高介電材料鈦酸鍶鋇化學(xué)機(jī)械拋光用的納米拋光液:一種用于半導(dǎo)體器件中高介電常數(shù)介電材料鈦酸鍶鋇(BaxSr1-xTiO3,BST)化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)的納米拋光液。該CMP納米拋光液包含有納米研磨料、螯合劑、pH調(diào)節(jié)劑、表面活性劑、消泡劑、殺菌劑及溶劑等。該拋光液損傷少、易清洗、不腐蝕設(shè)備、不污染環(huán)境,主要用于新一代高密度存儲(chǔ)器(DRAM)電容器介電材料及CMOS場(chǎng)效應(yīng)管的柵介質(zhì)——高介電常數(shù)介電材料鈦酸鍶鋇的全局平坦化。利用上述納米拋光液采用化學(xué)機(jī)械拋光方法平坦化高介電常數(shù)介電材料鈦酸鍶鋇,拋光后表面的粗糙度降至0.8nm以下,拋光速率達(dá)200～300nm/min;拋光后表面全局平坦度高,損傷較少,是制備超高密度動(dòng)態(tài)存儲(chǔ)器(DRAM)及CMOS場(chǎng)效應(yīng)管時(shí)高介電材料平坦化的一***拋光液。本公司銷(xiāo)售的氧化鋁拋光液低VOC配方，使用過(guò)程避免粉塵產(chǎn)生，關(guān)注環(huán)保和人體健康安全?。山東中性拋光液

在化學(xué)機(jī)械拋光中運(yùn)用的氧化鋁磨料，常選用硬度大、性能安穩(wěn)、不溶于水、不溶于酸堿的納米α-Al2O3。作為化學(xué)機(jī)械拋光磨料，氧化鋁顆粒的巨細(xì)、形狀、粒度散布都影響拋光效果。在LED行業(yè)，CMP拋光液中常選用粒徑50～200nm、粒徑散布均勻的納米α-Al2O3。近年來(lái)對(duì)α-Al2O3磨料顆粒的研討主要會(huì)集在納米級(jí)球形顆粒的制備上。常見(jiàn)制備辦法有以下幾種。固相法。其間的硫酸鋁銨熱解法、改進(jìn)拜爾法、法等是比較老練的制備辦法。固相法制備超細(xì)粉體的流程簡(jiǎn)單，無(wú)需溶劑，產(chǎn)率較高，但生成的粉體易發(fā)作聚會(huì)，且粒度不易操控，難以得到散布均勻的小粒徑的高質(zhì)量納米粉體。北京拋光液非結(jié)晶***拋光液具有弱堿性，經(jīng)過(guò)拋光方法與外表形成反應(yīng)層，柔軟的***去除反應(yīng)層，可得到高質(zhì)量的外表。

    研磨拋光液是不同于固結(jié)磨具，涂附磨具的另一類(lèi)“磨具”，磨料在分散劑中均勻、游離分布。研磨拋光液可分為研磨液和拋光液。一般研磨液用于粗磨，拋光液用于精密磨削。拋光液通常用于研磨液的下道工序，行業(yè)中也把拋光液稱(chēng)為研磨液或把研磨液稱(chēng)為拋光液的。研磨拋光液分類(lèi)編輯研磨液按其作用機(jī)理分：機(jī)械作用研磨液，化學(xué)機(jī)械作用研磨液。機(jī)械作用的研磨液：以金剛石、B4C等為磨料，通過(guò)添加分散劑等方式分散到液體介質(zhì)中，從而形成具有磨削作用的液體，稱(chēng)為金剛石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游離分布，利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理，實(shí)現(xiàn)工件的研磨、減薄。根據(jù)磨料的表面、顆粒大小及研磨液配置、研磨設(shè)備穩(wěn)定性等情況，研磨完成后，工件表面容易留下或大或小的劃痕。所以，機(jī)械作用的研磨液一般用于粗磨，后續(xù)還需要精密研磨拋光。

    化學(xué)機(jī)械作用研磨液：化學(xué)機(jī)械作用研磨液利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來(lái)進(jìn)行拋光以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的拋光表面，是機(jī)械削磨和化學(xué)腐蝕的組合技術(shù)，它借助超微粒子的研磨作用和化學(xué)腐蝕作用在被研磨的介質(zhì)表面形成光潔平坦表面。所以化學(xué)機(jī)械作用研磨液又稱(chēng)為化學(xué)機(jī)械拋光液(ChemicalMechanicalPolishing,簡(jiǎn)稱(chēng)CMP)。在一定壓力及拋光漿料存在下，被拋光工件相對(duì)于拋光墊作相對(duì)運(yùn)動(dòng)，借助于納米粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用之間的有機(jī)結(jié)合，在被研磨的工件表面形成光潔表面?；瘜W(xué)機(jī)械拋光液（CMP）根據(jù)磨料不同的分類(lèi)：二氧化硅研磨液，氧化鈰研磨液，氧化鋁研磨液等。金剛石研磨液根據(jù)磨料不同的分類(lèi)：金剛石研磨液是由金剛石磨料與分散液組成，根據(jù)金剛石微粉的類(lèi)型分為單晶金剛石研磨液、多晶金剛石研磨液和爆轟納米金剛石研磨液三種。 本公司銷(xiāo)售的氧化硅拋光液高純度(Cu2+含量小于50?ppb)，有效減小對(duì)電子類(lèi)產(chǎn)品的沾污。

