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湖北負(fù)性光刻膠工廠

來源： 發(fā)布時(shí)間：2025-06-04

主要優(yōu)勢(shì)：細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同

 技術(shù)積累與自主化能力
公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，實(shí)現(xiàn)了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系，分辨率達(dá)3μm，適用于MEMS傳感器、光學(xué)器件等領(lǐng)域，填補(bǔ)了國內(nèi)空白。
技術(shù)壁壘：掌握光刻膠主要原材料（如樹脂、光酸）的合成技術(shù)，部分原材料純度達(dá)PPT級(jí)，金屬離子含量低于0.1ppb，良率超99%。

 產(chǎn)品多元化與技術(shù)化布局
產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠、半導(dǎo)體錫膏等，形成“光刻膠+配套材料”的完整體系。例如：

? LCD光刻膠：適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術(shù)，與京東方、TCL華星合作開發(fā)高分辨率產(chǎn)品，良率提升至98%。

? 半導(dǎo)體錫膏：供應(yīng)華為、OPPO等企業(yè)，年采購量超200噸，用于5G手機(jī)主板封裝。
技術(shù)化延伸：計(jì)劃2025年啟動(dòng)半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā)，目標(biāo)進(jìn)入中芯國際、長江存儲(chǔ)供應(yīng)鏈。

 質(zhì)量控制與生產(chǎn)能力
通過ISO9001:2008質(zhì)量體系認(rèn)證，生產(chǎn)環(huán)境執(zhí)行8S管理，原材料采用美、德、日進(jìn)口高質(zhì)量材料。擁有全自動(dòng)化生產(chǎn)線，年產(chǎn)能達(dá)2000噸（光刻膠及配套材料），支持大規(guī)模訂單交付。

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湖北負(fù)性光刻膠工廠,光刻膠

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢(shì)，適用于不同領(lǐng)域。

厚板光刻膠 JT - 3001：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好。符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年，適用于對(duì)光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場(chǎng)景，如一些特殊的電路板制造。

SU - 3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對(duì)比度良好，曝光靈敏度高，光源適應(yīng)。重量為 100g，常用于對(duì)曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。

液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格，具有優(yōu)異的分辨率，準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好。主要應(yīng)用于液晶平板顯示器的制造，能滿足其對(duì)光刻膠高精度和穩(wěn)定性的需求。

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠：耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿，耐高溫達(dá) 250°C，長期可靠性高，粘接強(qiáng)度高。重量 100g，適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝，如一些半導(dǎo)體器件的制造。 湖北高溫光刻膠廠家光刻膠國產(chǎn)替代的主要難點(diǎn)有哪些？

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“設(shè)備-材料-工藝”閉環(huán)驗(yàn)證
吉田半導(dǎo)體與中芯國際、華虹半導(dǎo)體等晶圓廠建立了聯(lián)合研發(fā)機(jī)制，針對(duì)28nm及以上成熟制程開發(fā)專門使用光刻膠，例如其KrF光刻膠已通過中芯國際北京廠的產(chǎn)線驗(yàn)證，良率達(dá)95%以上。此外，公司參與國家重大專項(xiàng)（如02專項(xiàng)），與中科院微電子所合作開發(fā)EUV光刻膠基礎(chǔ)材料，雖未實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，但在酸擴(kuò)散控制和靈敏度優(yōu)化方面取得階段性突破。

政策支持與成本優(yōu)勢(shì)
作為廣東省專精特新企業(yè)，吉田半導(dǎo)體享受稅收優(yōu)惠（如15%企業(yè)所得稅）和研發(fā)補(bǔ)貼（2023年獲得國家補(bǔ)助超2000萬元），比較明顯降低產(chǎn)品研發(fā)成本。同時(shí)，其本地化生產(chǎn)（東莞松山湖基地）可將物流成本壓縮至進(jìn)口產(chǎn)品的1/3，并實(shí)現(xiàn)48小時(shí)緊急訂單響應(yīng)，這對(duì)中小客戶具有吸引力。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢(shì)，適用于不同領(lǐng)域。

厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年。需保存在干燥區(qū)域并密封，使用前要閱讀參考技術(shù)資料。適用于厚板的光刻加工，在對(duì)精度、感光度和抗蝕刻要求高的生產(chǎn)場(chǎng)景中發(fā)揮作用，如特定的電路板制造領(lǐng)域。

水油光刻膠 SR - 3303：適用于光學(xué)儀器、太陽能電池等領(lǐng)域的光刻工藝。品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點(diǎn)，由工廠研發(fā)且支持定制，工廠直銷。 半導(dǎo)體光刻膠：技術(shù)領(lǐng)域取得里程碑。

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光刻膠（Photoresist）是一種對(duì)光敏感的高分子材料，主要用于光刻工藝中，通過光化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移，是半導(dǎo)體、集成電路（IC）、印刷電路板（PCB）、液晶顯示（LCD）等制造領(lǐng)域的材料之一。

光刻膠特性與組成

? 光敏性：在特定波長（如紫外光、極紫外光EUV等）照射下，會(huì)發(fā)生化學(xué)結(jié)構(gòu)變化（如交聯(lián)或分解），從而改變?cè)陲@影液中的溶解性。

? 主要成分：

? 樹脂（成膜劑）：形成基礎(chǔ)膜層，決定光刻膠的機(jī)械和化學(xué)性能。

? 光敏劑：吸收光能并引發(fā)化學(xué)反應(yīng)（如光分解、光交聯(lián)）。

? 溶劑：調(diào)節(jié)粘度，便于涂覆成膜。

? 添加劑：改善性能（如感光度、分辨率、對(duì)比度等）。
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應(yīng)用場(chǎng)景

 半導(dǎo)體集成電路（IC）制造：

? 邏輯芯片（CPU/GPU）：在28nm以下制程中，正性DUV/EUV膠用于晶體管、互連布線的精細(xì)圖案化（如10nm節(jié)點(diǎn)線寬只有100nm）。

? 存儲(chǔ)芯片（DRAM/NAND）：3D堆疊結(jié)構(gòu)中，正性膠用于層間接觸孔（Contact）和柵極（Gate）的高深寬比圖形（深寬比＞10:1）。

 平板顯示（LCD/OLED）：

? 彩色濾光片（CF）：制作黑矩陣（BM）和彩色層（R/G/B），要求高透光率和邊緣銳利度（線寬5-10μm）。

? OLED電極：在柔性基板上形成微米級(jí)透明電極，需低應(yīng)力膠膜防止基板彎曲變形。

 印刷電路板（PCB）：

? 高密度互連（HDI）：用于細(xì)線路（線寬/線距≤50μm），如智能手機(jī)主板，相比負(fù)性膠，正性膠可實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的線路邊緣。

 微納加工與科研：

? MEMS傳感器：制作微米級(jí)懸臂梁、齒輪等結(jié)構(gòu)，需耐干法蝕刻的正性膠（如含硅樹脂膠）。

? 納米光刻：電子束光刻膠（正性為主）用于研發(fā)級(jí)納米圖案（分辨率＜10nm）。
湖北負(fù)性光刻膠工廠

標(biāo)簽： 光刻膠 錫片 錫膏