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納米級拋光液制備方法:本發(fā)明屬于研磨料技術(shù)領(lǐng)域,由納米級金剛石粉、非離子型分散穩(wěn)定劑、抗靜電劑、凈洗劑、和C9以下輕質(zhì)白油或石腦油組成,其制備方法為將納米金剛石機械研磨成粉體,烘干;加入分散穩(wěn)定劑,加熱混合使粉體潤濕;加入白油或石腦油,抗靜電劑,凈洗劑,以及適量pH值調(diào)節(jié)劑,并不斷攪拌,將混合物分散成懸浮液。本發(fā)明將產(chǎn)品的表面拋光質(zhì)量提高到亞納米量級,以適應(yīng)于計算機磁頭、光學(xué)器件和陶瓷等高精度表面研磨和拋光之用。本公司銷售的納米拋光液應(yīng)用范圍:催化劑、催化載體、分析試劑。湖北硅拋光液介紹
氧化鋁拋光液是由多種化工溶液配制而成的溶液,它在拋光工藝中有重要的地位。
合理選擇拋光液,能使加工出來的工件表面光亮美觀,色澤鮮艷,光亮奪目,還可以防止工件的銹蝕,保持與提高工件表面的光澤,起到清潔工件與磨具的作用。去除油污,軟化工件表面以加速磨消,減少磨具對工件的沖擊,改善工件條件。它具有***,無腐蝕,不易變質(zhì)等性能。
拋光液的種類很多,應(yīng)根據(jù)加工條件來選擇。在光整效率,工作的研磨質(zhì)量,拋光的光潔度等方面。拋光液都顯示出其獨特的效果。
湖北國產(chǎn)拋光液價格查詢氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級CeO2為磨料,具有分散性好、粒度細(xì)、粒度分布均勻、硬度適中等特點。
在化學(xué)機械拋光中運用的氧化鋁磨料,常選用硬度大、性能安穩(wěn)、不溶于水、不溶于酸堿的納米α-Al2O3。作為化學(xué)機械拋光磨料,氧化鋁顆粒的巨細(xì)、形狀、粒度散布都影響拋光效果。在LED行業(yè),CMP拋光液中常選用粒徑50~200nm、粒徑散布均勻的納米α-Al2O3。近年來對α-Al2O3磨料顆粒的研討主要會集在納米級球形顆粒的制備上。常見制備辦法有以下幾種。固相法。其間的硫酸鋁銨熱解法、改進(jìn)拜爾法、法等是比較老練的制備辦法。固相法制備超細(xì)粉體的流程簡單,無需溶劑,產(chǎn)率較高,但生成的粉體易發(fā)作聚會,且粒度不易操控,難以得到散布均勻的小粒徑的高質(zhì)量納米粉體。
市面常見拋光液 硅材料拋光液、藍(lán)寶石拋光液、砷化鎵拋光液、鈮酸鋰拋光液、鍺拋光液、集成電路多次銅布線拋光液、集成電路阻擋層拋光液、研磨拋光液、電解拋光液、不銹鋼電化學(xué)拋光液,不銹鋼拋光液、石材**納米拋光液、氧化鋁拋光液、銅化學(xué)拋光液、鋁合金拋光液、鏡面拋光液、銅拋光液、玻璃研磨液、藍(lán)寶石研磨液、酸性拋光液、鋁材拋光液、金剛石拋光液、鉆石拋光液、單晶體鉆石研磨液、拋光膏 拋光液的分類和應(yīng)用 拋光液的主要產(chǎn)品可以按主要成分的不同分為以下幾大類:金剛石拋光液(多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液和納米金剛石拋光液)、氧化硅拋光液(即CMP拋光液)、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液和碳化硅拋光液等幾類。氧化硅拋光液用于多種材料納米級的高平坦化拋光。
鋁合金拋光液 鋁材鏡面拋光液是在三酸拋光基礎(chǔ)上發(fā)展起來的,是三酸拋光的換代產(chǎn)品。它保留了工序簡單,能形成反光鏡面等三酸拋光的諸多優(yōu)點,同時,也克服流痕、黃等致命弱點,是一項難得的技術(shù)突破,特點如下:
1、可任意滴流,滴干為止。由于三酸拋光槽液允許滴流的時間不能超過30秒,大量拋光液(400-600kg/T)被帶進(jìn)水洗槽,造成巨大的槽液損失,還需700-800公斤片堿處理廢水!此外,如此短的滴流時間,稍不留心鋁合金表面就會有流痕,造成廢品,使三酸拋光成品率不足70%。本品添加緩蝕劑使流痕問題得到徹底解決。
2、無黃溢出,硝酸的分解被有效***,拋光亮度穩(wěn)定。
3、自動***拋光灰,提高拋光質(zhì)量。
4、特殊方法濃縮槽液,含水量降低,亮度大幅提高。 本公司銷售的氧化鋁拋光液運用拋光過程中的化學(xué)新作用,提高拋光速度,改善拋光表面的質(zhì)量。深圳拋光液價格查詢
納米 拋光液能達(dá)到超精密的拋光效果,分散穩(wěn)定性,長時間不沉淀,不團(tuán)聚。湖北硅拋光液介紹
高介電材料鈦酸鍶鋇化學(xué)機械拋光用的納米拋光液:一種用于半導(dǎo)體器件中高介電常數(shù)介電材料鈦酸鍶鋇(BaxSr1-xTiO3,BST)化學(xué)機械拋光(CMP)的納米拋光液。該CMP納米拋光液包含有納米研磨料、螯合劑、pH調(diào)節(jié)劑、表面活性劑、消泡劑、殺菌劑及溶劑等。該拋光液損傷少、易清洗、不腐蝕設(shè)備、不污染環(huán)境,主要用于新一代高密度存儲器(DRAM)電容器介電材料及CMOS場效應(yīng)管的柵介質(zhì)——高介電常數(shù)介電材料鈦酸鍶鋇的全局平坦化。利用上述納米拋光液采用化學(xué)機械拋光方法平坦化高介電常數(shù)介電材料鈦酸鍶鋇,拋光后表面的粗糙度降至0.8nm以下,拋光速率達(dá)200~300nm/min;拋光后表面全局平坦度高,損傷較少,是制備超高密度動態(tài)存儲器(DRAM)及CMOS場效應(yīng)管時高介電材料平坦化的一***拋光液。湖北硅拋光液介紹
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