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吉林厚膜光刻膠報(bào)價

來源: 發(fā)布時間:2025-06-13
制版光刻膠應(yīng)用場景:印刷電路板(FPC)、觸摸屏(TP)的掩膜版制作,以及光學(xué)元件(如衍射光柵)的微納加工。特點(diǎn):高分辨率與耐化學(xué)性,確保模板的長期使用壽命。

水性光刻膠(JT-1200)應(yīng)用場景:環(huán)保要求高的電子元件(如醫(yī)療設(shè)備、汽車電子)的制造,以及柔性電路的生產(chǎn)。特點(diǎn):以水為溶劑,低 VOC 排放,符合 RoHS 和 REACH 環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。

水油兩用光刻膠(JT-2001/SR-3308)適用于混合工藝場景(如部分環(huán)節(jié)需水性顯影,部分需溶劑顯影),提升生產(chǎn)靈活性。 半導(dǎo)體材料選吉田,歐盟認(rèn)證,支持定制化解決方案!吉林厚膜光刻膠報(bào)價

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 晶圓制造(前道工藝)

? 功能:在硅片表面形成高精度電路圖形,是光刻工藝的主要材料。

? 細(xì)分場景:

? 邏輯/存儲芯片:用于28nm及以上成熟制程的KrF光刻膠(分辨率0.25-1μm)、14nm以下先進(jìn)制程的ArF浸沒式光刻膠(分辨率≤45nm),以及極紫外(EUV)光刻膠(目標(biāo)7nm以下,研發(fā)中)。

? 功率半導(dǎo)體(如IGBT):使用厚膜光刻膠(膜厚5-50μm),滿足深溝槽刻蝕需求。

? MEMS傳感器:通過高深寬比光刻膠(如SU-8)實(shí)現(xiàn)微米級結(jié)構(gòu)(如加速度計(jì)、陀螺儀的懸臂梁)。

 芯片封裝(后道工藝)

? 先進(jìn)封裝技術(shù):

? Flip Chip(倒裝芯片):用光刻膠形成凸點(diǎn)(Bump)下的 Redistribution Layer(RDL),線寬精度要求≤10μm。

? 2.5D/3D封裝:在硅通孔(TSV)工藝中,光刻膠用于定義通孔開口(直徑5-50μm)。

安徽低溫光刻膠廠家吉田半導(dǎo)體實(shí)現(xiàn)光刻膠技術(shù)突破,為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供材料支撐。

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  1. 產(chǎn)品特點(diǎn):耐溶劑型優(yōu)良,抗潮耐水性好,耐印率高;固含量高,流平性好,涂布性能優(yōu)良;經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,網(wǎng)版平滑、無白點(diǎn)、無沙眼、亮度高;剝膜性好,網(wǎng)版可再生使用;解像性、高架橋性好,易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線條;感光度高,曝光時間短,曝光寬容度大,節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時間,提高工作效率 。
  2. 應(yīng)用范圍:適用于塑料、皮革、標(biāo)牌、印刷電路板(PCB)、廣告宣傳、玻璃、陶瓷、紡織品等產(chǎn)品的印刷。例如在塑料表面形成牢固圖案,滿足皮革制品精細(xì)印刷需求,制作各類標(biāo)牌保證圖案清晰,用于 PCB 制造滿足高精度要求等。

作為東莞松山湖的企業(yè),吉田半導(dǎo)體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年,成功研發(fā)出 YK-300 半導(dǎo)體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠。YK-300 適用于 45nm 及以上制程,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,良率達(dá) 98% 以上,已通過中芯國際等晶圓廠驗(yàn)證;JT-2000 突破耐高溫極限,在 250℃復(fù)雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性,適用于 EUV 光刻前道工藝。依托進(jìn)口原材料與全自動化生產(chǎn)工藝,產(chǎn)品通過 ISO9001 認(rèn)證及歐盟 RoHS 標(biāo)準(zhǔn),遠(yuǎn)銷全球并與跨國企業(yè)建立長期合作,加速國產(chǎn)替代進(jìn)程。廣東光刻膠廠家哪家好?

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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢,適用于不同領(lǐng)域。

厚板光刻膠 JT - 3001:具有優(yōu)異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好。符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),保質(zhì)期 1 年,適用于對光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場景,如一些特殊的電路板制造。

SU - 3 負(fù)性光刻膠:分辨率優(yōu)異,對比度良好,曝光靈敏度高,光源適應(yīng)。重量為 100g,常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。

液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000:有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,具有優(yōu)異的分辨率,準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好。主要應(yīng)用于液晶平板顯示器的制造,能滿足其對光刻膠高精度和穩(wěn)定性的需求。

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠:耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,耐高溫達(dá) 250°C,長期可靠性高,粘接強(qiáng)度高。重量 100g,適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,如一些半導(dǎo)體器件的制造。 感光膠的工藝和應(yīng)用。南京水性光刻膠廠家

吉田技術(shù)研發(fā)與生產(chǎn)能力。吉林厚膜光刻膠報(bào)價

吉田半導(dǎo)體突破光刻膠共性難題,提升行業(yè)生產(chǎn)效率,通過優(yōu)化材料配方與工藝,吉田半導(dǎo)體解決光刻膠留膜率低、蝕刻損傷等共性問題,助力客戶降本增效。
針對傳統(tǒng)光刻膠留膜率低、蝕刻損傷嚴(yán)重等問題,吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產(chǎn)品高 8%,密集圖形側(cè)壁垂直度達(dá)標(biāo)率提升 15%。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯(lián)技術(shù),在顯影過程中減少有機(jī)溶劑對有機(jī)半導(dǎo)體的損傷,使芯片良率提升至 99.8%。這些技術(shù)突破有效降低客戶生產(chǎn)成本,推動行業(yè)生產(chǎn)效率提升。吉林厚膜光刻膠報(bào)價

標(biāo)簽: 錫片 錫膏 光刻膠