(dāng)溫度升高時(shí)，鏡片會(huì)膨脹，鏡筒等支撐結(jié)構(gòu)也會(huì)發(fā)生相應(yīng)變化，若膨脹程度不一致，就會(huì)使鏡片在鏡筒內(nèi)的位置精度受到影響，光路隨之發(fā)生偏差。例如在顯微鏡觀察中，原本清晰聚焦的樣本圖像會(huì)突然變得模糊，科研人員無(wú)法準(zhǔn)確獲取樣本細(xì)節(jié)，影響實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。對(duì)于望遠(yuǎn)鏡而言，溫度波動(dòng)導(dǎo)致的光路變化，會(huì)讓觀測(cè)天體時(shí)的成像偏離理想位置，錯(cuò)過(guò)重要天文現(xiàn)象的記錄。芯片光刻恒溫恒濕潔凈房針對(duì)高精密儀器使用區(qū)域，提供穩(wěn)定環(huán)境，延長(zhǎng)儀器設(shè)備的使用壽命。

我司憑借深厚的技術(shù)積累，自主研發(fā)出高精密控溫技術(shù)，精度高達(dá) 0.1% 的控制輸出。溫度波動(dòng)值可實(shí)現(xiàn)±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等精密環(huán)境控制。該系統(tǒng)潔凈度可實(shí)現(xiàn)百級(jí)、十級(jí)、一級(jí)。關(guān)鍵區(qū)域 ±5mK（靜態(tài)）的溫度穩(wěn)定性，以及均勻性小于 16mK/m 的內(nèi)部溫度規(guī)格，為諸如芯片研發(fā)這類(lèi)對(duì)溫度極度敏感的項(xiàng)目，打造了近乎完美的溫場(chǎng)環(huán)境，保障實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)不受溫度干擾。同時(shí)，設(shè)備內(nèi)部濕度穩(wěn)定性可達(dá)±0.5%@8h，壓力穩(wěn)定性可達(dá)+/-3Pa，長(zhǎng)達(dá) 144h 的連續(xù)穩(wěn)定工作更是讓長(zhǎng)時(shí)間實(shí)驗(yàn)和制造無(wú)后顧之憂。在潔凈度方面，實(shí)現(xiàn)百級(jí)以上潔凈度控制，工作區(qū)潔凈度優(yōu)于 ISO class3，確保實(shí)驗(yàn)結(jié)果的準(zhǔn)確性與可靠性，也保障了精密儀器的正常工作和使用壽命。

在 3D 打印行業(yè)蓬勃發(fā)展的當(dāng)下，溫濕度成為左右打印質(zhì)量的關(guān)鍵因素。在打印過(guò)程中，一旦環(huán)境溫度出現(xiàn)較大幅度的波動(dòng)，用于成型的光敏樹(shù)脂或熱熔性材料便會(huì)受到直接沖擊。材料的固化速率、流動(dòng)性不再穩(wěn)定，這會(huì)直接反映在打印模型上，導(dǎo)致模型出現(xiàn)層紋，嚴(yán)重時(shí)發(fā)生變形，甚至產(chǎn)生開(kāi)裂等嚴(yán)重缺陷。而當(dāng)濕度偏高，材料極易吸濕。在打印過(guò)程中，這些吸收的水分轉(zhuǎn)化為氣泡，悄然隱匿于模型內(nèi)部或浮現(xiàn)于表面，極大地破壞模型的結(jié)構(gòu)完整性，使其表面質(zhì)量大打折扣，影響 3D 打印產(chǎn)品在工業(yè)設(shè)計(jì)、醫(yī)療模型等諸多領(lǐng)域的實(shí)際應(yīng)用。針對(duì)設(shè)備運(yùn)維，系統(tǒng)實(shí)時(shí)同步記錄運(yùn)行、故障狀態(tài)，快速查詢回溯，定位問(wèn)題根源。

在芯片這一高科技產(chǎn)品的復(fù)雜生產(chǎn)流程里，眾多環(huán)節(jié)對(duì)溫濕度的波動(dòng)展現(xiàn)出了近乎苛刻的精密度要求。光刻過(guò)程中，利用高精度的光刻設(shè)備，將預(yù)先設(shè)計(jì)好的復(fù)雜電路圖案轉(zhuǎn)移至硅片表面。溫度的穩(wěn)定性起著決定性作用，哪怕有零點(diǎn)幾攝氏度的微小波動(dòng)，都會(huì)使光刻膠內(nèi)部的化學(xué)反應(yīng)速率產(chǎn)生偏差。光刻膠作為一種對(duì)光敏感的高分子材料，其反應(yīng)速率的改變將直接作用于光刻成像效果，致使圖案邊緣模糊、線條粗細(xì)不均，進(jìn)而讓芯片上的線路出現(xiàn)偏差，甚至引發(fā)短路故障，讓前期投入的大量人力、物力和時(shí)間付諸東流。與此同時(shí)，濕度因素同樣不可小覷。光刻車(chē)間若濕度偏高，水汽極易滲透至光刻膠內(nèi)部，使其含水量上升，感光度隨之降低，如同給精密的 “光刻鏡頭” 蒙上一層霧靄，嚴(yán)重影響光刻精度，導(dǎo)致芯片良品率大打折扣，大幅增加生產(chǎn)成本。該設(shè)備內(nèi)部通過(guò)風(fēng)機(jī)引導(dǎo)氣流以一定的方向循環(huán)，控制系統(tǒng)對(duì)每個(gè)環(huán)節(jié)進(jìn)行處理，使柜內(nèi)溫濕度達(dá)到超高精度。北京細(xì)胞恒溫恒濕

如果您的設(shè)備需在特定溫濕度、潔凈度實(shí)驗(yàn)室運(yùn)行，精密環(huán)控柜產(chǎn)品可以助您打造高精密環(huán)境空間。北京細(xì)胞恒溫恒濕

在航天器電子元器件的制造和裝配過(guò)程中，精密環(huán)控柜的作用同樣關(guān)鍵。電子元器件對(duì)靜電、潔凈度以及溫濕度都十分敏感。靜電可能會(huì)擊穿電子元件，導(dǎo)致其損壞；而不合適的溫濕度條件會(huì)影響電子元件的性能和可靠性。精密環(huán)控柜通過(guò)配備高效的靜電消除裝置以及精確的溫濕度控制系統(tǒng)，為電子元器件的生產(chǎn)提供了一個(gè)穩(wěn)定、潔凈且無(wú)靜電干擾的環(huán)境。這不僅保證了電子元器件在制造過(guò)程中的質(zhì)量，也提高了其在航天器復(fù)雜空間環(huán)境下的穩(wěn)定性和可靠性，為我國(guó)航空航天事業(yè)的蓬勃發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。北京細(xì)胞恒溫恒濕