    金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液和納米金剛石拋光液）、氧化硅拋光液（即CMP拋光液）、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液和碳化硅拋光液等幾類(lèi)。拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，具有良好的去油污，防銹，清洗和增光性能，并能使金屬制品超過(guò)原有的光澤。本產(chǎn)品性能穩(wěn)定、***，對(duì)環(huán)境無(wú)污染等作用，光液使用方法：包括棘輪扳手、開(kāi)口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺絲刀等，鉛錫合金、鋅合金等金屬產(chǎn)品經(jīng)過(guò)研磨以后，再使用拋光劑配合振動(dòng)研磨光飾機(jī)，滾桶式研磨光式機(jī)進(jìn)行拋光；1拋光劑投放量為（根據(jù)不同產(chǎn)品的大小，光飾機(jī)的大小和各公司的產(chǎn)品光亮度要求進(jìn)行適當(dāng)配置），2：拋光時(shí)間：根據(jù)產(chǎn)品的狀態(tài)來(lái)定。3、拋光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。CMP拋光液中常選用粒徑50～200 nm、粒徑散布均勻的納米α-Al2O3。杭州中性拋光液規(guī)格

氧化硅拋光液用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光。山東中性拋光液

化學(xué)機(jī)械拋光液 

1、化學(xué)機(jī)械拋光液概念  化學(xué)機(jī)械拋光液是在利用化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)對(duì)半導(dǎo)體材料進(jìn)行加工過(guò)程中的一種研磨液體，由于拋光液是CMP的關(guān)鍵要素之一，它的性能直接影響拋 光后表面的質(zhì)量，因此它也成為半導(dǎo)體制造中的重要的、必不缺少的輔助材料。  

2、化學(xué)機(jī)械拋光液的組成  化學(xué)機(jī)械拋光液的組成一般包括一般由超細(xì)固體粒子研磨劑（如納米SiO2、Al2O3粒子等）、表面活性劑、穩(wěn)定劑、氧化劑等。固體粒子提供研磨作用,化學(xué)氧化劑提供腐蝕溶解作用，由于SiO2粒子去除率比較高,得到的表面質(zhì)量比較好，因此在硅片拋光加工中主要采用SiO2拋光液，  

3、化學(xué)機(jī)械拋光液的分類(lèi)  拋光工藝中有粗拋光和精拋光之分，故有粗拋光液和精拋光液品種之分。  

4、CMP過(guò)程中對(duì)拋光液性能的要求  拋光液的濃度、磨粒的種類(lèi)、大小、形狀及濃度、拋光液的粘度、pH值、流速、流動(dòng)途徑對(duì)去除速度都有影響。 山東中性拋光液

蘇州豪麥瑞材料科技有限公司坐落在蘇州市工業(yè)園區(qū)唯華路3號(hào)君地商務(wù)廣場(chǎng)5棟602室，是一家專(zhuān)業(yè)的蘇州豪麥瑞材料科技有限公司（Homray Material Company）成立于2014年，是由一群在半導(dǎo)體行業(yè)從業(yè)多年的專(zhuān)業(yè)團(tuán)隊(duì)所組成，專(zhuān)注于半導(dǎo)體技術(shù)和資源的發(fā)展與整合，現(xiàn)以進(jìn)口碳化硅晶圓，供應(yīng)切割、研磨及拋光等相關(guān)制程的材料與加工設(shè)備，氧化鋁研磨球，氧化鋯研磨球，陶瓷研磨球，陶瓷精加工，拋光液。公司。一批專(zhuān)業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)，是實(shí)現(xiàn)企業(yè)戰(zhàn)略目標(biāo)的基礎(chǔ)，是企業(yè)持續(xù)發(fā)展的動(dòng)力。公司以誠(chéng)信為本，業(yè)務(wù)領(lǐng)域涵蓋陶瓷研磨球，碳化硅，陶瓷精加工，拋光液，我們本著對(duì)客戶負(fù)責(zé)，對(duì)員工負(fù)責(zé)，更是對(duì)公司發(fā)展負(fù)責(zé)的態(tài)度，爭(zhēng)取做到讓每位客戶滿意。公司深耕陶瓷研磨球，碳化硅，陶瓷精加工，拋光液，正積蓄著更大的能量，向更廣闊的空間、更寬泛的領(lǐng)域拓展。