光學(xué)平臺平面度，對于隔振性能，沒有任何影響，甚至若為了追求高平面度，往往會去除掉光學(xué)平臺的隔振性能，原因如下：我們知道，光學(xué)平臺臺面，若為達(dá)到高平面度，通常需要反復(fù)磨削，在加工過程中，多次磨削容易使材料產(chǎn)生形變，為了減少形變，通常要加厚臺面，但我們通過振動恢復(fù)時間的說明已經(jīng)知道，臺面加厚質(zhì)量增加，平臺的振動恢復(fù)時間往往成倍（甚至幾倍）增加，在很多精密光學(xué)實驗中，這是不可接受的；光學(xué)平臺的磨削是有極限的，這個加工的極限一般是在±0.01mm/600mm×600mm左右，換算成平方米大約為：±0.03mm/m2，但這個平面度，同大理石平臺的平面度相差甚遠(yuǎn)。光學(xué)平臺相對運動產(chǎn)生于桌面上搭建的設(shè)備、空氣調(diào)節(jié)(HVAC)系統(tǒng)以及其他聲音來源。遼寧儀器架光學(xué)平臺位移

當(dāng)今科學(xué)界的科學(xué)實驗需要越來越精密的計算和測量，因此一個能與外界環(huán)境和干擾相對隔離的設(shè)備儀器對實驗的結(jié)果測量時非常重要的。能夠固定各種光學(xué)元件以及顯微鏡成像設(shè)備等的光學(xué)平臺也成為科研實驗中必備的產(chǎn)品。光學(xué)平臺很主要的一個目標(biāo)是消除平臺上任意兩個以上部件之間的相對位移。優(yōu)良的光學(xué)平臺不僅需要高精度的機器設(shè)備來加工，更需要有高科技精度的檢測手段與檢測儀器來保證，也只有優(yōu)良的光學(xué)平臺才能保證高精度的科學(xué)實驗、科學(xué)研究的正常進(jìn)行。浙江氣浮隔振光學(xué)平臺哪家好光學(xué)平臺基本組件包括：1、頂板；2、底板；3、側(cè)面精加工貼臉；4、側(cè)板；5、蜂窩芯；6、密封杯等。

光學(xué)平臺的隔振性能取決于臺面本身和支架的隔振性能，總體上說，光學(xué)平臺的隔振，通過三個方面來實現(xiàn)：隔振支架：通常來說，氣浮式隔振支架性能優(yōu)于阻尼式隔振支架，部分性能優(yōu)異的隔振支架可以將外界振動（常見10～200Hz）減少一至兩個數(shù)量級臺面物理性能：要求臺面有一定的剛性而且較輕（硬重比），這樣的臺面可以有效減少共振時的振幅，這一點在后面闡述臺面內(nèi)部結(jié)構(gòu)：臺面的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，除了負(fù)責(zé)減輕支架未能消除的外界振動外對于降低或消除因臺面上的沖擊和相對運動引起的振動，起到至關(guān)重要的作用

光學(xué)平臺又稱光學(xué)面包板、光學(xué)桌面、科學(xué)桌面、實驗平臺，供水平、穩(wěn)定的臺面，一般平臺都需要進(jìn)行隔振等措施，保證其不受外界因素干擾，使科學(xué)實驗正常進(jìn)行及儀器不受振動影響性能。目前來說，有主動與被動兩大類。而被動又有橡膠與氣浮兩大類。光學(xué)平臺使用時注意事項：1、請勿用酸性液體清洗本產(chǎn)品,以免破壞產(chǎn)品表面質(zhì)量。2、請勿將本產(chǎn)品放置在高溫、潮濕及很強度振源處。3、請勿用水沖洗本產(chǎn)品。4、本產(chǎn)品長時間處于一種狀態(tài)下,請用水平儀調(diào)整臺面水平。5、工作臺面上擱置的任何設(shè)備或工具,都必須小心輕放,盡量不要相對磨擦,以避免損傷工作臺面,降低使用精度。6、工作臺面安裝孔,是用于固定設(shè)備的M6螺孔,使用時避免用力過大,影響工作臺精度。光學(xué)平臺的平面度，通常是指單位面積內(nèi)，被測實際表面相對其理想平面的變動量。

自動化加工過程:自動化加工系統(tǒng)平臺和面包板的特殊之處是采用自動軌道機械啞光表面加工，比老舊的平臺產(chǎn)品更加平滑、平整。這些平臺經(jīng)過改善的表面拋光處理后，表面平整度在1平方米（11平方英尺）內(nèi)可達(dá)±0.1毫米（±0.004英寸），為安裝部件提供了接觸表面，不需要使用磨具對頂面進(jìn)行打磨。大半徑角：平臺和面包板設(shè)計還可以采用大半徑圓角，這樣能減少實驗室中的尖銳邊緣，提高安全性。支撐架：光學(xué)平臺包括剛性、無隔振支撐架，被動式隔振支撐架，主動式自動調(diào)平支撐架。光學(xué)平臺的隔振性能取決于臺面本身和支架的隔振性能。浙江氣浮隔振光學(xué)平臺哪家好

光學(xué)平臺平面度，對于隔振性能，沒有任何影響，甚至若為了追求高平面度，往往會掉光學(xué)平臺的隔振性能。遼寧儀器架光學(xué)平臺位移

需要注意的是，光學(xué)平臺盡管提供了相對穩(wěn)定的環(huán)境，但不能完全阻止來自桌面本身的振動，從而影響桌面上的其他設(shè)備。光學(xué)元件的形變是系統(tǒng)不穩(wěn)定的第二大來源。即使將光學(xué)平臺視作剛體，該剛體的固有振動依然會觸發(fā)光學(xué)調(diào)整架的自然振動，導(dǎo)致光路不穩(wěn)定。為了定量模擬光學(xué)調(diào)整架在典型實驗室環(huán)境中可能產(chǎn)生的位移，我們將1英寸調(diào)整架固定于6英寸鏡柱上，并在光學(xué)平臺表面模擬類似于桌面上的風(fēng)扇、電動位移臺或其他聲學(xué)擾動的寬帶噪聲。遼寧儀器架光學(xué)平臺位移